RS20070087A

RS20070087A - Postupak i uređaj za čišćenje metalne trake

Info

Publication number: RS20070087A
Application number: RSP-2007/0087A
Authority: RS
Inventors: Matthias Kretschmer; Hans Georg Hartung
Original assignee: Sms Demag Ag.,
Priority date: 2005-02-26
Filing date: 2007-03-02
Publication date: 2009-03-25
Also published as: CA2594137A1; AR052922A1; AU2006218060A1; TW200633796A; CN101522323A; BRPI0606174A2; UA82631C2; EP1768794A1; JP2008511754A; MX2007002873A; KR20070083504A; RU2007114273A; KR100953138B1; JP5001152B2; RS51421B; DE102005008939A1; ZA200701348B; EG24690A; US20080210256A1; AU2006218060B2

Abstract

Pronalazak se odnosi na postupak za čišćenje metalne trake (1). Da bi se čišćenje trake poboljšalo prema pronalasku je predvidjeno da se metalna traka (1) najpre u prvom sektoru (2) uredjaja (3) za čišćenje podvrgne prvom čišćenju (4) pod visokim pritiskom sa najmanje jednim mlazom tečnosti i da se metalna traka (1) zatim u drugom sektoru (5) uredjaja (3) za čišćenje podvrgne ultrazvučnom čišćenju (6), pri kome se metalna traka (1) provodi kroz jedan sud u kome se nalazi tečnost. Pronalazak se, takodje, odnosi na uredjaj za čišćenje metalne trake.

Description

POSTUPAK I UREDJAJ ZA ČIŠĆENJE METALNE TRAKE

Pronalazak se odnosi na postupak za čišćenje metalne trake. Pored toga, pronalazak se odnosi na uredjaj za čišćenje metalne trake.

Bitne osobine, koje treba da ima doradjen proizvod od finog lima, su dobra obradivost u sledećim proizvodnim procesima i dugotrajno konzervisanje krajnjeg proizvoda. Te osobine bitno su odredjene funkcionalnim slojevima koji su naneti na površinu metalne trake. Spoj izmedju funkcionalnog sloja, na primer prevlake cinka, i površine čelične trake zavisi u prvom redu od adhezionih sila u graničnoj površini. Nečistoće na površini, kao na primer tragovi metala i ostaci ulja i emulzija, smanjuju sposobnost prijanjanja. Tada funkcionalni sloj ne može da ispuni svoj zadatak. Samo se neravnomerno nanosi, odnosno, pod mehaničkim opterećenjem lako se odvaja.

Posebno, da bi se nepoželjne slepljene nečistoće pre ulaska u proces dorade skinule sa površine metalne trake, koju treba doraditi, traka se obično u uredjaju za čišćenje trake intenzivno dovodi u kontakt sa alkalnim sredstvima za čišćenje. Pri tome se čišćenje trake u liniji za toplo cinkovanje najčešće sastoji od kombinacije raznih alkalnih procesa čišćenja i završnog ispiranja vodom.

Pri proizvodnji pocinkovane čelične trake u uredjaju za toplo cinkovanje ili u liniji za žarenje često se koristi hladno valjana metalna traka koja pre dorade mora pažljivo da se očisti. Hladnovaljane trake opterećene su emulzijama za valjanje i ostacima iz procesa valjanja. Tipične su nečistoće od oko 500 mg/m2 po strani trake, koje se sastoje od emulzija za valjanje, tragova metala i ostalih nečistoća. Ovako uprlj alna traka pre dalje dorade površine mora da se oslobodi tih ostataka iz procesa hladnog valjanja.

U stanju tehnike poznate su razne mogućnosti da se to postigne. Najčešće se vrši višestepeno čišćenje trake. Poznata je kombinacija čišćenja prskanjem sa alkalnim sredstvom za čišćenje uz korišćenje četke za skidanje nečistoće sa površine, čišćenja elektrolitskim sredsvom za dubinsko čišćenje i završnog višestepenog ispiranja vodom uz korišćenje četke. Kao sredstva za čišćenje koriste se vodeni rastvori na bazi alkalija, tensida i fosfata.

U prvom delu takvog sektora za čišćenje trake traka se zagreva do neophodne procesne temperature, pa se pomoću vrelog alkalnog rastvora za čišćenje oslobadja od nečistoća na površini. U sektoru za odmašćivanje prskanjem traka se intenzivno prska vrelim sredstvom za čišćenje da bi se zagrejala do željene temperature i da bi se odstranile grube slepljene nečistoće. Pri odmašćivanju prskanjem metalna traka se može voditi horizontalno ili verti kalno.

Pri odmašćivanju četkanjem nečistoća se sa površine trake skida pomoću više rotirajućih četaka. Pri tome je tipično da je uredjaj za četkanje opremljen sa dva ili četiri četkasta valjka. Četke su rasporedjene jedna za drugom, naizmenično pomereno u odnosu na suprotne valjke- ili direktno jedna iznad druge za čišćenje donje i gornje strane trake. Usled mehaničkog kontakta čekinja sa površinom metalne trake dolazi do ne beznačajnog habanja četaka. Zavisno od načina rada i željenog kvaliteta četkasti valjci se moraju menjati otprilike svaka tri meseca, što izaziva ne male troškove.

Elektrolitsko odmašćivanje usled direktnog formiranja mehura na površini metalne trake otklanja nečistoće koje se nalaze dublje u topografiji. To se može vršiti vertikalnim ili horizontalnim vodjenjem trake. Formiranje mehura izaziva se priključenjem spoljnog napona na parove elektroda iznad i ispod metalne trake. Radi električne izolacije suda, u kome se vrši odmašćivanje, sud se izradjuje kao gumirani čelični sud. U postupku sa neutralnim provodnikom izmedju površine trake i okolnih elektroda dolazi do elektrolitske reakcije koja dovodi do formiranja mehurova sa kiseonikom i vodonikom. Nastanak gasovitog vodonika zahteva skupu sigurnosnu tehniku da bi se izbegla opasnost od eksplozija praskavog gasa. Zbog toga se u sud, koji se koristi u postupku, stalno mora dovoditi velika količina vazduha za prinudno provetravanje.

Zatim, t.j. posle elektrolitske obrade, površina metalne trake se u postupku ispiranja obradjuje četkom, tako da se preostale naslage na površini odvajaju. I ovaj četkasti uredjaj najčešće je opremljen sa dva ili četiri četkasta valjka, pri čemu su četke rasporedjene jedna za drugom pomaknuto u odnosu na suprotne valjke ili direktno jedna iznad druge. I ovde se kao nedostatak može konstatovati mehaničko habanje, tako da se četke moraju menjati otprilike svaka tri meseca.

Na kraju se površina metalne trake ispira u jednoj višestruko kaskadnoj kadi sa vrelom, demineralizovanom vodom da bi se potpuno sprao rastvor za čišćenje. Tu se mogu jedna za drugom koristiti dve do četiri prskalice za ispiranje odvojene pomoću valjaka za razdvajanje. Kaskadno vodjenje tečnosti za ispiranje minimizira potrošnju vode. Kombinacija izduvavanja ivica trake i sušenja trake nakon čišćenja garantuju potpuno sušenje površine trake homogeno na celoj širini trake, da bi se sprečilo raznošenje tečnosti.

U povoljnim okolnostima sa navedenim postupkom se u uredjaju za čišćenje trake postiže stepen čistoće od oko 90%, t.j. početna nečistoća metalne trake se smanjuje na 10% .

U stanju tehnike su poznata i druga rešenja za čišćenje metalne trake, pri čemu se najčešće upušta izolovano u delimične aspekte čišćenja.

U EP 0 235 595 A2 opisuje se uredjaj za čišćenje trake u kome je umesto uobičajenih četaka u nastavku na elektrolizu predvidjeno čišćenje pod visokim pritiskom. Pri tome je predvidjeno prethodno elektrolitsko odmašćivanje, mehaničko čišćenje pomoću rotirajućih četaka ili čišćenje pod visokim pritiskom, još jedno elektrolitsko odmašćivanje, još jedno mehaničko čišćenje rotirajućim četkama ili čišćenje pod visokim pritiskom i završno ispiranje. Opisani postupak, zbog elektrolize, zahteva obimne sigurnosne uredjaje za sprečavanje eksplozije prskavog gasa.

Iz EP 0 601 991 BI poznat je uredjaj za čišćenje metalnih traka koje se vrši isključivo pomoću mlazeva tečnosti pod visokim pritiskom, pri čemu pritisak iznosi maksimalno 60 bara. Stepen čistoće koji se time postiže nije uvek dovolj an.

U RU 2 191 641 Cl predstavljen je uredjaj za čišćenje u kome se traka, koju treba očistiti, uvodi u jedan sud u kome su u blizini površine metalne trake rasporedjeni ultrazvučni vibratori. Kavitacija indukovana ultrazvučnim talasima razbija nečistoće sa površine trake. Ukupan stepen čistoće postignut opisanim uredjajem nije uvek zadovoljavaj ući.

Ultrazvuk se koristi i u rešenju prema US 47 88 992 za čišćenje metalne trake. Tu se traka vodi horizontalno izmedju dva ultrazvučna vibratora izradjena u obliku ploča koji vibriraju sa različitim frekvencijama. Takav raspored proizvodi blisko ultrazvučno polje oko trake, koju treba očistiti, tako da se nečistoća odvaja.

JP 09171986 A predstavlja prskalicu pomoću koje se ultrazvučna tečnost za čišćenje prska na traku koju treba očistiti. Neposredno ispred i iza mlaznice - kao celina sa prskalicom za ultrazvučnu tečnost za čišćenje - postavljene su mlaznice za čišćenje pod visokim pritiskom, da bi se poboljšao efekat čišćenja.

U EP 0 578 824 BI se traka, koju treba očistiti, izvodi iz suda u kome se nalazi tečnost za čišćenje da bi- u jednoj posebnoj komori bila podvrgnuta ultrazvučnom čišćenju.

Rešenje prema US 59 75 098 takodje predvidja ultrazvučno čišćenje trake, ali se ovde mesto dodira ultrazvuka direktno izlaže sredstvu za čišćenje iz mlaznice visokog pritiska.

I prema WO 02/18065 A2 koristi se ultrazvučno čišćenje, dok US 64 88 993 prikazuje rešenje u kome uredjaj za čišćenje trake nije bliže specificiran.

Sva od ranije poznata rešenja odnose se manje ili više na delimične aspekte postupka čišćenja, odnosno uredjaja za čišćenje. Pred visokoučinske uredjaje za čišćenje traka postavljaju se globalno mnogo veći zahtevi u pogledu ekonomske efikasnosti i kvaliteta čišćenja nego što ih postojeći postupci i uredjaji mogu ispuniti. Nadalje, jedan kriterijum, kome se često ne poklanja dovoljna pažnja, predstavlja i ekologija, jer upotreba hemijskih sredstava za čišćenje zagadjuje čovekovu okolinu i skupa je u pogledu izvršenja odgovarajućih zakonskih propisa.

Već poznati postupci čišćenja, dakle, imaju nedostatke u pogledu investicionih troškova, troškova energije i sredstava za rad kao i u pogledu efikasnosti postupka čišćenj a.

Zbog toga se u osnovi pronalaska nalazi problem da se i postupak i uredjaj navedene vrste tako unaprede da se izbegnu postojeći nedostaci. Treba, dakle, stvoriti postupak za čišćenje trake i odgovarajući uredjaj koji će ukupno imati više prednosti, sa kojim će postati moguće ekonomičnije, efikasnije i više ekološko čišćenje metalne trake pre njene dorade.

Ovaj zadatak pronalazak rešava prema postupku tako što se metalna traka najpre u prvom sektoru uredjaja za čišćenje podvrgava prvom čišćenju pod visokim pritiskom sa najmanje jednim mlazom tečnosti, što se metalna traka posle toga u drugom sektoru uredjaja za čišćenje podvrgava ultrazvučnom čišćenju pri kome se metalna traka provodi kroz jedan sud u kome se nalazi tečnost i što se metalna traka u nastavku postupka ultrazvučnog čišćenja u trećem sektoru uredjaja za čišćenje podvrgava drugom čišćenju pod visokim pritiskom sa najmanje jednim mlazom tečnosti.

Pronalazak, dakle, kombinuje čišćenje trake pod visokim pritiskom i, u nastavku, ultrazvučno čišćenje. Pri tome se ispostavilo da ovakav redosled ova dva koraka postupka donosi bolji rezultat čišćenja. Pri tome je poželjno da prvi sektor bude prostorno odvojen od drugog sektora, a drugi sektor od trećeg sektora.

Optimalni rezultati mogu se postići tako što se u prvom i eventualno u drugom procesu čišćenja pod visokim pritiskom koristi najmanje jedan mlaz tečnosti koji pokriva širinu trake, koju treba očistiti, i koji se pod pritiskom izmedju 80 bar i 200 bar, poželjno izmedju 100 bar i 120 bar, usmerava na površinu metalne trake.

Metalna traka može da se vodi vertikalno najmanje pri jednom čišćenju pod visokim pritiskom i/ili pri ultrazvučnom čišćenju.

Poželjno je da se tečnost, koja se koristi pri prvom čišćenju pod visokim pritiskom i eventualno pri drugom čišćenju pod visokim pritiskom zagreje na temperaturu od najmanje 60°C , a najbolje na temperaturu iznad 80°C.

Da bi se skinute čestice nečistoće vezale i time sprečile da prilikom cirkulacije sredstva za čišćenje - ponovo dospeju na površinu trake, jedno realizovano rešenje predvidja da tečnost koja se koristi pri prvom čišćenju pod visokim pritiskom, pri ultrazvučnom čišćenju i eventualno pri drugom čišćenju pod visokim pritiskom sadrži lipide radi vezivanja skinute nečistoće.

Lipidi se nazivaju i mastima. Svim lipidima je zajednička loša rastvorijivost u vodi, dok se dobro rastvaraju u organskim rastvaračima, kao što su metanol, aceton ili hloroform. Lipidi se, dakle, mogu definisati kao organske supstance potrebne živim bićima koje se u vodi loše rastvaraju. Oni su često estri (ili mogući estri) masnih kiselina. Lipidi se u pogledu hemijske strukture mogu podeliti u sasvim različite grupe (masne kiseline, trigliceride (zvane i neutralne masti ili triacilgliceridi), holesterin (zvan i holesterol), fosfolipide, vosak, terpene, eikosanoide, glikolipide, cerebrozide, gangliozidi).

Nadalje, tečnost koja se koristi pri prvom čišćenju pod visokim pritiskom, pri ultrazvučnom čišćenju i eventualno pri drugom čišćenju pod visokim pritiskom može da sadrži tenside i/ili fosfate. Kdrišćena tečnost takodje može da bude alkalna.

Kao što je poznato u stanju tehnike, pre prvog čišćenja pod visokim pritiskom može da se izvrši odmašćivanje metalne trake prskanjem, pre svega u sudu za potapanje ili u sudu za prskanje. Pri tome odmašćivanje metalne trake prskanjem može da se vrši sa sredstvom, pre svega sredstvom za čišćenje, čija temperatura iznosi najmanje 60°C, a najbolje preko 80°. Posle drugog čišćenja pod visokim pritiskom može da se izvrši završno ispiranje trake, posebno kaskadno ispiranje vodom.

Uredjaj za čišćenje metalne trake naznačen je time, što ima jedan prvi sektor u kome je postavljen jedan uredjaj za čišćenje pod visokim pritiskom, jedan drugi sektor, koji je naknadno postavljen u pravcu kretanja metalne trake i u kome se nalazi jedan uredjaj za ultrazvučno čišćenje, pri čemu uredjaj za ultrazvučno čišćenje ima jedan sud koji može da se napuni tečnošću i u koji su smešteni elementi za emitovanje ultrazvuka, i jedan treći sektor, sektor koji je u odnosu na uredjaj za ultrazvučno čišćenje naknadno postavljen u pravcu kretanja metalne trake, u koji je postavljen drugi uredjaj za čišćenje pod visokim pritiskom.

Elementi za emitovanje ultrazvuka mogu da budu postavljeni svaki u,po jednom kućištu, posebno u kućištu od plemenitog čelika, u unutrašnjosti suda u kome se vrši ultrazvučno čišćenje, sa obe strane metalne trake. Poželjno je da uredjaj za čišćenje pod visokim pritiskom i uredjaj za ultrazvučno čišćenje imaju odvojene sudove kroz koje se provodi metalna traka. Uredjaji za čišćenje pod visokim pritiskom mogu da imaju najmanje jedan nosač mlaznica visokog pritiska koji se prostire preko čitave širine trake. I uredjaj za čišćenje pod visokim pritiskom u trećem sektoru može da ima poseban sud kroz koji se provodi metalna traka.

Poželjno je da u pravcu kretanja metalne trake, pre prvog uredjaja za čišćenje pod visokim pritiskom, budu postavljena sredstva za odmašćivanje metalne trake prskanjem. Nadalje je poželjno da se u pravcu kretanja iza drugog uredjaja za čišćenje pod visokim pritiskom rasporede sredstva za ispiranje metalne trake.

Pošto se prilikom čišćenja pod visokim pritiskom ne može izbeći stvaranje pene, posebno je predvidjeno da uredjaji za čišćenje pod visokim pritiskom imaju pumpu sa Pitotovom cevi, radi proizvodnje neophodnog visokog pritiska.

Takva pumpa se sastoji od dva glavna sastavna dela,i to rotirajućeg kućišta i unutrašnje stacionarno postavljene Pitotove cevi (Princip pritiska Pitotova cev - Prantlova cev). Dovedena tečnost ulazi kroz jedan glatki prstenasti zaptivač, koji se nalazi na strani dotoka, preko rotorskih kanala u rotirajuće kućište rotora i povećava joj se brzina. Centrifugalna sila potiskuje tečnost na periferiju rotora usled čega nastaje usisno dejstvo na propustu i ubrzana kružna cirkulacija tečnosti u rotoru. Pri ulazu tečnosti u stacionarnu Pitotovu cev kinetička enerija se pretvara u potencijalnu, t.j. dolazi do povećanja pritiska. Na taj način može da se postigne pritisak do 200 bar pri broju obrtaja rotora od oko 8.000 obrtaja u minuti. Tada tečnost, koja se u Pitotovoj cevi nalazi pod konstantnim pritiskom, teče ka ispustu, t.j. prema strani visokog pritiska pumpe.

Kombinacijom karakteristika prema pronalasku stvoreni su postupak čišćenja i uredjaj za čišćenje, koji daju veliku efikasnost čišćenja a ipak omogućavaju ekonomičan način rada. Posebno se ne koriste sistemi četaka koje dolaze u mehanički kontakt sa trakom, koju treba očistiti, tako da je habanje uredjaja minimalno.

U nacrtu je prikazan jedan primer izvodjenja pronalaska. Jedina slika šetamatski prikazuje uredjaj za čišćenje metalne trake pre toplog cinkovanj a.

Slika prikazuje uredjaj 3 za čišćenje metalne trake 1 koja se u pravcu kretanja F (sa leve strane) uvodi u uredjaj 3 koji ponovo napušta (na desnu stranu). Traka 1 pri tome kroz uredjaj 3 za čišćenje kontinuirano prolazi sa unapred zadatom brzinom kretanja. Uredjaj 3 za čišćenje je u primeru izvodjenja predvidjen za liniju za cinkovanje visoke snage ili liniju za žarenje za hladno valjane trake 1.

Uredjaj 3 za čišćenje uglavnom ima tri sektora koji se jedan za drugim nastavljaju u pravcu kretanja F, i to prvi sektor 2, drugi sektor 5 i treći sektor 7. U prvom sektoru 2 nalazi se prvi uredjaj 4 za čišćenje pod visokim pritiskom, u drugom sektoru 5 uredjaj 6 za ultrazvučno čišćenje, a u trećem sektoru 7 drugi uredjaj 8 za čišćenje pod visokim pritiskom.

Ispred prvog sektora 2 nalaze se sudovi za odmašćivanje prskanjem kakvi su u stanju tehnike dovoljno poznati. U nastavku trećeg sektora 7 predvidjeni su sudovi 17 za ispiranje, kakvi su takodje već poznati.

U sudovima 16 za odmašćivanje prskanjem traka 1 se zagreva utapanjem u vrelo sredstvo za čišćenje (u sudu za potapanje) ili prskanjem sa vrelim sredstvom za čišćenje (u sudu za prskanje) i oslobadja se slepljene površinske nečistoće.

Metalna traka 1 se pomoću dva pokretna S-valjka 18 i 19 drži pod naponom.

Bitno je to što celi uredjaj 3 za čišćenje nema četke, t.j. ne koriste se - kao što je poznato i uobičajeno u stanju tehnike - rotacione četke za čišćenje. Kompletno čišćenje trake 1 vrši se isključivo pomoću sredstava prikazanih u nacrtu. Mehanički kontakt izmedju čekinja četaka i trake 1 dovodi do odgovarajuće velikog habanja, što pak izaziva velike troškove rada. To se prema pronalasku izbegava.

Jedan drugi bitan aspekt pronalaska je što se takodje odustaje od elektrolitskih sredstava za odmišćivanje kakva su rasprostranjena u stanju tehnike. Elektrolitski proces odmašćivanja zahteva skupu konstrukciju sudova koji se koriste u postupku. Dodatno, nastanak gasovitog kiseonika i gasovitog vodonika tokom procesa krije u sebi rizik u pogledu sigurnosti. Izbegavanjem elekLro-hemijske reakcije prema pronalsku bitno se pojednostavnjuje izvodjenje uredjaja. Postupak bez nastanka gasa, prema pronalasku, ne iziskuje posebne troškove za ventilaciju sudova i bezbednosno-tehnički nije kritičan.

Prvi uredjaj 4 za čišćenje pod visokim pritiskom ima jedan odvojeni sud 13 u kome su sa obe strane trake 1 rasporedjeni nosači mlaznica visokog pritiska. U primeru izvodjenja to su ukupno četiri nosača 14 za granu trake 1 koja se spušta vertikalno prema dole i onu koja se diže vertikalno prema gore.

Čišćenje pod visokim pritiskom povezuje čišćenje površina površinski aktivnim procesima (tensidi u sredstvu za čišćenje) sa mehaničkim skidanjem pomoću kinetičke energije mlaza tečnosti. Vrela tečnost za čišćenje sa velikom brzinom udara u površinu trake. Spiraju se labave površinske naslage. Stabilnije slojeve olabavljuje kinetička energija udarajuće tečnosti, pa se i oni spiraju. Sadaržaj lipida u dodatom sredstvu za čišćenje trake delimično potpomaže postupak čišćenja. Bitna funkcija tensida je vezivanje skinutih nečistoća u , tečnosti. Skinute naslage se vezuju u okviru tečne faze i ne dolaze ponovo u kontakt sa površinom trake. Na taj način se izbegava ponovno mašćenje odnosno ponovno prljanje. Bez sadržaja tensida uljani sastojci skinute nečistoće bi zbog svoje male gustoće i nepolarne strukture plivali na površini tečnosti i eventualno bi se pri novom kontaktu sa površinom trake ponovo taložili na njoj. Pritisak korišćene tečnosti, koji je neophodan za čišćenje pod visokim pritiskom, proizvodi pumpa 20 sa Pitotovom cevi. Sredstvo za čišćenje preko usisnog nastavka ulazi u pumpni prostor. Za razliku od uobičajenih centrifugalnih pumpi kod ove pumpe je pumpni prostor rotor. Sredstvo za čišćenje se u rotirajućem pumpnom prostoru dovodi do veoma visoke rotacione brzine. U rotirajućoj tečnosti nalazi se stacionarna Pitotova cev. U toj cevi se kinetička rotaciona energija medijuma pretvara u potencijalnu energiju pritiska. Usled velike rotacione brzine medijuma na nastavku za pritisak stvara se pritisak tečnosti koji bez problema može da dostigne■i prekorači 100 bar. Da bi čišćenje pod visokim pritiskom bilo ekonomično neophodna je cirkulacija sredstva za čišćenje a time i višestruki protok višefaznog fluida (koji se sastoji od tečne faze sredstva za čišćenje, uključujući mehure gasa ili pene) kroz pumpu 20. Prilikom korišćenja alkalnog sredstva za čišćenje koje sadrži tenside ne može se potpuno izbeći formiranje pene u sredstvu za čišćenje. U cirkulacionim ili klipnim pumpama već mali sastojak gasa u sredstvu za čišćenje dovodi do kavitacionih oštećenja u pumpnom prostoru a time i do prestanka rada pumpe već nakon kratkog vremena. Predložena

pumpa sa Pitotovom cevi odlikuje se relativno velikom neosetljivošću na vazduh odnosno penu (komponente gasa manje od 10 posto od zapremine) u transportovanom medij umu. Komponente gasa se usled raspodele gasa sakupljaju centrično u unutrašnosti tečnog tela, gde ne mogu da dodju u dodir sa promenjenim uslovima pritiska u Pitotovoj cevi postavljenoj spolja stacionarno. U pumpnom prostoru se formira brzo rotirajući kružni tok tečnosti sa jednim gasnim mehurom u njegovom centru rotacije. Dodatno spoljnje ispiranje glatkog prstenastog zaptivača smanjuje habanje izazvano česticama u medijumu.

U drugom sektoru 5 nalazi se uredjaj 6 za ultrazvučno čišćenje, i to u jednom posebnom sudu 9. I ovde se prva grana trake 1 vodi vertikalno prema dole, a druga grana vertikalno prema gore. Sa obe strane trake 1 - i to na obe grane - rasporedjeni su elementi 10 odnosno 11 za(emitovanje ultrazvuka, koji su postavljeni u kućište 12 od plemenitog čelika i povezani sa zidovima posude 9.

Ultrazvučno čišćenje povezuje čišćenje površina-površinski aktivnim postupcima (tensidi u medijumu za čišćenje trake) sa mehaničkim otklanjanjem pomoću kinetičke energije gasnih mehurića koji implodiraju. Ultrazvučne oscilacije dovode do lokalnog kolebanja pritiska u prostoru medijuma. U sektoru u kome pritisak pada ispod pritiska otopljenih gasova odnosno ispod pritiska pare formiraju se sićušni kavitacioni mehurići. Pošto veštački uslovi, koji su doveli do formiranja mehurića, postoje samo kratko, mehurići vrlo brzo ponovo implodiraju. Talasi pritiska izazvani time, koji usled implozije gasnih mehurića, posebno na površini trake, bivaju indukovani u tečnost, dovode do razbijanja nečistoće na površini trake. Labave površinske naslage bivaju skinute. Stabilniji slojevi se olabavljuju talasima pritiska i takodje bivaju sprani. Komponente tensida u dodatom sredstvu za čišćenje trake potpomažu postupak čišćenja kao kod gore opisanog čišćenja pod visokim pritiskom.

Veliku prednost čišćenja pomoću ultrazvuka pored visokog

kvaliteta i mogućnosti reprodukcije predstavlja i to što je čišćenje materijala mehaničko a ipak bezdodirno. Zbog toga se, zavisno od zahteva u pogledu čišćenja, može odustati od agresivnih hemikalija i visokih temperatura. Hemijski

dodaci (sredstva za čišćenje), koji pomažu pri ultrazvučnom čišćenju, dodaju se u procentualno znatno manjoj količini

i njihov izbor prema postojećoj nečistoći od sličnog je značaja kao i proračun snage ultrazvuka i radne

frekvencije. Tako ultrazvučno čišćenje, zavisno od područja primene, nudi veoma kvalitetan i homogeni rezultat čišćenja kakav ne može da postigne ni jedan drugi postupak čišćenja.

Korišćena tehnologija ultrazvučnog transduktora ne zahteva posebnu negu kupatila. Elementi 10, 11 za emitovanje ultrazvuka su, kao što je objašnjeno, opklopljeni kućištem 12 od plemenitog čelika. Materijal kućišta može da se prilagodi medijumu u kupatilu. Sud 9 izveden je kao sud za potapanje, da bi na raspolaganju bilo dovoljno sredstava za prenos zvučnih talasa na površinu trake. U sudu za potapanje treba podesiti srednju brzinu strujanja da se formirani mehurići ne bi odmah sprali sa površine trake, odnosno da se ne bi ometalo širenje zvučnih talasa.

U trećem sektoru 7 postavljen je drugi uredjaj 8 za čišćenje pod visokim pritiskom koji takodje ima jedan poseban sud 15. U njemu su - kao u prvom uredjaju 4 za čišćenje pod pritiskom - sa obe strane trake 1 rasporedjeni nosači mlaznica visokog pritiska.

U raznim eksperimentima u praksi ispitavana je efikasnost kombinovane tehnologije visokog pritiska i ultrazvuka. Na osnovu izvršenih ispitivanja može da se konstatuje da se tehnički uprljane čelične trake čišćenjem pod visokim pritiskom i ultrazvučnim čišćenjem mogu dobro očistiti. Čišćenje pod visokim pritiskom obezbedjuje dobro grubo čišćenje. Kinetička energija mlazeva vode pod visokim pritiskom deluje na naslage na površini. Uklanjaju se slojevi koji pokrivaju površinu. Nečistoća, koja se nalazi dublje u topografiji površine trake 1 skida se i uklanja ultrazvučnim čišćenjem. Usled formiranja i implozije sićušnih gasnih mehurića na površini trake, izazvanih ultrazvučnim oscilacijama, razbijajaju se slepljeni ostaci naslaga.

Prednost je i to što postojeći uredjaj, po potrebi, može da se pretvori u uredjaj 3 za čišćenje prema pronalasku. Odmašćivanje četkanjem i ispiranje četkanjem zamenjuju se sa po jednim parom nosača mlaznica visokog pritiska. Sekcija eletrolitskog odmašćivanja zamenom sistema elektroda odgovarajućim ultrazvučnim sistemima postaje sekcija ultrazvučnog čišćenja.

Odmašćivanje četkanjem zamenjuje se jednim parom mlaznica visokog pritiska. Pri tome se par mlaznica visokog pritiska nalazi na kraju ili neposredno iza odmašćivanja prskanjem. Na toj tački je čelična traka već zagrejana na neophodnu temperaturu da bi se potpomoglo optimalno dejstvo korišćenog sredstva za čišćenje i minimiziralo formiranje pene. Mlazevi vode pod visokim pritiskom zajedničkim dejstvom sa aktivnim supstancama za čišćenje u medijumu mogu da skinu nečistoću koja se nalazi na površini trake. Skidanje nečistoće se usled velike kinetičke energije mlazeva vode vrši bezdodirno i zbog toga tokom veoma dugog perioda praktično nema habanja.

Zamena elektrolitskog čišćenja ultrazvučnim čišćenjem izrazito pojednostavljuje izvodjenje uredjaja za čišćenje trake. Konstrukcija suda za ultrazvučno čišćenje izvodi se kao čist čelični sud bez gumene izolacije (kao što je neophodno kod elektrolize). Nisu potrebni sistemi elektroda sa eksternim napajanjem naponom. Pri ultrazvučnom čišćenju se, za razliku od elektrolitskog čišćenja, ne oslobadjaju gasovi iz elektrolize. Zbog toga nisu potrebni skupi sigurnosni uredjaji. Šta više, procesna posuda se priključuje na običan ekstrakcioni uredjaj.

Uredjaj za ispiranje četkanjem zamenjuje se drugim parom mlaznica visokog pritiska (nosač 14 mlaznica visokog pritiska) u trećem sektoru 7. Par mlaznica visokog pritiska nalazi se na početku ili neposredno pre prve faze kaskadnog ispiranja 17 koje se vrši u nastavku. Na toj tačci se na površini čelične trake 1 nalazi jedan film nečistoće skinute prilikom ultrazvučnog čišćenja, koji može da se otkloni čišćenjem pod visokim pritiskom u trećem sektoru 7 uz dejstvo aktivnih supstanci za čišćenje u medijumu. Otklanjanje nečistoće vrši se bezdodirno, usled velike kinetičke energije mlazeva vode, te uglavnom nema habanja.

Uvodjenjem tehnologije čišćenja pod visokim pritiskom kao zamene za mehaničko čišćenje četkanjem otpadaju troškovi za rezervne četke koje u poznatim uredjajima za čišćenje redovno moraju da se zamenjuju kao potrošni delovi. Ultrazvučno čišćenje kao zamena za elektrolitsko čišćenje troši manje energije za postizanje željenog rezultata čišćenja. Kompaktan način gradnje procesnih tehnologija otvara nove šanse za konstruisanje i izgradnju uredjaja za čišćenje visokog učinka i linija za obradu traka, koji štede prostor.

Pokazalo se nadalje, da se usled veće efikasnosti čišćenja trake pomoću predloženih postupaka čišćenja može postići izrazita ušteda hemikalija za čišćenje. Mogu da se smanje sastojci sredstva za čišćenje koji zagadjuju čovekovu okolinu (tensidi, fosfati, itd.). Čišćenje otpadnih voda može da se vrši uz manje troškove i manju potrošnju energij e.

Traka u pojedinačnim sektorima uredjaja 3 za čišćenje može da se vodi po izboru, horizonalno ili vertikalno.

U principu je moguće da se uz predložene elemente uredjaja, koji mogu da se zamene, dodatno predvide oni, koji su poznati u stanju tehnike, dakle na pr. sredstva za čišćenje prskanjem, sredstva za čišćenje četkanjem i elektrolitska sredstva za čišćenje.

Spisak pozivnih brojeva:

1 Metalna traka

2 prvi sektor

3 uredjaj za čišćenje

4 prvi uredjaj za čišćenje pod visokim pritiskom

5 drugi sektor

6 uredjaj za ultrazvučno čišćenje

7 treći sektor

8 drugi uredjaj za čišćenje pod visokim pritiskom

9 posuda

10 elementi za emitovanje ultrazvuka 11 elementi za emitovanje ultrazvuka

12 kućište

13 sud

14 nosači mlaznica visokog pritiska

15 sud

16 sredstva za odmašćivanje prskanjem

17 sredstva za ispiranje

18 S-valjak

19 S-valjak

20 Pumpa sa Pitotovom cevi F pravac kretanja

Claims

1. Postupak za čišćenje metalne trake (1),naznačen time,što se metalna traka (1) najpre u prvom sektoru (2) uredjaja (3) za čišćenje podvrgava prvom čišćenju (4) pod visokim pritiskom sa najmanje jednim mlazom tečnosti, što se metalna traka (1) posle toga u drugom sektoru (5) uredjaja (3) za čišćenje podvrgava ultrazvučnom čišćenju (6), pri čemu se metalna traka (1) vodi kroz posudu u kojoj se nalazi tečnost, i što se metalna traka (1) u nastavku postupka ultrazvučnog čišćenja (6) u trećem sektoru (7) uredjaja (3) za čišćenje podvrgava drugom čišćenju (8) pod visokim pritiskom sa najmanje jednim mlazom tečnosti.

2. Postupak prema zahtevu 1,naznačen time,što je prvi sektor (2) prostorno odvojen od drugog sektora (5) i što je drugi sektor (5) prostorno odvojen od trećeg sektora (7) .

3. Postupak prema jednom od zahteva 1 ili 2,naznačen time,što se prvi i drugi postupak čišćenja (4, 8) pod visokim pritiskom izvode dovodjenjem najmanje jednog mlaza tečnosti, koji pokriva širinu metalne trake (1) koju treba očistiti, i koji se usmerava na površinu metalne trake (1) sa pritiskom izmedju 80 bar i 200 bar, najbolje izmedju 100 bar i 120 bar.

4. Postupak prema jednom od zahteva 1 do 3,naznačen time,što se metalna traka (1) pri najmanje jednom čišćenju (4,8) pod visokim pritiskom i/ili pri ultrazvučnom čišćenju vodi vertikalno.

5. Postupak prema jednom od zahteva 1 do 4,naznačen time,što je tečnost, koja se koristi pri prvom čišćenju (4) pod visokim pritiskom i pri drugom čišćenju (8) pod visokim pritiskom, zagrejana na temperaturu od najmanje 60°C, najbolje na temperaturu iznad 80°C.

6. Postupak prema jednom od zahteva 1 do 5,naznačen time,što tečnost, koja se koristi pri prvom čišćenju (4) pod visokim pritiskom, pri ultrazvučnom čišćenju (6) i pri drugom čišćenju (8) pod visokim pritiskom, sadrši lipide radi vezivanja skinute nečistoće.

7. Postupak prema jednom od zahteva 1 do 6,naznačen time,što tečnost, koja se koristi pri prvom čišćenju (4) pod visokim pritiskom, pri ultrazvučnom čišćenju (6) i pri drugom čišćenju (8) pod visokim pritiskom, sadrži tenside i/ili fosfate.

8. Postupak prema jednom od zahteva 1 do 7,naznačen time,što je tečnost, koja se koristi pri prvom čišćenju (4) pod visokim pritiskom, pri ultrazvučnom čišćenju (6) i pri drugom čišćenju (8) pod visokim pritiskom, alkalna.

9. Postupak prema jednom od zahteva 1 do 8,naznačen time,što se pre prvog čišćenja (4) pod visokim pritiskom vrši odmašćivanje metalne trake (1) prskanjem, posebno u sudu za potapanje ili u sudu za prskanj e.

10. Postupak prema zahtevu 9,naznačen time,što se odmašćivanje metalne trake (1) prskanjem vrši pomoću jednog sredstva, posebno sredstva za čišćenje, čija temperatura iznosi najmanje 60°C, a poželjno preko 80°C.

11. Postupak prema jednom od zahteva 1 do 10,naznačen time,što se posle drugog čišćenja (4) pod visokim pritiskom vrši ispiranje metalne trake (1), posebno kaskadno ispiranje sa vodom.

12. Uredjaj (3) za čišćenje metalne trake (1),naznačen time,što ima prvi sektor (2) u koji je smešten jedan uredjaj (4) za čišćenje pod visokim pritiskom, drugi sektor (5), koji je naknadno postavljen u pravcu (F.) kretanja metalne trake (1) i u kome se nalazi jedan uredjaj (6) za ultrazvučno čišćenje, pri čemu uredjaj (6) za ultrazvučno čišćenje ima jednu posudu (9) koja se može napuniti sa tečnošću i u kojoj su rasporedjeni elementi (10,11) za emitovanje ultrazvuka, i treći sektor naknadno postavljen u odnosu na uredjaj (6) za ultrazvučno čišćenje u pravcu (F) kretanja metalne trake u koji je postavljen drugi uredjaj (8) za čišćenje pod visokim pritiskom.

13. Uredjaj prema zahtevu 12,naznačen time,što su elementi (10,11) za emitovanje ultrazvuka postavljeni u po jednom kućištu (12), posebno u kućištu od plemenitog čelika, u unutrašnjosti posude (9) sa obe strane metalne trake (1).

14. Uredjaj prema jednom od zahteva 12 ili 13,naznačen time,što uredjaji (4, 8) za čišćenje pod visokim pritiskom i uredjaj (6) za ultrazvučno čišćenje imaju odvojene sudove (13,9, 15) kroz koje se provodi metalna traka (1).

15. Uredjaj prema jednom od zahteva 12 do 14,naznačen time,što uredjaji (4,8) za čišćenje pod visokim pritiskom imaju najmanje jedan nosač (14) mlaznica visokog pritiska koji se prostire preko cele širine trake (1).

16. Uredjaj prema jednom od zahteva 12 do 15,naznačen time,što su u pravcu (F) kretanja metalne trake (1) ispred prvog uredjaja (4) za čišćenje pod visokim pritiskom rasporedjena sredstva (16) za odmašćivanje metalne trake (1) prskanjem.

17. Uredjaj prema jednom od zahteva 12 do 16,naznačen time,što su u pravcu (F) kretanja iza drugog uredjaja (8) za čišćenje pod visokim pritiskom rasporedjena sredstva (17) za ispiranje metalne trake (1).

18. Uredjaj prema jednom od zahteva 12 do 17,naznačen time,što uredjaji (4,8) za čišćenje pod visokim pritiskom imaju pumpu 20 sa Pitotovom cevi za proizvodnju visokog pritiska tečnosti.