PL 441004 A1 2/8 Trudnopalna kompoz~cj~1 powlokowa uhrnnbam.1. promieniowaniem UV i l.astm,owanie kompozycji powlokon·e.i Przedrrir•te•11 w;•nalazku jest trwinnralna kompozyc;a powiokmva utwardzana promienio\',:rn:t::n l ·v i zastosowani,• k"n~puycji powlokm.,·ci, 7-,,· 1 a:7cza na podlo11 drewniane i drewnopochodne. W praktyce przemyslowej rozpowszechnione sa gkwmie kompozycje powlokov.·c oparte na halogenowych b<1di fo-;forowych uniepalniaczach pochodzenia organicznego. W uzyciu powst;..1jd pu:cdc wszystkim zv. i.i,d,i ouµ_<.1tc w chlor i brum. :)hSu\~ane sa równilt materialy meorµankznc, takie jak tknki i v,:odorotlenki mctaii. Urtll:rnaczami palemu spotykanymi w ~kali lah<,rmoryjnej sa nal!,mw,t n1Jlcrialy weglowe. z;mJwno w postaci mikro jak i nan@1etrycznc.1 (m.in. pianki w;;::glowc. nannrurki vv;;::glowc. graten i jego tlenek). nierzadko poddawane dodatktmej funkcjonalizacji. Stosuwanit' t:zesci z wyzej ¼ymie11ionych unicpalniaczy czesto pociaga za -;obq szereg negat) v,n) eh 1Jddzialywan srodowiskowych i zdrov.otnych. Antypireny halogcnow.::- p\1 p, idgrzaniu moga :-ozkladac sie do postaci toksycznyd: Ji, ,k ·) a .1.doln~Th do hrnulov,,,ui.1 w ludzkim 0ri;.:,11i1-mi:. Zwazywszy na potencjalne til.'.i.1Lni..: muta- kanc..:1ugu11,..:. C) skusyjnc pozo„Lijl' równiez. stosowanh.: mmomalerith:n1, 1., ,:gl owych. Znane sa przyklady trudnopalnych kompozycji powlokowych utwardzan:i,ch promieniowaniem UV. \\' opisie pa1cntowym C'l I 051 J 1673 H 1 przedstawiono koncepcje utwardzanego promicniO\\,micm I 'V lakieru przcznac/nm•ep d1) ookryc podlóg, rnenL akrylanu z crok v'od0ro!lenl,.u glinu uraz fr<;f'.,r1r11 ~•:\rn kw.1su mdA:ry!owt'1,'.fl Z opi:;u patentowego US99753 ! 4 13 l znana jt:st kompozycja powlokowu utward7.ana promieniowaniem UV do pokry\','ania fornirów dr;rewnych oparta na bazie zywicy uretanowo akrylanowej unicpalnioncj przez dtJdatck km.:mionki oraz tclrabromohislcnolu A \\ opisie zgloszeni,: 1111,;uL: narodowego \\'():20 l'.W67678 ujawniono b..tlUjq..:a na os110\vi.: l'ularnego kopoli!,u.:ru ety k:nu kompozycje puwioko\'-'.l l,twardzana promi..:ni,,\\dl ,iem ! :\ ,fo nmvlckania pr;,.nvodow dcklrycznych hogata w .lmnicjszujace pal110S1,.. tknki, wodorotlenkL weglany i/lub krzemiany \\,lpni::i. glinu i magnezu badz krzemionke. PL 441004 A1 3/8 Ponadto w opisie palcntowym CN l l 0684459 B przedstawiono un:tanowo-akrylanowy. trójvvarstwow 1 syslt:,ll powk);._1,\\Y ut,\.,irt:zan) --;,,icrgi1.Jn:c pro1:1i-:niow,i11icm UV; 1 vilgocia z otoczl!nia przeznaczony Jn pokryw..1nia plyt.:k drukowanych /awierajacy uniepalniajace estry fosforanowe. Z polskiego opisu patentowego PL 22565 l B l znana jest trudnopalna kompo:tycja epoksvdown do wytwarnmi I laminatów ~:p'1ksydowo-szklanych \\,;dlug w::, nalazku zawierajuca z:ywi-.:c cpoksydo,\c. rozpu:--1..czalnik i ew..:ntualnic srodki pomocnicze, dw.rakteryzPjr sie l; m, ze n 1 1 PO cz~, ci wagow:·ch di:111owcj 7ywicy cpnkc;ydO\\~i albo j.!j mieszaniny z zywic4 cpoksynowoiakowq i/lub z zywica nowolakowa. korzystnie zawiera 5-;30 cz~~ci wago,\;• i.:h Z\\ i,uku a?,)Uwo-fosfornweg, 1 rosiad,-Ja(;ego ,,, .wej strukturze c,, najmniej JS% pi<;ciotlenku fosforu t P2O~) oraz nic mniej niz 45% a:rotu ogólnego (N). Trudnopalna komp,Jzycjti t:poksyJl,1.\ a ja~o L\\'ia7cis ,1zotov, o-fosfowwy za,, i.:ra poi i fu"foran 11:elamin) korzystni;; o srednirn wymiarze ziarna !0.c;-25 pm. glównie \V postaci izocyjanuranu melaminy. rrudnopalna kompo1\ cja cpo~s,:dowa jako Z\\ irFck azoh)Wo-fos!Oro\vy 1,nviera mkszanim; azotoorganicznyd1 substancji. których podsuwq Jest melamina lub guanidyna i ich pochodne wmz z cze n,, 1nyrn fr,sforem i 1 lub poliPlcm f,,sforowym korzv:,;tnic o :,,,1warto~ci I fr,· I 8°/4) wagowych losforu i/albo pc1liltJsforanu amoi:u i lub pentaerytrytolu. Cekm wynalmku Jcs: t p acowanic polim.:rowej k„Jmpo1ycji powiekowej utwardzanej promleni prz-:d dzial&ni..::-m otw.irlego ug11ia. Trudnopalna kom poi,) .:Ja pcm lukowa u! ward1;.11rn pr, 1mi1,;nio\v,mi\!m LV wedh1g wynalazku zawicraj:)ca \\ postaci proszku srodki uni.:palniajacc takie jak; polifosforan amonu i pentaerytrnl otrzym: wana Jl'·~t dwuclapov,'o. \\ picrn szym ctarie spor1~d/.,ana .ic~l pasta r unicpalniaczy w postaci polifosfr,ranu amonu o v.iclkosci czastek <17 }m1 w ilosci od IO do 11 'Ó wago'")· ::h. najk,irzysu,i,,·j od 20 do 23°?. ·vago\,ych ora7 rentacryisytolu n wie Ikos.ci czastek SIS ~tm w ilosci od 5 do !5% wagowych. najkorz)stnie.i od !O do 13% wagov,ych ro:,:pr0wad,:0rych w mi;:szanin1c moncmi:rów :1k:·ylowych lakich jak jednofimkcy}n~.· akrybr i;,obomylu (!BOA) i trój funkcyjny triakrylan trimctylolopropanu Cl MPTA) zmieszanych w stosunku Y..1g\Jwym I d,) 2, I \v ,losci tJ l O do 3!J% W.:lgowych, n:.ijkor1.y5'111icj oJ ~fl do 25°,,, wagowych. w mil!szaninic monomerów akrylow}ch i 50% dyspersji nanokr.1.emionki o wielkosci czastck :'.::-20 nm w aKrylarm; trimety!olopropanu (Cl l A) w iiu~ci o;J 5 do llil;u wagO'r\') eh. najkorzystniej w ilosci od 5 do 6% wagov,·ych, W drugim etapie dodawane sa po:1.mlalc c;kladniki o bej 1rnq ,1t:c ol 1p,1mery .. 1ako micsz:.mi r11.; al ifatyczncg(1 akrylanu uretam•wego w , 01.1.:ic11cz1..:11iu monofunkcyjnym akrylanem 2-PL 441004 A1 4/8 li (butyloaminoF,w bonylo})l,,sy Jet) lu L Z)'\\t~c1 polie,Ll uwa w rurcier'ic1.;11iu 35'),o niakry lam::m trimetylolopropanu (TMPTA) zmieszane \V sto<.unku wagowym I do 2, I albo akrylowany uligomcr rnodyfikuwany li1slorcm 1\ ilosci od JO do 5•J% wag<•1.vych, najkorzystniej od 3:' do 40% wagowych. fotoinicjatery jako mieszanin.;- hcnzoil(inuówczanu metylu (MBF) oraz d1mctylohvdrohvaceLofonunu (DM H \) zmieszanych ,v stosunku wago,v:, m l dn ' w ilo~ci od do IO% wagowych, naj korz) st niej od 6 do 7% wagowych ornz wprowadzane sa srodki pnmocnic,t' laki\• .iak me1nkrylowa:1y ester fo-.;forannv,y, jakn promo10r ndhe2:ii w ilosc1 c,cl I do 5% wagowych. najkorzystniej od I do 2% wagowych oraz inhibitor polimeryzacji w esm-:e k1\·asu ~kry !owei:-~C w ilosci do 2~,ió '· . .:iJowyc h. naj ko:z, ~,tniej oJ 0.3 do :).5% ,v.,g1 ,\.vych Przedmiotem wynalazku jest równic:i zastosowanie trudnopalnej kompozycji puwloh•\\..:j Ut\\,11d1..ancj p,omienio,unicm LV okr<-~l0nej 1,, 1,1~trz. I Jo powkkania p<.1lluzy drewnianych 0raz drewnopochodnych. 1'vmpoz) -:j.; pov, ld„dwa hcJaca pr 1:cdmiot1.:m "" -vm1luzk u zaw1ern mieszanine odpowiednio dobranych fotoinicjatorow zapewniajacych nalczyly stopid1 powicrzchniov, 1 ego i wi!lebncgr, Ul\\ ard:tcnia ,, zalo?i ,n:, m c:ta wlasciwosci mechaniczn)ci1 i uzytkowych powlok, KompoL;'CjJ powl,ikO\\a w:.:-dlug \''ynalazku po 1JL\\ardzt:niu jc:,t clasl) cna. jcdnoczdr:ie zachPwujac zadowalajaca twardosc i oJpornosc na nrysowanic. Posiada bardzo dobra adhe~je do pod!ozy drewnianych : drewn;Jpuchod11y..:h. zwb:,zcza do cios.mego, strugani..gt lub :1i:blowa,1t.Jc drc1;11c1 sos110'.,'ego. n,0drzew1<1wcgo : dcbmvcgo oral plyt kompozytowych typu MDF i OSB przeznncznnyi.:h na elementy kono.:;trukcvjnc. zwlaszcza V1ri9zby Jw:.:hOWL oraz pam.:[c i 01dudzi11y ~denne. ',?adto kompozyt.Ja jest przyjazna dla srodowiska. Ud;10wieJm char,ik:cr chcnrn:zny. ko:11pmyhilnosc c,rf:1 stosune-k i!o~cinwy uzy1vch skladników pozwalitjq, nu otrzymanie formuly stabilnej \IV czasie skladowa!lia, odpornej na d?ialanif· rlomienia .. W technologii utwardzania promieniami UV wykorzystywane sa materialy o ,vysokiej ;,n warto' ci czt;sci ::,,alych rr,cwa'.n ie poz'xt \\ :one lt ti:ych zv. i.11•.ków u: ganiczn:,1.h. Z u·,, agi na bezodpadowy charakter technologii. p,nvloki konstytuowane sa z maksymalna wydajnoscia JplikacjL '\tosov,anie lakiuL weJl.ig W')'tmla,::lrn ni,\dujc LJl,,.t.e nicJr,godno;;d zwiazc1n-.: z negatywnym oddzialywaniem (,pó:i.niac;ry palenia na srodm, isko i kondycje nlrowotna, Do otrzy1m:nia kt,11,pozyc_11 p1. 1wlokt•\'.:j be typowa aparature wykorzystywana w przemysle farb i lakierów tj. mlyn typu attntor oraz Laopatrzo11c w kad:i miesndlo zvbkoobwwwe o plynnei n:gulacii szybko~.::i obrotowej. PL 441004 A1 /8 Aplikm.::u lukit:rsi wi:diug w; nalad,l1 1u p0Jl1).ici Jr-:\\ rmmc i d1..:wnopod10 chropowmo-,ci nwzc wvmac.?ac d,datkoWt!I ('bróbki m..:chanicznei papier,:m sciernym o v.la:k:wej !:!radacj1 badz uzvda spe,:jalbt~ c1.ncg0 poJkladu µruntuis1c.:!go. K<,mpn7vc1:1 rowloknw.i \Vvma11a 1n,.vnrdz:uu prom1em( 1\,arnem UV. co przy ~losowani 11. lamr l 1V O m,1ev J mi \V cm odp,1windt, c:1asnw1 ekspnzyc_ii v,vnn-.z~tCL:nill Podmir-t i.vy11;1l;-i7i;u r•h_FEniono plmi?·::t: ff:i ;1r? klanami rc,!lincji nie orranio:1j;ic jego ,'akn.st:, PrzyklaJ Rod1.a_j su rnwca r I r- i ,\lifot) ..:~:d) a:-.r:, Lm Litc~aLo\\:· v. I\), c1..:11..:i.:riit. I HJo/1, monolunkc~ 1n~ rn ak,I) !anem ~ ___ :·:lli.t~ty!oamin~1~,_!_l-,9_n): l.9.JQk,I_;;,:J.:_!~b1 __ t zywica pt,li1;:s(W\\d v, rnlucnucniu ~ ~-1'')-'i~ triakr·Lm~:n, 1rimet;- !!1h1:1rn_rrmu f\1Pl·\ I ,\kn Ian 1rnborm lu IBUA [ I riakr: lanirinwt\ t<,IP~rPpanu I \tlP I 1\ f- .__,-,o• ,l . • , I · I r ! ··- - - 1 ~- ·o u:-spe1sJJ nam1J..:rLi.:ill!OIIJ\.I w akry:,111i.: _1rin1t'l~ l