PL399605A1 - Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci do czyszczenia powierzchni podlozy w komorze prózniowej przed nanoszeniem na nie w tej samej komorze powlok - Google Patents
Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci do czyszczenia powierzchni podlozy w komorze prózniowej przed nanoszeniem na nie w tej samej komorze powlokInfo
- Publication number
- PL399605A1 PL399605A1 PL399605A PL39960512A PL399605A1 PL 399605 A1 PL399605 A1 PL 399605A1 PL 399605 A PL399605 A PL 399605A PL 39960512 A PL39960512 A PL 39960512A PL 399605 A1 PL399605 A1 PL 399605A1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- chamber
- vacuum chamber
- noble gas
- substrates
- cleaning
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title abstract 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title abstract 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 abstract 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 3
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 abstract 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gęstości przeznaczonej do czyszczenia powierzchni podłoży w procesach rozpylania katodowego w komorze próżniowej przed nanoszeniem na nie w tej komorze powłok, polegający na wywołaniu w gazie szlachetnym lub mieszaninie gazów szlachetnych, wprowadzanych do komory po uprzednim usunięciu z niej powietrza, wyładowań jarzeniowych o gęstości prądu 1-20 A/m2 przy użyciu jako źródła zasilania źródła prądowego generującego przebiegi prądowe bipolarne lub unipolarne o polarności ujemnej, charakteryzuje się tym, że gaz szlachetny lub mieszaninę gazów szlachetnych podaje się do komory impulsowo, w czasie 1-280 ms, każdorazowo w ilości (0,1-1,5)x10-6 mol/dm3 komory próżniowej do zapłonu plazmy, przy częstotliwości impulsów podawania gazu szlachetnego lub mieszaniny gazów szlachetnych 1-1,7 Hz, przy ciągłym i równoczesnym usuwaniu atmosfery obróbczej dla obniżania ciśnienia i jednocześnie wywoływania zaniku plazmy.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL399605A PL218924B1 (pl) | 2012-06-21 | 2012-06-21 | Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gęstości do czyszczenia powierzchni podłoży w komorze próżniowej przed nanoszeniem na nie w tej samej komorze powłok |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL399605A PL218924B1 (pl) | 2012-06-21 | 2012-06-21 | Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gęstości do czyszczenia powierzchni podłoży w komorze próżniowej przed nanoszeniem na nie w tej samej komorze powłok |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL399605A1 true PL399605A1 (pl) | 2013-12-23 |
| PL218924B1 PL218924B1 (pl) | 2015-02-27 |
Family
ID=49767869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL399605A PL218924B1 (pl) | 2012-06-21 | 2012-06-21 | Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gęstości do czyszczenia powierzchni podłoży w komorze próżniowej przed nanoszeniem na nie w tej samej komorze powłok |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL218924B1 (pl) |
-
2012
- 2012-06-21 PL PL399605A patent/PL218924B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL218924B1 (pl) | 2015-02-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SG10201806990UA (en) | Plasma processing method and plasma processing apparatus | |
| JP2014107363A5 (pl) | ||
| CN109136871B (zh) | 一种双极脉冲磁控溅射方法 | |
| WO2013052548A3 (en) | Apparatus and method for generating nitric oxide in controlled and accurate amounts | |
| JP2014007432A5 (pl) | ||
| JP2015501371A5 (pl) | ||
| EP2618366A3 (en) | Etching method and etching apparatus | |
| IL250987B (en) | Method and device for temporal concentration of each pump to support generation of high peak power pulse bursts or other time-varying laser output waveforms | |
| EA201692138A1 (ru) | Система и способ обработки систем водоснабжения высоковольтным разрядом и озоном | |
| CN104918402A (zh) | 一种常压高压协同射频辉光射流放电的装置及其放电方法 | |
| DE502006003822D1 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen atmosphärendruck plasmabehandlung und/oder beschichtung von werkstücken | |
| CN102325552A (zh) | 针对室内空气的离子和臭氧优化饱和方法 | |
| RU2007110100A (ru) | Способ плазменной обработки поверхности изделия | |
| DE60308484D1 (de) | Verfahren zum reinigen einer materialoberfläche beschichtet mit einer organischen substanz, generator und einrichtung zur durchführung des verfahrens | |
| WO2013055141A3 (ko) | 생체용 재료의 표면개질 장치 및 표면개질 방법 | |
| MX2015000441A (es) | Metodo de recubrimiento de pulso de alta potencia. | |
| PL399605A1 (pl) | Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci do czyszczenia powierzchni podlozy w komorze prózniowej przed nanoszeniem na nie w tej samej komorze powlok | |
| GB201303809D0 (en) | Method and apparatus | |
| RU2007139182A (ru) | Способ получения углеродного наноматериала, содержащего металл | |
| ATE203354T1 (de) | Verfahren und einrichtung zur vorbehandlung von substraten | |
| JP2020061534A5 (pl) | ||
| RU2013150078A (ru) | Искровое испарение углерода | |
| EP2819150A3 (en) | Deposit removing method and gas processing apparatus | |
| RU2013118686A (ru) | Способ удаления покрытия с обрабатываемых деталей | |
| PL399606A1 (pl) | Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci przeznaczonej do nanoszenia powlok w procesach rozpylania magnetronowego |