PL429135A1 - Sposób nanoszenia metodą magnetronową na tafle powłok funkcjonalnych o zwiększonej ich grubości i tafle z powłokami funkcjonalnymi otrzymane tym sposobem - Google Patents
Sposób nanoszenia metodą magnetronową na tafle powłok funkcjonalnych o zwiększonej ich grubości i tafle z powłokami funkcjonalnymi otrzymane tym sposobemInfo
- Publication number
- PL429135A1 PL429135A1 PL429135A PL42913519A PL429135A1 PL 429135 A1 PL429135 A1 PL 429135A1 PL 429135 A PL429135 A PL 429135A PL 42913519 A PL42913519 A PL 42913519A PL 429135 A1 PL429135 A1 PL 429135A1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- cathode
- amount
- panels
- functional coatings
- increased thickness
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract 6
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract 2
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 abstract 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- HMDDXIMCDZRSNE-UHFFFAOYSA-N [C].[Si] Chemical compound [C].[Si] HMDDXIMCDZRSNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 abstract 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 abstract 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 abstract 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Przedmiotem zgłoszenia jest sposób nanoszenia metodą magnetronową na tafle powłok funkcjonalnych to jest samoczyszczących, odpornych na zarysowania lub biobójczych i o zwiększonej ich grubości, który charakteryzuje się tym, że urządzenie magnetronowe z umieszczoną w nim katodą - targetem (7) stanowiącą źródło pierwiastków metalicznych i/lub niemetalicznych wyposaża się w jonizator plazmowy (6) o mocy 10 kW zasilany napięciem 400 V o częstotliwości 50 Hz jonizujący gazy reaktywne, który ustawia się w odległości A= 40 - 60 mm od tafli i odległości B= 60 - 100 mm od tej katody, zaś w komorze próżniowej (1) wytwarza się próżnię wynoszącą od 10-3 do 10-1 Pa, przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym od 38 do 45 A, a za pomocą dyszy (11) doprowadza się pod katodę - target (7) nośny gaz typu argon w ilości 136 - 720 cm3/min, zaś za pomocą dyszy (13) doprowadza się gaz reaktywny typu tlen w ilości 544 do 720 cm3/min lub acetylen w ilości 136 cm3/min albo za pomocą dyszy (11) doprowadza się pod katodę - target (7) gaz nośno - reaktywny typu tlen w ilości 544 - 720 cm3/min i prowadzi się proces napylania jednokrotnego lub kilkukrotnego nanoszenia powłoki (5) tlenkowej lub niemetalicznej na taflę (4) w czasie jej przesuwu z prędkością wynoszącą 2,60 - 2,70 cm/min tworząc powłoki tlenkowe lub węglowe lub krzemowe lub krzemowo - węglowe na powierzchni tafli (4) o grubości w zakresie od 20 - 360 nm. Przedmiotem zgłoszenia jest także tafla z powłoką samooczyszczającą, odporną na zarysowania lub biobójczą i o zwiększonej grubości.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL429135A PL429135A1 (pl) | 2019-03-04 | 2019-03-04 | Sposób nanoszenia metodą magnetronową na tafle powłok funkcjonalnych o zwiększonej ich grubości i tafle z powłokami funkcjonalnymi otrzymane tym sposobem |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL429135A PL429135A1 (pl) | 2019-03-04 | 2019-03-04 | Sposób nanoszenia metodą magnetronową na tafle powłok funkcjonalnych o zwiększonej ich grubości i tafle z powłokami funkcjonalnymi otrzymane tym sposobem |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL429135A1 true PL429135A1 (pl) | 2020-09-07 |
Family
ID=72291451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL429135A PL429135A1 (pl) | 2019-03-04 | 2019-03-04 | Sposób nanoszenia metodą magnetronową na tafle powłok funkcjonalnych o zwiększonej ich grubości i tafle z powłokami funkcjonalnymi otrzymane tym sposobem |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL429135A1 (pl) |
-
2019
- 2019-03-04 PL PL429135A patent/PL429135A1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20230160067A1 (en) | Atmospheric cold plasma jet coating and surface treatment | |
| JP2010103455A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| US20210147972A1 (en) | Method and device for promoting adhesion of metallic surfaces | |
| JP5607760B2 (ja) | Ｃｖｄ装置及びｃｖｄ方法 | |
| MY149733A (en) | Radiation-cured coatings | |
| WO2021029333A1 (ja) | 樹脂表面親水化方法、プラズマ処理装置、積層体、および積層体の製造方法 | |
| US9401265B2 (en) | Method and device for polarizing a DBD electrode | |
| TW200630499A (en) | Wind-up type vacuum film forming device | |
| US8252388B2 (en) | Method and apparatus for high rate, uniform plasma processing of three-dimensional objects | |
| JP2001190948A (ja) | 表面をプラズマ処理する方法及び装置 | |
| CN101528369A (zh) | 用于制造净化基体或进一步处理的清洁基体的方法和装置 | |
| PL429135A1 (pl) | Sposób nanoszenia metodą magnetronową na tafle powłok funkcjonalnych o zwiększonej ich grubości i tafle z powłokami funkcjonalnymi otrzymane tym sposobem | |
| KR101192321B1 (ko) | Ｄｌｃ 코팅 방법 및 이를 위한 장치 | |
| US8721845B2 (en) | Coated article and method for making same | |
| US20150348759A1 (en) | Pair of electrodes for dbd plasma process | |
| Safari et al. | Effect of electrical discharge power on mechanical properties of N-DLC films deposited by atmospheric DBD plasma | |
| JP2014125670A (ja) | プラズマｃｖｄ法による保護膜の形成方法 | |
| CN116855915B (zh) | 一种大面积dlc镀层均匀沉积方法 | |
| DE102015115167B4 (de) | Formkörper aufweisend eine Funktionsschicht, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung | |
| CN100395371C (zh) | 微波等离子体增强弧辉渗镀涂层的装置及工艺 | |
| PL431678A1 (pl) | Sposób nanoszenia metodą magnetronową na podłoża ultracienkich powłok funkcyjnych o zwiększonej odporności fizycznej i chemicznej oraz podłoża z powłokami funkcyjnymi otrzymane tym sposobem | |
| JPS6324068A (ja) | 連続真空蒸着メツキ装置 | |
| Bugaev et al. | Deposition of highly adhesive amorphous carbon films with the use of preliminary plasma-immersion ion implantation | |
| JP2013008770A (ja) | 成膜装置での堆積物クリーニング方法 | |
| RU2008112387A (ru) | Способ осаждения аморфных углеводородных покрытий |