PL400018A1 - Sposób wytwarzania plazmy o wysokiej gestosci przeznaczonej do nanoszenia powlok w procesach rozpylania magnetronowego - Google Patents
Sposób wytwarzania plazmy o wysokiej gestosci przeznaczonej do nanoszenia powlok w procesach rozpylania magnetronowegoInfo
- Publication number
- PL400018A1 PL400018A1 PL400018A PL40001812A PL400018A1 PL 400018 A1 PL400018 A1 PL 400018A1 PL 400018 A PL400018 A PL 400018A PL 40001812 A PL40001812 A PL 40001812A PL 400018 A1 PL400018 A1 PL 400018A1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- mixture
- chamber
- noble
- gas
- producing high
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 title abstract 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 5
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 abstract 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 abstract 2
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 abstract 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 abstract 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 abstract 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Sposób wytwarzania plazmy o wysokiej gęstości przeznaczonej do nanoszenia powłok w procesach rozpylania magnetronowego w komorze próżniowej, polegający na wywołaniu wyładowań magnetronowych o gęstości prądu 50-700 A/m2 przy użyciu źródeł prądowych generujących jednokierunkowe przebiegi prądowe o polarności ujemnej w gazowej atmosferze obróbczej zawierającej gaz szlachetny, jak argon, krypton, ksenon lub ich mieszaninę oraz gaz reaktywny, jak azot lub związek alifatyczny zawierający w cząsteczce jeden lub dwa atomy węgla bądź ich mieszaninę, wprowadzonej do komory, charakteryzuje się tym, że gaz szlachetny lub mieszaninę gazów szlachetnych podaje się do komory impulsowo, przy jednoczesnym niezależnym i ciągłym podawaniu gazu reaktywnego lub mieszaniny gazów reaktywnych, utrzymując ciśnienie wewnątrz komory nie niższe niż 0,4 Pa. Gaz szlachetny lub mieszanina gazów szlachetnych wprowadzane impulsowo korzystnie zawierają domieszkę gazu reaktywnego.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL400018A PL223207B1 (pl) | 2012-07-18 | 2012-07-18 | Sposób wytwarzania plazmy o wysokiej gęstości przeznaczonej do nanoszenia powłok w procesach rozpylania magnetronowego |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL400018A PL223207B1 (pl) | 2012-07-18 | 2012-07-18 | Sposób wytwarzania plazmy o wysokiej gęstości przeznaczonej do nanoszenia powłok w procesach rozpylania magnetronowego |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL400018A1 true PL400018A1 (pl) | 2014-01-20 |
| PL223207B1 PL223207B1 (pl) | 2016-10-31 |
Family
ID=49920846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL400018A PL223207B1 (pl) | 2012-07-18 | 2012-07-18 | Sposób wytwarzania plazmy o wysokiej gęstości przeznaczonej do nanoszenia powłok w procesach rozpylania magnetronowego |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL223207B1 (pl) |
-
2012
- 2012-07-18 PL PL400018A patent/PL223207B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL223207B1 (pl) | 2016-10-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MX2015014659A (es) | Proceso y aparato para endurecer termoquimicamente piezas a trabajar. | |
| TW201614097A (en) | Improved defect control and stability of DC bias in RF plasma-based substrate processing systems using molecular reactive purge gas | |
| Schlüter et al. | Travelling-wave-sustained discharges | |
| US20220341022A1 (en) | Method and device for promoting adhesion of metallic surfaces | |
| WO2008106448A3 (en) | Ion sources and methods of operating an electromagnet of an ion source | |
| PH12015500539A1 (en) | Plasma source and methods for despositing thin film coatings using plasma enhanced chemical vapor deposition | |
| NL1033668A1 (nl) | Inrichting voor de opwekking van extreem ultraviolette straling uit een energiebundel-opgewekt plasma met een hoge conversie efficientie en minimale vervuiling. | |
| PH12014500059A1 (en) | Method for removing hard carbon layers | |
| MX2016009504A (es) | Plasma no termico. | |
| TW200507700A (en) | Apparatus and method for forming a plasma | |
| PL400018A1 (pl) | Sposób wytwarzania plazmy o wysokiej gestosci przeznaczonej do nanoszenia powlok w procesach rozpylania magnetronowego | |
| MY165291A (en) | Stripping process for hard carbon coatings | |
| Lisovskiy et al. | Current gain in unipolar pulsed discharge in low-pressure carbon dioxide | |
| EA201200696A1 (ru) | Способ получения полимерного нанокомпозиционного материала | |
| MX2018006507A (es) | Reactor para aplicacion puntual de plasma no termico a presion atmosferica. | |
| Lisovskiy et al. | Gas molecule dissociation effect on rf discharge burning in low pressure ammonia | |
| UA121079U (uk) | Спосіб комбінованої вакуумної іонно-плазмової обробки інструмента з твердого сплаву | |
| RU2016103225A (ru) | Приготовление мишени | |
| RU2007134315A (ru) | Способ нанесения покрытия с помощью импульсного лазера и объект с покрытием, нанесенным этим способом | |
| PL447872A1 (pl) | Sposób modyfikacji powierzchni stomatologicznych materiałów ceramicznych z zastosowaniem nietermicznej plazmy atmosferycznej | |
| IL304647A (en) | Plasma gas generator | |
| GB2601106B (en) | High density plasma source | |
| Yukimura et al. | Pulsed ion extraction from a hybrid plasma using a shunting arc discharge | |
| Ryabchikov et al. | Investigation of regularity of plasma formation in large volume on the basis of the hollow cathode effect using high-frequency short-pulsed voltage | |
| Li et al. | Temporally resolved OES diagnosis of an atmospheric-pressure pulse-modulated microwave induced surface-wave argon plasma |