PL66006Y1 - Uchwyt - Google Patents
UchwytInfo
- Publication number
- PL66006Y1 PL66006Y1 PL118864U PL11886410U PL66006Y1 PL 66006 Y1 PL66006 Y1 PL 66006Y1 PL 118864 U PL118864 U PL 118864U PL 11886410 U PL11886410 U PL 11886410U PL 66006 Y1 PL66006 Y1 PL 66006Y1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- base
- holder
- blind hole
- sample
- Prior art date
Links
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
Opis wzoru Przedmiotem wzoru u zytkowego jest uchwyt do pozycjonowania kliszy w trakcie wykonywania rentgenowskich zdjec topograficznych krystalicznych struktur epitaksjalnych. Celem tych zdjec jest zarejestrowanie obecnych w materiale defektów. Typowe wykonywanie zdjec topograficznych próbek odbywa si e tak. ze próbk e najpierw mocuje sie do stolika urz adzenia. Nast epnie, za pomoc a lampy, o swietla si e t a próbk e wi azk a promieni rent- genowskich, a odbite od p laszczyzn krystalograficznych promienie X rejestruje si e na kliszy topogra- ficznej znajduj acej si e przed detektorem. Do tego typu pomiarów wykorzystuje si e dyfraktometry. W znanym dyfraktrometrze XPert'PRO MRD PANalytical, próbka znajduje si e w odleg lo sci 16 cm od lampy i w odleg lo sci 16 cm od detektora. W tym dyfraktometrze, klisz e, na której odwzorowuje si e obraz badanej próbki umiesz- cza si e bezpo srednio na detektorze. Takie umieszczenie kliszy sprawia, ze uzyskiwane zdj ecia nie maja wystarczaj acej rozdzielczo sci, a to uniemo zliwia wyra zne odwzorowanie wyst epuj acych w prób- ce defektów i znacznie wyd luza czas na swietlania. Celem rozwi azania wed lug przedmiotowego wzoru u zytkowego jest opracowanie uchwytu mo- cuj acego klisz e rentgenowsk a podczas na swietlania badanej próbki promieniami X. Takiego uchwytu, który mo zna umie sci c w pobli zu badanej próbki i którego prosta konstrukcja pozwoli laby na szybk a wymian e klisz. Uchwyt wed lug wzoru u zytkowego ma podstaw e w kszta lcie walca, który od do lu ma nieprzelo- towy otwór, o wymiarach dopasowanych do kszta ltu otworu w dyfraktometrze. Podstawa ta po laczona jest z p laskim wysiegnikiem zaopatrzonym w górnej cz esci p laszczyzny czo lowej w prostok atn a kie- sze n rozci et a po srodku. Przy czym kiesze n ta znajduje si e nad nieprzelotowym otworem w podstawie uchwytu. Uchwyt ten dzi eki prostej konstrukcji, umo zliwia szybk a wymian e klisz, a poniewa z nie jest sta la cz escia dyfraktometru mo zna go umie sci c w pobli zu próbki, a to wyra znie poprawia rozdzielczosc uzyskiwanych zdj ec. Uchwyt wed lug wzoru u zytkowego zostanie bli zej obja sniony na rysunku. Fig. 1 rysunku poka- zuje uchwyt w przekroju wzd lu znym. Fig. 2 przekrój poprzeczny przez doln a czes c podstawy, a Fig. 3 przekrój górnej czesci wspornika z kieszeni a. Podstaw e 1 uchwytu stanowi walec, który od do lu ma nieprzelotowy otwór. Srednica podstawy wynosi 7 cm a jej wysoko sc 3 cm, wymiary i kszta lt tej podstawy s a dopasowane do otworu w dyfrak- tometrze. Nieprzelotowy otwór znajduj acy si e w spodniej cz esci podstawy ma srednic e 3 cm i g lebo- ko sc 0,4 cm. Do cz esci podstawy 1 przymocowany jest jednym ko ncem wysi egnik 2. Wysi egnik ten ma posta c p laskownika o wysoko sci 21,5 cm. Na drugim ko ncu tego wysi egnika, na jego p laszczy znie czo lowej, znajduje si e kiesze n 3, której srodkowa cz esc jest rozci eta. Kiesze n 3 znajduje si e nad t a cz escia podstawy, która zawiera nieprzelotowy otwór i skierowana jest w kierunku srednicy równole- g lej do p laszczyzny czo lowej wysi egnika. Rozci ecie w srodkowej cz esci kieszeni ma za zadanie u la- twienie na swietlania oraz wk ladania i wyjmowania kliszy topograficznej. Szeroko sc kieszeni wynosi w przybli zeniu 1 mm i jest nieco wi eksza ni z grubo sc opakowanej kliszy, któr a ze wzgl edów technicz- nych umieszcza si e w papierowej kopercie. PL PL
Claims (1)
- 2 PL 66 006 Υ1 Opis wzoru Przedmiotem wzoru użytkowego jest uchwyt do pozycjonowania kliszy w trakcie wykonywania rentgenowskich zdjęć topograficznych krystalicznych struktur epitaksjalnych. Celem tych zdjęć jest zarejestrowanie obecnych w materiale defektów. Typowe wykonywanie zdjęć topograficznych próbek odbywa się tak. że próbkę najpierw mocuje się do stolika urządzenia. Następnie, za pomocą lampy, oświetla się tą próbkę wiązką promieni rentgenowskich, a odbite od płaszczyzn krystalograficznych promienie X rejestruje się na kliszy topograficznej znajdującej się przed detektorem. Do tego typu pomiarów wykorzystuje się dyfraktometry. W znanym dyfraktrometrze XPert'PRO MRD PANalytical, próbka znajduje się w odległości 16 cm od lampy i w odległości 16 cm od detektora. W tym dyfraktometrze, kliszę, na której odwzorowuje się obraz badanej próbki umieszcza się bezpośrednio na detektorze. Takie umieszczenie kliszy sprawia, że uzyskiwane zdjęcia nie mają wystarczającej rozdzielczości, a to uniemożliwia wyraźne odwzorowanie występujących w próbce defektów i znacznie wydłuża czas naświetlania. Celem rozwiązania według przedmiotowego wzoru użytkowego jest opracowanie uchwytu mocującego kliszę rentgenowską podczas naświetlania badanej próbki promieniami X. Takiego uchwytu, który można umieścić w pobliżu badanej próbki i którego prosta konstrukcja pozwoliłaby na szybką wymianę klisz. Uchwyt według wzoru użytkowego ma podstawę w kształcie walca, który od dołu ma nieprzelotowy otwór, o wymiarach dopasowanych do kształtu otworu w dyfraktometrze. Podstawa ta połączona jest z płaskim wysięgnikiem zaopatrzonym w górnej części płaszczyzny czołowej w prostokątną kieszeń rozciętą po środku. Przy czym kieszeń ta znajduje się nad nieprzelotowym otworem w podstawie uchwytu. Uchwyt ten dzięki prostej konstrukcji, umożliwia szybką wymianę klisz, a ponieważ nie jest stałą częścią dyfraktometru można go umieścić w pobliżu próbki, a to wyraźnie poprawia rozdzielczość uzyskiwanych zdjęć. Uchwyt według wzoru użytkowego zostanie bliżej objaśniony na rysunku. Fig. 1 rysunku pokazuje uchwyt w przekroju wzdłużnym. Fig. 2 przekrój poprzeczny przez dolną część podstawy, a Fig. 3 przekrój górnej części wspornika z kieszenią. Podstawę 1 uchwytu stanowi walec, który od dołu ma nieprzelotowy otwór. Średnica podstawy wynosi 7 cm a jej wysokość 3 cm, wymiary i kształt tej podstawy są dopasowane do otworu w dyfraktometrze. Nieprzelotowy otwór znajdujący się w spodniej części podstawy ma średnicę 3 cm i głębokość 0,4 cm. Do części podstawy 1 przymocowany jest jednym końcem wysięgnik 2. Wysięgnik ten ma postać płaskownika o wysokości 21,5 cm. Na drugim końcu tego wysięgnika, na jego płaszczyźnie czołowej, znajduje się kieszeń 3, której środkowa część jest rozcięta. Kieszeń 3 znajduje się nad tą częścią podstawy, która zawiera nieprzelotowy otwór i skierowana jest w kierunku średnicy równoległej do płaszczyzny czołowej wysięgnika. Rozcięcie w środkowej części kieszeni ma za zadanie ułatwienie naświetlania oraz wkładania i wyjmowania kliszy topograficznej. Szerokość kieszeni wynosi w przybliżeniu 1 mm i jest nieco większa niż grubość opakowanej kliszy, którą ze względów technicznych umieszcza się w papierowej kopercie. Zastrzeżenie ochronne Uchwyt do pozycjonowania kliszy w trakcie wykonywania rentgenowskich zdjęć topograficznych, znamienny tym, że posiada podstawę /1/, w kształcie walca, który od dołu ma nieprzelotowy otwór o wymiarach dopasowanych do kształtu otworu w dyfraktometrze, połączoną z płaskim wysięgnikiem 121 zaopatrzonym w górnej części płaszczyzny czołowej w prostokątną kieszeń /3/ rozciętą pośrodku, przy czym kieszeń /3/ znajduje się nad nieprzelotowym otworem w podstawie /1/.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL118864U PL66006Y1 (pl) | 2010-03-19 | 2010-03-19 | Uchwyt |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL118864U PL66006Y1 (pl) | 2010-03-19 | 2010-03-19 | Uchwyt |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL118864U1 PL118864U1 (pl) | 2011-09-26 |
| PL66006Y1 true PL66006Y1 (pl) | 2012-07-31 |
Family
ID=44675304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL118864U PL66006Y1 (pl) | 2010-03-19 | 2010-03-19 | Uchwyt |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL66006Y1 (pl) |
-
2010
- 2010-03-19 PL PL118864U patent/PL66006Y1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL118864U1 (pl) | 2011-09-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2317329A (en) | Specimen holder for x-ray analyses | |
| US7092492B2 (en) | Universal radiologic patient positioning marker | |
| EP0655131A1 (en) | Passive dust sampler | |
| CN201861651U (zh) | 射野光野一致性检测系统 | |
| CN216898635U (zh) | 一种鱼类长度矫正测量装置 | |
| Parrish et al. | Instrumentation for synchrotron X-ray powder diffractometry | |
| CN108766134A (zh) | 一种自由落体运动实验器及其控制方法 | |
| CN209927058U (zh) | 一种河道淤泥深度测量装置 | |
| CN205940490U (zh) | 一种混凝土表面气泡检测装置 | |
| CN109374660A (zh) | 用于排笔光束的高通量粉末衍射的装置 | |
| CN209326696U (zh) | 一种测得固体重量、体积和密度的检测装置 | |
| CN2746387Y (zh) | X射线衍射仪测定固体块状样品用样品架 | |
| US3600575A (en) | Crystal mount and goniometer for taking laue patterns and for orientation of large single crystals | |
| CN210638693U (zh) | 一种路面坡度检测仪 | |
| DE202017000326U1 (de) | Vorrichtung zur Echtheitsprüfung von Edelmetallformkörpern nach mehreren Prüfverfahren | |
| CN208224129U (zh) | 一种乳腺标本x线摄影定位板 | |
| CN114608537A (zh) | 一种基坑支护用斜度测量装置 | |
| CN216645254U (zh) | 一种用于检测玻璃边部变形位置的装置 | |
| CN208334237U (zh) | 用于试棒射线检测的试棒定位夹具 | |
| KR100682083B1 (ko) | 방사선 투과 검사장치 | |
| KR102303816B1 (ko) | 시추코어 퇴적물의 부시료 채취장치 | |
| PL73488Y1 (pl) | Przystawka pomiarowa | |
| CN214408749U (zh) | 一种用于分析大尺寸试样组织的电子探针样品台 | |
| CN221571528U (zh) | 一种新型考种仪用铺米器 | |
| CN210749246U (zh) | 一种医用x射线半值层测量装置 |