PL431678A1 - Sposób nanoszenia metodą magnetronową na podłoża ultracienkich powłok funkcyjnych o zwiększonej odporności fizycznej i chemicznej oraz podłoża z powłokami funkcyjnymi otrzymane tym sposobem - Google Patents

Abstract

Sposób nanoszenia metodą magnetronową na podłoża powłok funkcyjnych to jest samoczyszczących, odpornych na zarysowania, o zwiększonej odporności fizycznej i chemicznej, polegający na tym, że w urządzeniu magnetronowym, zaopatrzonym w jonizator plazmowy o mocy 10 kW zasilany napięciem 400 V o częstotliwości 50 Hz jonizujący gazy reaktywne, na zespole transportowym umieszcza się taflę po czym włącza się zasilacz i sterownik tego urządzenia, a następnie za pomocą dysz rurowych do komory próżniowej doprowadza się gaz nośny typu argon w ilości 136 - 720 cm3/min oraz gaz reaktywny typu tlen w ilości 544 do 720 cm3/min lub acetylen w ilości 136 cm3/min, bądź też gaz nośno-reaktywny typu tlen w ilości 544 - 720 cm3/min, jednocześnie w komorze próżniowej tego urządzenia wytwarza się próżnię wynoszącą od 10-3 do 10-1 Pa przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym od 38 do 45 A, a górną powierzchnię tej tafli poddaje się procesowi napylania, charakteryzuje się tym, że komora próżniowa (1) zaopatrzona jest w dwa sąsiadujące naprzemiennie pracujące targety (7), przy czym powłoki funkcyjne (5) aplikuje się naprzemiennie zgodnie z zadanym czasem cyklu włączania i wyłączania plazmy naprzemiennie pracujących targetów (7), przy czym każdy z dwóch targetów (7) może również pracować w trybie impulsowym o danej częstotliwości impulsu naprzemiennie generowanego w sposób zsynchronizowany przez oba targety (7), tak, że impulsy nie pokrywają się ze sobą.