PL243492B1 - Sposób wytwarzania kryształów na bazie CdTe o dużej średnicy - Google Patents

Sposób wytwarzania kryształów na bazie CdTe o dużej średnicy Download PDF

Info

Publication number
PL243492B1
PL243492B1 PL433156A PL43315620A PL243492B1 PL 243492 B1 PL243492 B1 PL 243492B1 PL 433156 A PL433156 A PL 433156A PL 43315620 A PL43315620 A PL 43315620A PL 243492 B1 PL243492 B1 PL 243492B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
temperature
rate
ampoule
carried out
heating
Prior art date
Application number
PL433156A
Other languages
English (en)
Other versions
PL433156A1 (pl
Inventor
Andrzej Mycielski
Dominika Kochanowska
Marta Witkowska-Baran
Original Assignee
Inst Fizyki Polskiej Akademii Nauk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inst Fizyki Polskiej Akademii Nauk filed Critical Inst Fizyki Polskiej Akademii Nauk
Priority to PL433156A priority Critical patent/PL243492B1/pl
Publication of PL433156A1 publication Critical patent/PL433156A1/pl
Publication of PL243492B1 publication Critical patent/PL243492B1/pl

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania kryształów na bazie CdTe o dużej średnicy, to znaczy o średnicy równej 3 całe lub większej i o wadze ponad 2,5 kg metodą Bridgman'a. Według sposobu, dobrze wymieszane, pierwiastki materiału wsadowego (Cd, Zn i Mg, Te, Mn) materiału wsadowego umieszcza się w ampule kwarcowej znajdującej się w poziomym piecu i prowadzi się proces termiczny. W pierwszej fazie procesu, do temperatury 350 – 380°C wzrost temperatury prowadzi się z szybkością 70 - 90°C/h, następnie zwalnia się szybkość grzania do 2 – 3°C/h. Po osiągnięciu przez ampułę temperatury 430 – 450°C, zatrzymuje się grzanie i temperaturę utrzymuje na tym poziomie przez co najmniej kilka godzin. Po tym czasie podnosi się temperaturę z szybkością ~10°C/h do temperatury 1090 - 1100°C, pionizuje się piec i prowadzi się w znany sposób dalszy proces krystalizacji.

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania kryształów na bazie CdTe o dużej średnicy, to znaczy o średnicy równej 3 cale lub większej, o wadze ponad 2,5 kg metodą Bridgmana.
Wytwarzanie metodą Bridgmana kryształów na bazie CdTe w skali laboratoryjnej, gdzie waga otrzymywanego kryształu mieści się najczęściej w zakresie 50-200 g jest dostatecznie opanowane i powtarzalne. Istotnym problemem jest wytwarzanie kryształów o średnicy równej lub przekraczającej 3 cale, ponieważ proste przeniesienie procesu krystalizacji ze skali laboratoryjnej do skali półprzemysłowej lub przemysłowej, gdzie waga kryształów wynosi 2,5-3,5 kg lub znacznie więcej, nie jest możliwe.
Dla związków II-VI na bazie CdTe wybranych z grupy CdTe, (Cd,Zn)Te, (Cd,Mn)Te, (Cd,Mg)Te otrzymywanie materiału wsadowego do dalszej krystalizacji wiąże się z przejściem przez reakcję egzotermiczną. Dla małych kryształów względnie szybkie zagrzanie (np. 20-30°C/h) do temperatury topnienia około 1090°C nie grozi eksplozją ampuły. Przy przechodzeniu jednak do skali półprzemysłowej i przemysłowej, gdzie masa rozgrzewanego materiału wynosi kilka kilogramów i więcej, problemy są znacznie poważniejsze. Wśród materiałów półprzewodnikowych z grupy AII-BVI, materiały na bazie CdTe mają mniejsze „ciepło reakcji” niż na przykład związki z siarką lub selenem. Natomiast ciepło reakcji tych materiałów w stosunku do związków na bazie rtęci (Hg) jak HgTe lub popularny dla detektorów podczerwieni (Hg,Cd)Te lub (Hg,Mn)Te jest o około 70% większe. Dla CdTe ciepło reakcji wynosi 58 kJ/mol (P. Rudolph and M. Muhlberg, Materials Sci. Eng. B16, (1993), 8-16), to znaczy 13,9 kcal/mol. Dla związków z cynkiem (Zn), manganem (Mn), a zwłaszcza z magnezem (Mg) ciepło reakcji będzie jeszcze nieco większe. Wiadomym jest, że waga 1 mola CdTe wynosi 240 g, tak więc dla syntezy z pierwiastków wsadowego materiału CdTe o wadze około 2,5 kg wydzieli się ciepło reakcji około 150 kcal, które w bardzo krótkim czasie zagrzałoby na przykład 15 litrów wody o około 10°C.
Znane i najczęściej stosowane są dwie metody przeprowadzenia krystalizacji związków półprzewodnikowych na bazie CdTe. Pierwszą jest tak zwana wysoko ciśnieniowa metoda Bridgmana (HPBM High PreasureBridgman Method). Drugą jest niskociśnieniowa metoda Bridgmana (LPBM - LowPresureBridgman Method).
W pierwszej metodzie materiał wsadowy w postaci pierwiastków (może być wielokilogramowy) i znajduje się w otwartej ampule (tyglu) przykryty lekką warstwą trójtlenku dwuboru (tlenku boru B2O3) o temperaturze topienia w okolicy 450°C (A. Zappettini, M. Zha, M. Pavesi, L. Zanotti, J. CrystalGrowth 307, (2007), 283-288). Przyłożone wysokie ciśnienie obojętnego gazu np. argonu (Ar) przeciwdziała parowaniu kadmu i utrzymuje materiał w tyglu w czasie reakcji egzotermicznej materiału dzięki przykryciu go lżejszym B2O3.
Metoda ta wymaga kosztownego i skomplikowanego układu piecowo-technologicznego a ponadto jakość uzyskanych kryształów nie jest najlepsza, ponieważ znajdują się w nim domieszki boru i tlenu wchodzące do krystalizowanego materiału z tlenku boru.
Drugą metodą jest niskociśnieniowa metoda Bridgmana (LPBM), w której krystalizacja jest przeprowadzana w odpompowanym do odpowiedniej próżni, zamkniętym kwarcowym tyglu (ampule). Metoda ta jest wprawdzie tańsza, ale technologicznie wymagająca.
Celem wynalazku jest opracowanie bezpiecznego sposobu wytwarzania w skali półprzemysłowej lub przemysłowej kryształów na bazie CdTe o średnicy równej lub przekraczającej 3 cale i wadze przekraczającej 2,5 kg za pomocą niskociśnieniowej metody Bridgmana (LPBM).
Sposób wytwarzania kryształów według wynalazku polega na tym, że dobrze wymieszane, pokrojone pierwiastki materiału wsadowego (Cd, Zn i Mg) i pokruszone pierwiastki (Te, Mn) materiału wsadowego wkłada się do ampuły kwarcowej i umieszcza się w poziomym piecu, przy czym materiał wsadowy wypełnia mniej niż 2/3 objętości ampuły. Następnie prowadzi się proces termiczny tak, że do temperatury 350-380°C wzrost temperatury prowadzi się z szybkością 70-90°C/h, następnie zwalnia się szybkość grzania do 2-3°C/h. Po osiągnięciu przez ampułę temperatury 430-450°C, zatrzymuje się grzanie i utrzymuje taką temperaturę przez co najmniej kilka godzin. Po tym czasie, podnosi się temperaturę z szybkością ~10°C/h do temperatury 1090-1100°C, pionizuje się piec i prowadzi się w znany sposób dalszy proces krystalizacji.
Otrzymany kryształ ma duże monokrystaliczne bloki i spełnia wszystkie oczekiwania.
Wynalazek zostanie bliżej objaśniony na przykładzie wytwarzania w kwarcowej ampule kryształu (Cd,Mn)Te o średnicy 3 cale i wadze 2,5 kg, niskociśnieniową metodą Bridgmana i prowadzenia syntezy materiału wsadowego podczas wytwarzania. Na rysunku pokazano wykres temperaturowy syntezy prowadzonej dla materiału wsadowego w postaci pierwiastków: Cd - 1,126 kg, Mn - 29 g, Te - 1,345 kg.
Dla bezpiecznego przeprowadzenia reakcji egzotermicznej wsadowych pierwiastków w związek półprzewodnikowy, najpierw w ampule kwarcowej o średnicy wewnętrznej 76 mm i o długości 30 cm umieszczono drobno pokrojony Cd oraz pokruszone Te i Mn w stechiometrycznych proporcjach i dobrze je wymieszano. Tak przygotowany materiał wsadowy wypełniał nieco mniej niż 2/3 objętości ampuły, istotnym jest aby tej objętości nie przekraczał. Następnie ampułę odpompowano do próżni 10-6 Tora i zamknięto. Ampułę umieszczono w piecu, w pozycji poziomej (ponieważ synteza i stopienie pierwiastków źródłowych następuje w poziomym położeniu ampuły) i prowadzono proces grzania ampuły. W początkowej fazie, grzanie prowadzono od temperatury pokojowej do temperatury 360°C z szybkością 80°C/h. Przy dochodzeniu do temperatury 360°C zwolniono szybkość grzania do 3°C/h, a po osiągnięciu przez ampułę temperatury 440°C, zatrzymano dalszy wzrost temperatury i utrzymywano taką temperaturę przez 13 godzin. W tej temperaturze przebiegła egzotermiczna reakcja pomiędzy pierwiastkami tworzącymi materiał wsadowy związku półprzewodnikowego. W drugiej fazie procesu kontynuowano grzanie z szybkością 10°C/h, aż do temperatury topienia materiału wsadowego (1090-1100°C), a proces krystalizacji w spionowanym piecu odbywał się już bez niebezpieczeństwa eksplozji ampuły. Przykładowym sposobem możemy wytwarzać również inne kryształy oparte na bazie CdTe wybranych z grupy (Cd,Zn)Te i (Cd,Mg)Te.
Najważniejszym elementem sposobu według wynalazku jest sposób grzania materiału wsadowego do temperatury około 450°C i utrzymanie go w tej temperaturze przez co najmniej kilka godzin. Jeśli w temperaturze reakcji, temperatura w piecu jest stabilna lub rośnie bardzo powoli to reakcja przebiega relatywnie powoli i ciśnienie w ampule nie zagraża całości ampuły.
Wykres przedstawiony na rysunku ilustruje przebieg temperatury opisanego, przykładowego procesu krystalizacji (Cd,Mn)Te w ampule o średnicy 3 cale. Jeśli nie cały materiał przereagował i powstały miejsca przereagowanego materiału zawierające w sobie czysty (nie przereagowany) kadm (Cd), to występuje także drugi pik temperatury dużo mniejszy w okolicy temperatury 750°C. W temperaturze około (750°C) prężność par kadmu wynosi około 1 atm, co powoduje rozerwanie otaczającego go już przereagowanego materiału i gwałtowną reakcję z dotychczas nieprzereagowanym tellurem. Ta reakcja, ze względu na małą ilość nieprzereagowanego wcześniej materiału jest wielokrotnie słabsza niż reakcja zachodząca w 440°C i nie spowoduje zniszczenia ampuły.
Prowadząc dalej proces termiczny, dochodzimy do temperatury topnienia związku (Cd,Mn)Te czyli do temperatury (1090-1100°C), w ampule panuje ciśnienie dyktowane zawartością kadmu, które jest około dziesięciokrotnie większe od tego które daje tellur. Dlatego do wsadowego materiału dodawany jest ponad stechiometrie dodatkowy tellur zwykle w ilości 30-100 mg telluru na 100 g stechiometrycznego wsadu. Nadmiar telluru sprawia, że mimo wysokiej temperatury ciśnienie w ampule jest bardzo niskie (nie przekracza 0,02 atmosfery).

Claims (1)

1. Sposób wytwarzania kryształów na bazie CdTe o dużej średnicy, metodą Bridgmana, w którym w ampule kwarcowej umieszcza się materiał wsadowy związków półprzewodnikowych wybranych z grupy Cd,Te, (Cd,Zn)Te i (Cd,Mn)Te i (Cd,Mg)Te, następnie ampułę odpompowuje się do próżni 10-6 Tora, zamyka się, podgrzewa i w temperaturze 1090-1100°C prowadzi się proces krystalizacji, znamienny tym, że dobrze wymieszane, pokrojone pierwiastki materiału wsadowego (Cd, Zn i Mg) i pokruszone pierwiastki (Te, Mn) materiału wsadowego wkłada się do ampuły kwarcowej, i umieszcza się w poziomym piecu, przy czym materiał wsadowy wypełnia mniej niż 2/3 objętości ampuły, następnie prowadzi się proces termiczny tak, że do temperatury 350-380°C wzrost temperatury prowadzi się z szybkością 70-90°C/h, następnie zwalnia się szybkość grzania do 2-3°C/h, a po osiągnięciu przez ampułę temperatury 430-450°C, zatrzymuje się grzanie i utrzymuje taką temperaturę przez co najmniej kilka godzin, po tym czasie podnosi się temperaturę z szybkością ~10°C/h do temperatury 1090-1100°C, pionizuje się piec i prowadzi się w znany sposób dalszy proces krystalizacji.
PL433156A 2020-03-05 2020-03-05 Sposób wytwarzania kryształów na bazie CdTe o dużej średnicy PL243492B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL433156A PL243492B1 (pl) 2020-03-05 2020-03-05 Sposób wytwarzania kryształów na bazie CdTe o dużej średnicy

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL433156A PL243492B1 (pl) 2020-03-05 2020-03-05 Sposób wytwarzania kryształów na bazie CdTe o dużej średnicy

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL433156A1 PL433156A1 (pl) 2021-09-06
PL243492B1 true PL243492B1 (pl) 2023-09-04

Family

ID=77662596

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL433156A PL243492B1 (pl) 2020-03-05 2020-03-05 Sposób wytwarzania kryształów na bazie CdTe o dużej średnicy

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL243492B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL433156A1 (pl) 2021-09-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Parasyuk et al. Phase diagram of the Cu2GeSe3–ZnSe system and crystal structure of the Cu2ZnGeSe4 compound
CN115698395A (zh) GaAs晶锭及GaAs晶锭的制造方法、以及GaAs晶圆
Verozubova et al. Synthesis and growth of ZnGeP2 crystals for nonlinear optical applications
US7815733B2 (en) Method for producing hexagonal boron nitride single crystal and hexagonal boron nitride single crystal
US20070227440A1 (en) Arsenic dopants for pulling of silicon single crystal, process for producing thereof and process for producing silicon single crystal using thereof
CN116145260B (zh) 系列碱土金属镁基硫属(硒属)化合物及其非线性光学晶体及其制备方法及其用途
Ivanov The growth of single crystals by the self-seeding technique
CN100408494C (zh) 大规模合成硒化锗玻璃及硒化锗玻璃化合物
Asadov et al. X-ray dosimetric characteristics of AgGaS2 single crystals grown by chemical vapor transport
Péter et al. Synthesis and crystallization of lithium-yttrium orthoborate Li6Y (BO3) 3 phase
US3494730A (en) Process for producing cadmium telluride crystal
US4185081A (en) Procedure for the synthesis of stoichiometric proportioned indium phosphide
US3933990A (en) Synthesization method of ternary chalcogenides
CN115948804B (zh) 一种Bi-O-Se-Cl四组分半导体材料的单晶生长方法
CN115536025B (zh) 系列碱土金属氧硫属(硒属)化合物及其非线性光学晶体及其制备方法及其用途
RU2762083C1 (ru) Способ получения кристаллического сцинтиллятора на основе самоактивированного редкоземельного галогенида
WO2020100330A1 (ja) 半導体材料、赤外線受光素子及び半導体材料の製造方法
CN115535972B (zh) 碱土金属锌镓锡硫属化合物及碱土金属锌镓锡硫属非线性光学晶体及其制备方法和用途
WO1985005133A1 (en) A METHOD OF SYNTHESIZING THIN, SINGLE CRYSTAL LAYERS OF SILVER THIOGALLATE (AgGaS2)
RU2812421C1 (ru) СПОСОБ СИНТЕЗА ПОЛИКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО ZnGeP2
Buchinskaya et al. Synthesis of nonstoichiometric samarium fluoride SmF2+ x
Hrubý et al. Preparation of Cd3As2 and CdAs2 crystals by transport reaction in vapour phase
RU2610058C1 (ru) Способ получения материала фазовой памяти
US3932292A (en) Process for the manufacture of doped silver halides
Sashital Growth of single crystal layers of AgGaS2 by liquid phase epitaxy using halide fluxes