PL427185A1 - Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzących - Google Patents
Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzącychInfo
- Publication number
- PL427185A1 PL427185A1 PL427185A PL42718518A PL427185A1 PL 427185 A1 PL427185 A1 PL 427185A1 PL 427185 A PL427185 A PL 427185A PL 42718518 A PL42718518 A PL 42718518A PL 427185 A1 PL427185 A1 PL 427185A1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- copper
- bath
- salt
- chromium
- chloride
- Prior art date
Links
- 229910017813 Cu—Cr Inorganic materials 0.000 title abstract 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title abstract 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title abstract 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title abstract 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title abstract 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 abstract 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 abstract 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910021555 Chromium Chloride Inorganic materials 0.000 abstract 1
- GXDVEXJTVGRLNW-UHFFFAOYSA-N [Cr].[Cu] Chemical class [Cr].[Cu] GXDVEXJTVGRLNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 abstract 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 abstract 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 abstract 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 abstract 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Zgłoszenie dotyczy kąpieli do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr, stanowiącej wodny słabo kwaśny roztwór soli chromu III i soli miedzi II. Kąpiel charakteryzuje się tym, że zawiera sól chromu w postaci chlorku w przeliczeniu na metal 8 ÷ 12 g/dm3 i miedzi w postaci chlorku w przeliczeniu na metal 12 ÷ 15 g/dm3, stabilizator pH i sól przewodzącą w postaci chlorku amonu w ilości 80 ÷ 120 g/dm3. Zgłoszenie dotyczy również sposobu otrzymywania powłoki stopowej Cu-Cr na podłożach trudno spajalnych, polegający na jej galwanicznym osadzaniu z kąpieli stanowiących wodny roztwór soli miedzi i chromu charakteryzujący się tym, że osadzanie galwaniczne prowadzi się z kąpieli stanowiącej mieszaninę soli miedzi chromu, która zawiera sól chromu w postaci chlorku chromu III w przeliczeniu na metal 8 ÷ 12 g/dm3, sól miedzi w postaci chlorku miedzi II w przeliczeniu na metal 12 ÷ 15 g/dm3 oraz chlorek amonu jako sól przewodzącą w ilości 80 ÷ 120 g/dm3 przy użyciu metody impulsowej o zmiennej gęstości.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL427185A PL239004B1 (pl) | 2018-09-26 | 2018-09-26 | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzących |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL427185A PL239004B1 (pl) | 2018-09-26 | 2018-09-26 | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzących |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL427185A1 true PL427185A1 (pl) | 2019-07-29 |
| PL239004B1 PL239004B1 (pl) | 2021-10-25 |
Family
ID=67384436
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL427185A PL239004B1 (pl) | 2018-09-26 | 2018-09-26 | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzących |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL239004B1 (pl) |
-
2018
- 2018-09-26 PL PL427185A patent/PL239004B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL239004B1 (pl) | 2021-10-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10100423B2 (en) | Electrodeposition of chromium from trivalent chromium using modulated electric fields | |
| PT1114206E (pt) | Banho aquoso alcalino e isento de cianeto para a electrodeposicao de revestimento de zinco ou de ligas de zinco | |
| KR101624759B1 (ko) | 구리 층의 갈바닉 침착을 위한 시안화물-무함유 전해질 조성물 | |
| JP5299887B2 (ja) | ３価クロムめっき皮膜用電解処理液 | |
| TW201014935A (en) | Improved copper-tin electrolyte and process for the deposition of bronze layers | |
| EP2826890A1 (en) | Method for cathodic corrosion protection of chromium surfaces | |
| KR20200096239A (ko) | 3 가 크롬 도금액 및 이를 사용한 크롬 도금 방법 | |
| KR20180088923A (ko) | 수성 무전해 니켈-인 합금 도금 욕 및 이의 사용 방법 | |
| PL427185A1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzących | |
| PL430375A1 (pl) | Sposób otrzymywania porowatych powłok antybakteryjnych na powierzchni tytanu i jego stopów | |
| JP5584922B2 (ja) | 亜鉛又は亜鉛合金めっき上に３価クロム化成処理皮膜を形成させるための３価クロム化成処理液 | |
| MX2022007618A (es) | Ba?o de chapado compuesto de zinc-niquel-silice y metodo para chapar usando el ba?o de chapado. | |
| PL427186A1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Ni-P na trudno spajalnych podłożach przewodzących | |
| EP3152345B1 (en) | High phosphorus electroless nickel | |
| JP6218473B2 (ja) | 無電解Ｎｉ−Ｐ−Ｓｎめっき液 | |
| BR112017027592A2 (pt) | processo para deposição eletrolítica de um revestimento de zinco ou liga de zinco em um substrato metálico, substrato metálico revestido com zinco ou liga de zinco, e, uso de um aditivo de banho de galvanização com zinco | |
| JP6422658B2 (ja) | 電気めっき浴及び電気めっき方法 | |
| US2163583A (en) | Treatment of magnesium and its alloys | |
| KR101420995B1 (ko) | 플레이트 펀칭 홀의 전기아연도금방법 | |
| PL236577B1 (pl) | Sposób wytwarzania bezcyjankowej kąpieli do elektrochemicznego złocenia | |
| JP5051970B2 (ja) | ニッケル、銅又は銀を含む基体表面のための処理液、その調製方法及び表面処理方法 | |
| RU2583569C1 (ru) | Способ получения блестящих никелевых покрытий | |
| PL430374A1 (pl) | Sposób otrzymywania porowatych powłok antybakteryjnych na powierzchni tytanu i jego stopów | |
| JP6301683B2 (ja) | 電気めっき浴及び電気めっき方法 | |
| PL427572A1 (pl) | Sposób cynkowania galwanicznego stali oraz kąpiel oczyszczająco-odtłuszczająca stali |