RU2012102774A - Сополимеры, полимерные частицы, содержащие упомянутые сополимеры, и сополимерные связующие для композиций радиационно-чувствительных покрытий для негативных копировальных радиационно-чувствительных литографических печатных форм - Google Patents

Сополимеры, полимерные частицы, содержащие упомянутые сополимеры, и сополимерные связующие для композиций радиационно-чувствительных покрытий для негативных копировальных радиационно-чувствительных литографических печатных форм Download PDF

Info

Publication number
RU2012102774A
RU2012102774A RU2012102774/04A RU2012102774A RU2012102774A RU 2012102774 A RU2012102774 A RU 2012102774A RU 2012102774/04 A RU2012102774/04 A RU 2012102774/04A RU 2012102774 A RU2012102774 A RU 2012102774A RU 2012102774 A RU2012102774 A RU 2012102774A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
alkyl
amide
ester
monomer units
carbamate
Prior art date
Application number
RU2012102774/04A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2571098C2 (ru
Inventor
Ми Т. НГУЙЕН
Марк-Андре ЛОКА
Original Assignee
Майлан Груп
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Майлан Груп filed Critical Майлан Груп
Publication of RU2012102774A publication Critical patent/RU2012102774A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2571098C2 publication Critical patent/RU2571098C2/ru

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C233/00—Carboxylic acid amides
    • C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C233/16—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms
    • C07C233/17—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom
    • C07C233/18—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom having the carbon atom of the carboxamide group bound to a hydrogen atom or to a carbon atom of an acyclic saturated carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
    • C07C255/01—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C255/19—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms containing cyano groups and carboxyl groups, other than cyano groups, bound to the same saturated acyclic carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
    • C07C255/01—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C255/32—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring
    • C07C255/33—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring with cyano groups linked to the six-membered aromatic ring, or to the condensed ring system containing that ring, by saturated carbon chains
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/10—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C271/16—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by singly-bound oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/26—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C271/28—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C275/00—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C275/04—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C275/06—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic and saturated carbon skeleton
    • C07C275/10—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic and saturated carbon skeleton being further substituted by singly-bound oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/34—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/36—Oxygen or sulfur atoms
    • C07D207/40—2,5-Pyrrolidine-diones
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/16—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms
    • C07D295/20—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms by radicals derived from carbonic acid, or sulfur or nitrogen analogues thereof
    • C07D295/215—Radicals derived from nitrogen analogues of carbonic acid
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/06—Phosphorus compounds without P—C bonds
    • C07F9/08—Esters of oxyacids of phosphorus
    • C07F9/09—Esters of phosphoric acids
    • C07F9/091—Esters of phosphoric acids with hydroxyalkyl compounds with further substituents on alkyl
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
    • C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
    • C08F212/06—Hydrocarbons
    • C08F212/08—Styrene
    • C08F212/10—Styrene with nitriles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/04—Acids; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C08F220/06—Acrylic acid; Methacrylic acid; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/34—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
    • C08F220/36—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/42—Nitriles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/42—Nitriles
    • C08F220/50—Nitriles containing four or more carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/52—Amides or imides
    • C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
    • C08F220/60—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing nitrogen in addition to the carbonamido nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/62—Monocarboxylic acids having ten or more carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/70—Nitriles; Amides; Imides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing phosphorus
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
    • C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
    • C08F212/06—Hydrocarbons
    • C08F212/08—Styrene

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Polyethers (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

1. Сополимер, содержащий:- мономерные звенья А, имеющие цианосодержащую боковую группу, в которых цианогруппа не присоединена непосредственно к основной цепи сополимера;- мономерные звенья В, имеющие пленкообразующую боковую группу;- мономерные звенья С, имеющие боковую цепь, содержащую поли(этиленгликоль), поли(пропиленгликоль) и/или статистический поли(этиленгликоль-пропиленгликоль), при этом упомянутая боковая цепь присоединена к основной цепи сополимера через амидный, карбаматный, сложноэфирный линкер или линкер мочевины; и- необязательно мономерные звенья D, имеющие, по меньшей мере, одну функциональную группу, способную претерпевать реакцию сшивания в результате проведения катионной полимеризации.2. Сополимер по п.1, описывающийся формулойФормула 1где:- а, с и d представляют собой молярные доли, варьирующиеся в диапазоне от приблизительно 0,01 до приблизительно 0,90;- b и е представляют собой молярные доли, варьирующиеся в диапазоне от приблизительно 0 до приблизительно 0,90;- А1 представляет собой мономерные звенья А;- А2 представляет собой мономерные звенья А или мономерные звенья В;- А3 представляет собой мономерные звенья С;- А4 представляет собой мономерные звенья В; и- А5 представляет собой мономерные звенья В или мономерные звенья D,где мономерные звенья А в А1 и А2 отличаются друг от друга, и где мономерные звенья В в А2, А4 и А5 отличаются друг от друга.3. Сополимер по п.1, где мономерные звенья А описываются формулойгде:- R представляет собой водород, метил или этил;- Rотсутствует или представляет собой от одного до четырех алкильных или алкилокси-заместителей, при этом алкильные и алкилокси-заместители необязател�

Claims (17)

1. Сополимер, содержащий:
- мономерные звенья А, имеющие цианосодержащую боковую группу, в которых цианогруппа не присоединена непосредственно к основной цепи сополимера;
- мономерные звенья В, имеющие пленкообразующую боковую группу;
- мономерные звенья С, имеющие боковую цепь, содержащую поли(этиленгликоль), поли(пропиленгликоль) и/или статистический поли(этиленгликоль-пропиленгликоль), при этом упомянутая боковая цепь присоединена к основной цепи сополимера через амидный, карбаматный, сложноэфирный линкер или линкер мочевины; и
- необязательно мономерные звенья D, имеющие, по меньшей мере, одну функциональную группу, способную претерпевать реакцию сшивания в результате проведения катионной полимеризации.
2. Сополимер по п.1, описывающийся формулой
Figure 00000001
Формула 1
где:
- а, с и d представляют собой молярные доли, варьирующиеся в диапазоне от приблизительно 0,01 до приблизительно 0,90;
- b и е представляют собой молярные доли, варьирующиеся в диапазоне от приблизительно 0 до приблизительно 0,90;
- А1 представляет собой мономерные звенья А;
- А2 представляет собой мономерные звенья А или мономерные звенья В;
- А3 представляет собой мономерные звенья С;
- А4 представляет собой мономерные звенья В; и
- А5 представляет собой мономерные звенья В или мономерные звенья D,
где мономерные звенья А в А1 и А2 отличаются друг от друга, и где мономерные звенья В в А2, А4 и А5 отличаются друг от друга.
3. Сополимер по п.1, где мономерные звенья А описываются формулой
Figure 00000002
где:
- R представляет собой водород, метил или этил;
- R1 отсутствует или представляет собой от одного до четырех алкильных или алкилокси-заместителей, при этом алкильные и алкилокси-заместители необязательно имеют одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила, сульфонамида или карбамата, причем алкильные и алкилокси-заместители необязательно замещены одной или несколькими цианогруппами;
- U1 представляет собой амидный или сложноэфирный линкер;
- V1 отсутствует или представляет собой алкил, необязательно содержащий одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата, при этом алкил необязательно замещен одной или несколькими цианогруппами; и
- W представляет собой -CN или
Figure 00000003
4. Сополимер по п.1, где сополимер содержит мономерные звенья В, описывающиеся формулой
Figure 00000004
где:
- R представляет собой водород, метил или этил;
- U3 отсутствует или представляет собой амидный или сложноэфирный линкер; и
- Z представляет собой алкил или арил,
при этом алкил необязательно замещен одним или несколькими представителями, выбираемыми из гидроксила, алкилокси или галогенида; и
причем арил необязательно замещен одним или несколькими алкилами, которые необязательно замещены одним или несколькими представителями, выбираемыми из гидроксила, алкилокси или галогенида.
5. Сополимер по п.1, где сополимер содержит мономерные звенья В, описывающиеся формулой
Figure 00000005
где R представляет собой водород, метил или этил,
- R1 отсутствует или представляет собой от одного до четырех алкильных заместителей; при этом алкильные заместители необязательно имеют одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила, сульфонамида или карбамата;
- U4 отсутствует или представляет собой амидный или сложноэфирный линкер;
- V4 отсутствует или представляет собой алкил, необязательно содержащий одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила, сульфонамида или карбамата; и
- А представляет собой
Figure 00000006
6. Сополимер по п.1, где мономерные звенья С описываются формулой
Figure 00000007
где:
- R представляет собой водород, метил или этил;
- J отсутствует или представляет собой амидный, сложноэфирный, карбаматный линкер или линкер мочевины; и
- К и L совместно образуют упомянутую боковую цепь, при этом К содержит цепь поли(этиленгликоля), поли(пропиленгликоля) и/или статистического поли(этиленгликоль-пропиленгликоля), и причем L представляет собой -ОН, -ОСН3, -CN или
Figure 00000008
где R1 отсутствует или представляет собой от одного до четырех алкильных или алкилокси-заместителей, при этом алкильный и алкилокси-заместители необязательно имеют одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила, сульфонамида или карбамата, причем алкильные и алкилокси-заместители необязательно замещены одной или несколькими цианогруппами; и
V1 отсутствует или представляет собой алкил, необязательно содержащий одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата, при этом алкил необязательно замещен одной или несколькими цианогруппами.
7. Сополимер по п.6, где один или несколько линкеров из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата присоединены к любому одному или обоим из двух концов цепи поли(этиленгликоля), поли(пропиленгликоля) и/или статистического поли(этиленгликоль-пропиленгликоля).
8. Сополимер по п.6, где алкил присоединен к любому одному или обоим из двух концов цепи поли(этиленгликоля), поли(пропиленгликоля) и/или статистического поли(этиленгликоль-пропиленгликоля), при этом упомянутый алкил необязательно имеет одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата.
9. Сополимер по п.1, где мономерные звенья D описываются формулой
Figure 00000009
где:
- R представляет собой водород, метил или этил,
- Е отсутствует или представляет собой амидный или сложноэфирный линкер;
- F представляет собой алкил, необязательно содержащий одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата;
или цепь поли(этиленгликоля), поли(пропиленгликоля) и/или статистического поли(этиленгликоль-пропиленгликоля), при этом цепь имеет необязательно присоединенный к любому одному или обоим из двух концов алкил, необязательно содержащий одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата; и
- G представляет собой функциональную группу, способную претерпевать реакцию сшивания в результате проведения катионной полимеризации.
10. Сополимерное связующее, содержащее:
- мономерные звенья А, имеющие цианосодержащую боковую группу, в которых цианогруппа не присоединена непосредственно к основной цепи сополимерного связующего;
- мономерные звенья В, имеющие пленкообразующую боковую группу; и
- необязательно мономерные звенья D, имеющие, по меньшей мере, одну функциональную группу, способную претерпевать реакцию сшивания в результате проведения катионной полимеризации,
при этом сополимерное связующее описывается формулой
Figure 00000010
Формула 2
где:
- а и d представляют собой молярные доли, варьирующиеся в диапазоне от приблизительно 0,01 до приблизительно 0,90;
- b и е представляют собой молярные доли, варьирующиеся в диапазоне от приблизительно 0 до приблизительно 0,90;
- А1 представляет собой мономерные звенья А;
- А2 представляет собой мономерные звенья А или мономерные звенья В;
- А4 представляет собой мономерные звенья В; и
- А5 представляет собой мономерные звенья В или мономерные звенья D,
где мономерные звенья А в А1 и А2 являются независимыми друг от друга, и где мономерные звенья В в А2, А4 и А5 являются независимыми друг от друга.
11. Сополимерное связующее по п.10, где мономерные звенья А описываются формулой
Figure 00000011
где:
- R представляет собой водород, метил или этил;
- R1 отсутствует или представляет собой от одного до четырех алкильных или алкилокси-заместителей, при этом алкильные и алкилокси-заместители необязательно имеют одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила, сульфонамида или карбамата, причем алкильные и алкилокси-заместители необязательно замещены одной или несколькими цианогруппами;
- U1 представляет собой амидный или сложноэфирный линкер;
- V1 отсутствует или представляет собой алкил, необязательно содержащий одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата, при этом алкил необязательно замещен одной или несколькими цианогруппами; и
- W представляет собой -CN или
Figure 00000012
12. Сополимерное связующее по п.10, где сополимерное связующее содержит мономерное звено В, описывающееся формулой
Figure 00000013
где:
- R представляет собой водород, метил или этил;
- U3 отсутствует или представляет собой амидный или сложноэфирный линкер; и
- Z представляет собой алкил или арил,
при этом алкил необязательно замещен одним или несколькими представителями, выбираемыми из гидроксила, алкилокси или галогенида; и
причем арил необязательно замещен одним или несколькими алкилами, которые необязательно замещены одним или несколькими представителями, выбираемыми из гидроксила, алкилокси или галогенида.
13. Сополимерное связующее по п.10, где сополимерное связующее содержит мономерные звенья В, описывающиеся формулой
Figure 00000014
где:
- R представляет собой водород, метил или этил;
- R1 отсутствует или представляет собой от одного до четырех алкильных заместителей; при этом алкильные заместители необязательно имеют одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила, сульфонамида или карбамата;
- U4 отсутствует или представляет собой амидный или сложноэфирный линкер;
- V4 отсутствует или представляет собой алкил, необязательно содержащий одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила, сульфонамида или карбамата; и
- А представляет собой
Figure 00000015
14. Сополимерное связующее по п.10, где мономерные звенья D описываются формулой
Figure 00000016
где:
- R представляет собой водород, метил или этил;
- Е отсутствует или представляет собой амидный или сложноэфирный линкер;
- F представляет собой алкил, необязательно содержащий одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата;
или цепь поли(этиленгликоля), поли(пропиленгликоля) и/или статистического поли(этиленгликоль-пропиленгликоля), при этом цепь имеет необязательно присоединенный к любому одному или обоим из двух концов алкил, необязательно содержащий одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата; и
- G представляет собой функциональную группу, способную претерпевать реакцию сшивания в результате проведения катионной полимеризации.
15. Мономер, соответствующий мономерному звену А, С или D,
при этом упомянутое мономерное звено А имеет цианосодержащую боковую группу, где цианогруппа не присоединена непосредственно к основной цепи сополимера,
причем упомянутое мономерное звено С содержит боковую цепь, содержащую поли(этиленгликоль), поли(пропиленгликоль) и/или статистический поли(этиленгликоль-пропиленгликоль), при этом упомянутая боковая цепь присоединена к основной цепи через амидный, карбаматный, сложноэфирный линкер или линкер мочевины, где упомянутое мономерное звено С в качестве концевой группы имеет гидроксильную группу, метокси-группу или заместитель, имеющий цианогрупу, и
при этом упомянутое мономерное звено D имеет, по меньшей мере, одну функциональную группу, способную претерпевать реакцию сшивания в результате проведения катионной полимеризации,
причем упомянутое мономерное звено А описывается формулой
Figure 00000017
где:
- R представляет собой водород, метил или этил;
- R1 отсутствует или представляет собой от одного до четырех алкильных или алкилокси-заместителей, при этом алкильные и алкилокси-заместители необязательно имеют одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила, сульфонамида или карбамата, причем алкильные и алкилокси-заместители необязательно замещены одной или несколькими цианогруппами;
- U1 представляет собой амидный или сложноэфирный линкер;
- V1 представляет собой алкил, имеющий одну или несколько функциональных групп мочевины, пиперазинила или карбамата, при этом алкил необязательно замещен одной или несколькими цианогруппами; и
- W представляет собой -CN или
Figure 00000018
где V1 в W отсутствует или представляет собой алкил, необязательно содержащий одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата, при этом алкил необязательно замещен одной или несколькими цианогруппами,
или причем упомянутое мономерное звено А описывается формулой
Figure 00000019
где:
- R1 отсутствует или представляет собой от одного до четырех алкильных или алкилокси-заместителей, при этом алкильные и алкилокси-заместители необязательно имеют одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила, сульфонамида или карбамата, причем алкильные и алкилокси-заместители необязательно замещены одной или несколькими цианогруппами;
- V1 представляет собой алкил, необязательно содержащий одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата, при этом алкил необязательно замещен одной или несколькими цианогруппами; и
- W представляет собой -CN или
Figure 00000020
,
причем упомянутые мономерные звенья С описываются формулой
Figure 00000021
где:
- R представляет собой водород, метил или этил;
- J отсутствует или представляет собой амидный, сложноэфирный, карбаматный линкер или линкер мочевины; и
- К и L совместно образуют упомянутую боковую цепь, при этом К содержит цепь поли(этиленгликоля), поли(пропиленгликоля) и/или статистического поли(этиленгликоль-пропиленгликоля), и причем L представляет собой -ОН, -ОСН3, -CN или
Figure 00000022
где R1 отсутствует или представляет собой от одного до четырех алкильных или алкилокси-заместителей, при этом алкильный и алкилокси-заместители необязательно имеют одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила, сульфонамида или карбамата, причем алкильные и алкилокси-заместители необязательно замещены одной или несколькими цианогруппами; и
V1 отсутствует или представляет собой алкил, необязательно содержащий одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата, при этом алкил необязательно замещен одной или несколькими цианогруппами,
и
причем упомянутое мономерное звено D описывается формулой
Figure 00000023
где:
- R представляет собой водород, метил или этил,
- Е отсутствует или представляет собой амидный или сложноэфирный линкер;
- F представляет собой алкил, имеющий одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата;
или цепь поли(этиленгликоля), поли(пропиленгликоля) и/или статистического поли(этиленгликоль-пропиленгликоля), при этом цепь имеет необязательно присоединенный к любому одному или обоим из двух концов алкил, необязательно содержащий одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата; и
- G представляет собой функциональную группу, способную претерпевать реакцию сшивания в результате проведения катионной полимеризации.
16. Мономер по п.15, где один или несколько линкеров из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата присоединены к любому одному или обоим из двух концов цепи поли(этиленгликоля), поли(пропиленгликоля) и/или статистического поли(этиленгликоль-пропиленгликоля).
17. Мономер по п.15, где алкил присоединен к любому одному или обоим из двух концов цепи поли(этиленгликоля), поли(пропиленгликоля) и/или статистического поли(этиленгликоль-пропиленгликоля), при этом упомянутый алкил необязательно имеет одну или несколько функциональных групп из простого эфира, сложного эфира, амина, амида, мочевины, пиперазинила или карбамата.
RU2012102774/04A 2009-09-15 2010-09-14 Сополимеры, полимерные частицы, содержащие упомянутые сополимеры, и сополимерные связующие для композиций радиационно-чувствительных покрытий для негативных копировальных радиационно-чувствительных литографических печатных форм RU2571098C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US24242109P 2009-09-15 2009-09-15
US61/242,421 2009-09-15
PCT/CA2010/001400 WO2010148520A2 (en) 2009-09-15 2010-09-14 Copolymers, polymeric particles comprising said copolymers and copolymeric binders for radiation-sensitive coating compositions for negative-working radiation-sensitive lithographic printing plates

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2012102774A true RU2012102774A (ru) 2013-09-27
RU2571098C2 RU2571098C2 (ru) 2015-12-20

Family

ID=43386936

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2012102774/04A RU2571098C2 (ru) 2009-09-15 2010-09-14 Сополимеры, полимерные частицы, содержащие упомянутые сополимеры, и сополимерные связующие для композиций радиационно-чувствительных покрытий для негативных копировальных радиационно-чувствительных литографических печатных форм

Country Status (14)

Country Link
US (1) US9482944B2 (ru)
EP (1) EP2478020A4 (ru)
JP (1) JP5749269B2 (ru)
KR (1) KR101390985B1 (ru)
CN (1) CN102510869B (ru)
AU (1) AU2010265775B2 (ru)
BR (1) BR112012001663B1 (ru)
CA (1) CA2768722C (ru)
IN (1) IN2012DN00777A (ru)
MX (1) MX351243B (ru)
RU (1) RU2571098C2 (ru)
TW (1) TWI447131B (ru)
UA (1) UA104323C2 (ru)
WO (1) WO2010148520A2 (ru)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2768722C (en) 2009-09-15 2014-12-09 Mylan Group Copolymers, polymeric particles comprising said copolymers and copolymeric binders for radiation-sensitive coating compositions for negative-working radiation-sensitive lithographic printing plates
JP5593447B2 (ja) * 2010-09-14 2014-09-24 マイラン・グループ ポジティブワーキング感熱平板印刷基板用の近赤外線感光被覆用組成物のための共重合体
US20120141942A1 (en) * 2010-12-03 2012-06-07 Domenico Balbinot Method of preparing lithographic printing plates
WO2013108716A1 (ja) * 2012-01-19 2013-07-25 日産化学工業株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物
CN104641294B (zh) * 2012-10-02 2019-08-23 日产化学工业株式会社 负型感光性树脂组合物
GB201609983D0 (en) * 2016-06-08 2016-07-20 Thermo Fisher Scient Geneart Gmbh And Life Technologies As Solid support
WO2018221134A1 (ja) * 2017-05-31 2018-12-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版原版作製用樹脂組成物、及び、平版印刷版の作製方法
EP3647069B1 (en) * 2017-06-30 2022-05-11 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method for producing lithographic printing plate
CN111051981B (zh) * 2017-08-25 2024-04-09 富士胶片株式会社 负型平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法
EP3904100B1 (en) * 2019-01-31 2025-09-03 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing a lithographic printing plate, and lithographic printing method

Family Cites Families (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB780284A (en) * 1954-06-29 1957-07-31 Bayer Ag New methylol ethers and their production
US2839511A (en) * 1956-04-05 1958-06-17 Monsanto Chemicals Cyano ether-ester copolymers
BE795565A (fr) * 1972-02-16 1973-08-16 Hoechst Ag Agents de conservation pour dispersions aqueses, notamment pour peintures
US4297431A (en) * 1978-09-15 1981-10-27 Polaroid Corporation Diffusion control layers in diffusion transfer photographic products
US4345017A (en) 1980-10-06 1982-08-17 Polaroid Corporation Photographic products and processes with a pH sensitive xanthene light screening dye
JPS58134631A (ja) 1982-01-08 1983-08-10 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 感光性組成物
JPS6263595A (ja) * 1985-09-14 1987-03-20 Toagosei Chem Ind Co Ltd ビニルフエニルケテンメチルトリメチルシリルアセタ−ル
JP3196361B2 (ja) * 1991-12-25 2001-08-06 日立化成工業株式会社 塗料用樹脂組成物及び海中構造物用防汚塗料
EP0591820A1 (en) 1992-10-05 1994-04-13 E.I. Du Pont De Nemours And Company Near-infrared absorbing dyes prepared from Stenhouse salts
DE69411242T2 (de) 1993-04-20 1999-03-25 Asahi Kasei Kogyo K.K., Osaka Lithographische druckplatte sowie verfahren zu ihrer herstellung
JP4143983B2 (ja) 1994-10-14 2008-09-03 チバ ホールディング インコーポレーテッド 重縮合物の分子量増加
EP0770495B1 (en) 1995-10-24 2002-06-19 Agfa-Gevaert A method for making a lithographic printing plate involving on press development
FR2741346B1 (fr) 1995-11-16 1997-12-19 Roussel Uclaf Nouveau procede de preparation de derives phenylimidazolidine
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
JP3474724B2 (ja) 1997-01-24 2003-12-08 サンスター技研株式会社 シアノエチル基含有グラフトポリマー
JPH10287823A (ja) 1997-04-15 1998-10-27 Kansai Paint Co Ltd 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及びそれを使用した被覆形成方法
US6261740B1 (en) 1997-09-02 2001-07-17 Kodak Polychrome Graphics, Llc Processless, laser imageable lithographic printing plate
US6132929A (en) 1997-10-08 2000-10-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive type photosensitive composition for infrared lasers
JPH11119427A (ja) * 1997-10-15 1999-04-30 Konica Corp 感光性組成物及び感光性平版印刷版
DE69829590T2 (de) 1997-10-17 2006-02-09 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Positiv arbeitendes photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial für Infrarotlaser und positiv arbeitende Zusammensetzung für Infrarotlaser
JP3917318B2 (ja) 1999-02-24 2007-05-23 富士フイルム株式会社 ポジ型平版印刷用材料
US6124425A (en) 1999-03-18 2000-09-26 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near infrared absorption polymer coatings, method of preparing and methods of use
JP2000275828A (ja) 1999-03-25 2000-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP2001264979A (ja) 2000-03-22 2001-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性平版印刷版
US6884568B2 (en) 2000-10-17 2005-04-26 Kodak Polychrome Graphics, Llc Stabilized infrared-sensitive polymerizable systems
EP1219416B1 (en) 2000-12-20 2004-08-04 Agfa-Gevaert On-press development printing method using a negative working thermally sensitive lithographic printing plate
JP2002202606A (ja) 2000-12-28 2002-07-19 Fuji Photo Film Co Ltd 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
US6506536B2 (en) 2000-12-29 2003-01-14 Kodak Polychrome Graphics, Llc Imageable element and composition comprising thermally reversible polymers
US6899994B2 (en) 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US7261998B2 (en) 2001-04-04 2007-08-28 Eastman Kodak Company Imageable element with solvent-resistant polymeric binder
US6582882B2 (en) 2001-04-04 2003-06-24 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element comprising graft polymer
US6846614B2 (en) 2002-02-04 2005-01-25 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates
US7341815B2 (en) 2001-06-27 2008-03-11 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor
US7659046B2 (en) 2002-04-10 2010-02-09 Eastman Kodak Company Water-developable infrared-sensitive printing plate
US6983694B2 (en) 2002-04-26 2006-01-10 Agfa Gevaert Negative-working thermal lithographic printing plate precursor comprising a smooth aluminum support
JP2004012706A (ja) 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US6969575B2 (en) 2002-08-29 2005-11-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. On-press developable lithographic printing plate precursor
JP2004225040A (ja) 2002-12-12 2004-08-12 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 官能化されたポリマー
JP4085006B2 (ja) 2003-01-14 2008-04-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
US7001704B2 (en) 2003-01-29 2006-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Presensitized lithographic plate comprising microcapsules
US6893783B2 (en) 2003-10-08 2005-05-17 Kodak Polychrome Graphics Lld Multilayer imageable elements
US7060416B2 (en) 2004-04-08 2006-06-13 Eastman Kodak Company Positive-working, thermally sensitive imageable element
EP1885759B1 (en) 2005-06-03 2013-01-23 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near-infrared absorbing acetal copolymers, methods of preparation and methods of use
JP4881687B2 (ja) 2005-12-09 2012-02-22 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
AU2006246467B2 (en) * 2005-12-13 2011-11-10 Rohm And Haas Company Polymer composition
US7795343B2 (en) * 2005-12-13 2010-09-14 Rohm And Haas Company Polymer composition
CN101454277B (zh) 2006-05-17 2014-02-19 美洲染料资源公司 用于平版印刷版涂料的材料、含这些材料的平版印刷版和涂料以及制备方法和用途
US20080008957A1 (en) * 2006-06-27 2008-01-10 Eastman Kodak Company Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable elements
KR101312760B1 (ko) 2006-08-24 2013-09-30 아메리칸 다이 소스, 인코포레이티드 반응성 근 적외선 흡수 중합 입자, 이를 포함하는 코팅 조성물 및 이를 포함하는 네거티브-작용성 오프셋 인쇄 평판
WO2008048749A2 (en) 2006-09-07 2008-04-24 The Regents Of The University Of California Biocidal fibers
JP4834505B2 (ja) 2006-09-26 2011-12-14 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
ATE545665T1 (de) 2006-10-23 2012-03-15 Fujifilm Corp Nitrilgruppen enthaltendes polymer und verfahren zu seiner synthetisierung, zusammensetzung mit nitrilgruppen enthaltendem polymer und laminat
TWI409280B (zh) 2007-07-31 2013-09-21 American Dye Source Inc 聚合物染料、塗覆層組合物及熱微影印刷板
JP5194638B2 (ja) 2007-08-22 2013-05-08 株式会社豊田中央研究所 微小物体を固定化する固相材料、微小物体が固定化された固相体及びその製造方法
US7604924B2 (en) 2007-10-24 2009-10-20 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements and methods of use
US20090186299A1 (en) 2008-01-17 2009-07-23 Ting Tao Methods for imaging and processing negative-working imageable elements
JP5268384B2 (ja) * 2008-02-12 2013-08-21 富士フイルム株式会社 ナノインプリント用硬化性組成物およびパターン形成方法
JP5314944B2 (ja) 2008-06-20 2013-10-16 富士フイルム株式会社 液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
US20100021844A1 (en) * 2008-07-22 2010-01-28 Jianfei Yu Negative-working imageable elements and method of use
CA2768722C (en) 2009-09-15 2014-12-09 Mylan Group Copolymers, polymeric particles comprising said copolymers and copolymeric binders for radiation-sensitive coating compositions for negative-working radiation-sensitive lithographic printing plates
RU2487882C1 (ru) 2009-10-29 2013-07-20 Майлан Груп Галлотанниновые соединения в композициях для покрытия литографических печатных форм

Also Published As

Publication number Publication date
IN2012DN00777A (ru) 2015-06-26
US20120190810A1 (en) 2012-07-26
WO2010148520A4 (en) 2011-04-07
AU2010265775A2 (en) 2012-03-15
BR112012001663B1 (pt) 2020-02-11
JP2013504632A (ja) 2013-02-07
EP2478020A2 (en) 2012-07-25
MX2012002015A (es) 2012-05-29
UA104323C2 (ru) 2014-01-27
MX351243B (es) 2017-10-05
KR101390985B1 (ko) 2014-05-02
RU2571098C2 (ru) 2015-12-20
TWI447131B (zh) 2014-08-01
HK1168118A1 (en) 2012-12-21
TW201114785A (en) 2011-05-01
AU2010265775B2 (en) 2013-09-12
CN102510869B (zh) 2014-12-24
AU2010265775A1 (en) 2012-02-16
KR20120089478A (ko) 2012-08-10
EP2478020A4 (en) 2015-04-15
CA2768722C (en) 2014-12-09
CN102510869A (zh) 2012-06-20
WO2010148520A2 (en) 2010-12-29
CA2768722A1 (en) 2010-12-29
WO2010148520A3 (en) 2011-02-17
JP5749269B2 (ja) 2015-07-15
BR112012001663A2 (pt) 2018-03-13
US9482944B2 (en) 2016-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2012102774A (ru) Сополимеры, полимерные частицы, содержащие упомянутые сополимеры, и сополимерные связующие для композиций радиационно-чувствительных покрытий для негативных копировальных радиационно-чувствительных литографических печатных форм
RU2010106198A (ru) Органополисилоксан
JP2025037925A5 (ru)
RU2015104144A (ru) Полиорганосилоксановые полимеры
RU2012140432A (ru) Аминосодержащие полимеры для применения в качестве секвестрантов желчных кислот
JP2013500256A5 (ru)
JP2009046466A5 (ru)
JP2012528214A5 (ru)
RU2008131537A (ru) Новые материалы для покрытий офсетных печатных форм, офсетные печатные формы и покрытия, содержащие эти материалы, способы получения и применение
JP2012108496A5 (ru)
RU2013115297A (ru) Азосоединение и пигментный дисперсант, пигментная композиция, пигментная дисперсия и тонер, содержащий данное азосоединение
RU2008145895A (ru) Стойкие к гидролизу органомодифицированные силилированные поверхностно-активные вещества
JP2018520994A5 (ru)
JP2012522909A5 (ru)
RU2014136088A (ru) Соединения бета-аминоэфира и применение таких соединений
RU2008147095A (ru) Макролидные производные
RU2008138393A (ru) Применение многоярных фенольных соединений в качестве стабилизаторов
HRP20192011T1 (hr) Polimer koji sadrži karboksilnu skupinu i njegova uporaba
RU2019127901A (ru) Добавка для гидравлической композиции
DE502008001409D1 (de) Bisamid-zinkbasen
RU2020110827A (ru) Амидные и имидные фотоинициаторы
RU2012143604A (ru) Отверждаемая композиция
ATE344311T1 (de) Verwendung von carbonsäuren und deren derivate als lösemittel für hydroxylgruppenhaltigen polymeren
RU2008106666A (ru) Применение тетрагидробензоксазинов в качестве стабилизаторов
RU2011144383A (ru) Разбавители для водных суспензий минеральных частиц и гидравлических вяжущих веществ в виде теста

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20190915