PL399606A1 - Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci przeznaczonej do nanoszenia powlok w procesach rozpylania magnetronowego - Google Patents
Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci przeznaczonej do nanoszenia powlok w procesach rozpylania magnetronowegoInfo
- Publication number
- PL399606A1 PL399606A1 PL399606A PL39960612A PL399606A1 PL 399606 A1 PL399606 A1 PL 399606A1 PL 399606 A PL399606 A PL 399606A PL 39960612 A PL39960612 A PL 39960612A PL 399606 A1 PL399606 A1 PL 399606A1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- magnetron sputtering
- coatings
- sputtering processes
- treatment atmosphere
- chamber
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 title abstract 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gęstości przeznaczonej do nanoszenia powłok w procesach rozpylania magnetronowego w komorze próżniowej, polegający na wywołaniu w gazowej atmosferze obróbczej wprowadzonej do komory wyładowań magnetronowych o gęstości prądu 50-700 A/m2 przy użyciu źródła prądowego generującego jednokierunkowe przebiegi prądowe o polarności ujemnej, charakteryzuje się tym, że gazową atmosferę obróbczą podaje się do komory impulsowo, w czasie 3-120 ms, każdorazowo w ilości (0,1-1,2)x10-6 mol/dm3 komory próżniowej do zapłonu plazmy, przy częstotliwości impulsów podawania gazowej atmosfery obróbczej 1,3-2,4 Hz, przy ciągłym i równoczesnym jej usuwaniu dla obniżania ciśnienia i jednocześnie wywoływania zaniku plazmy.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL399606A PL229083B1 (pl) | 2012-06-21 | 2012-06-21 | Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gęstości przeznaczonej do nanoszenia powłok w procesach rozpylania magnetronowego |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL399606A PL229083B1 (pl) | 2012-06-21 | 2012-06-21 | Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gęstości przeznaczonej do nanoszenia powłok w procesach rozpylania magnetronowego |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL399606A1 true PL399606A1 (pl) | 2013-12-23 |
| PL229083B1 PL229083B1 (pl) | 2018-06-29 |
Family
ID=49767870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL399606A PL229083B1 (pl) | 2012-06-21 | 2012-06-21 | Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gęstości przeznaczonej do nanoszenia powłok w procesach rozpylania magnetronowego |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL229083B1 (pl) |
-
2012
- 2012-06-21 PL PL399606A patent/PL229083B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL229083B1 (pl) | 2018-06-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2014110446A3 (en) | Method and system for graphene formation | |
| WO2018045378A8 (en) | DEVICE FOR GENERATING FREE RADICALS AND RELATED METHODS | |
| MY181527A (en) | Superhydrophobic compositions and coating process for the internal surface of tubular structures | |
| EP2618366A3 (en) | Etching method and etching apparatus | |
| JP2014007432A5 (pl) | ||
| JP2014107363A5 (pl) | ||
| JP2013012624A5 (pl) | ||
| GB2479702A (en) | Method and apparatus of providing power to ignite and sustain a plasma in a reactive gas generator | |
| JP2014204050A5 (pl) | ||
| WO2012087737A3 (en) | Variable-density plasma processing of semiconductor substrates | |
| PL2157205T3 (pl) | Proces impulsowego rozpylania magnetronowego o dużej mocy oraz źródło energii elektrycznej o dużej mocy | |
| ATE515931T1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur erzeugung von mikrowellenplasmen hoher plasmadichte | |
| SG195296A1 (en) | Use of spectrum to synchronize rf switching with gas switching during etch | |
| MY175999A (en) | Method for producing higher silanes with improved yield | |
| JP2011198983A5 (pl) | ||
| PH12015500056A1 (en) | High-power pulse coating method | |
| PL399606A1 (pl) | Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci przeznaczonej do nanoszenia powlok w procesach rozpylania magnetronowego | |
| SG10201807085RA (en) | Etching method and etching processing apparatus | |
| GB2543989A (en) | An energy conversion system | |
| PH12015502279B1 (en) | Plasma perforation | |
| MX2016012991A (es) | Proceso y dispositivo para generar un plasma energizado mediante una energia de microondas en el campo de una resonancia ciclotronica electronica (rce) para ejecutar un tratamiento de superficie o aplicar un recubrimiento alrededor de un componente filiforme. | |
| WO2014125839A8 (ja) | 方向性電磁鋼板の窒化処理設備および窒化処理方法 | |
| PL399607A1 (pl) | Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci do czyszczenia powierzchni targetów magnetronów | |
| RU2013150078A (ru) | Искровое испарение углерода | |
| RU2009130663A (ru) | Способ переработки природного газа в жидкие углеводороды |