RU2015154392A - Магнетронная распылительная система с инжекцией электронов - Google Patents
Магнетронная распылительная система с инжекцией электронов Download PDFInfo
- Publication number
- RU2015154392A RU2015154392A RU2015154392A RU2015154392A RU2015154392A RU 2015154392 A RU2015154392 A RU 2015154392A RU 2015154392 A RU2015154392 A RU 2015154392A RU 2015154392 A RU2015154392 A RU 2015154392A RU 2015154392 A RU2015154392 A RU 2015154392A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- electron
- cathode
- injector
- electron injection
- magnetron sputtering
- Prior art date
Links
- 238000002347 injection Methods 0.000 title claims 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 title claims 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 title 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims 3
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Claims (3)
1. Магнетронная распылительная система с инжекцией электронов, содержащая в корпусе-аноде катодный узел, включающий магнитный блок, закрытый плоской распыляемой мишенью-катодом, отличающаяся тем, что катодный узел дополнительно снабжен, по крайней мере, одним инжектором электронов, обеспечивающим поток электронов через отверстие в плоской мишени, которая при этом для инжектора выполняет функцию анода.
2. Магнетронная распылительная система по п. 1, отличающаяся тем, что в инжекторе электронов эмиссия электронов осуществляется из плазмы тлеющего разряда с холодным полым катодом.
3. Магнетронная распылительная система по п. 1, отличающаяся тем, что в инжекторе электронов эмиссия электронов осуществляется из плазмы дугового разряда с накаленным или самокалящимся катодом.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2015154392A RU2631553C2 (ru) | 2015-12-17 | 2015-12-17 | Магнетронная распылительная система с инжекцией электронов |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2015154392A RU2631553C2 (ru) | 2015-12-17 | 2015-12-17 | Магнетронная распылительная система с инжекцией электронов |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2015154392A true RU2015154392A (ru) | 2017-06-22 |
| RU2631553C2 RU2631553C2 (ru) | 2017-09-25 |
Family
ID=59240371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2015154392A RU2631553C2 (ru) | 2015-12-17 | 2015-12-17 | Магнетронная распылительная система с инжекцией электронов |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2631553C2 (ru) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2726223C1 (ru) * | 2019-11-28 | 2020-07-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВО "МГТУ "СТАНКИН") | Магнетронное распылительное устройство |
| RU2752334C1 (ru) * | 2020-05-08 | 2021-07-26 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физического материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук | Газоразрядное распылительное устройство на основе планарного магнетрона с ионным источником |
| RU2761900C1 (ru) * | 2021-02-08 | 2021-12-13 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова Российской академии наук | Магнетронное распылительное устройство |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1665717A1 (ru) * | 1989-07-21 | 1995-02-09 | Московский институт электронной техники | Магнетронное распылительное устройство с термоэлектронным ионизатором |
| RU2220226C1 (ru) * | 2002-04-12 | 2003-12-27 | Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете | Магнетронная распылительная система |
| KR101001743B1 (ko) * | 2003-11-17 | 2010-12-15 | 삼성전자주식회사 | 헬리컬 자기-공진 코일을 이용한 이온화 물리적 기상 증착장치 |
| KR20110046055A (ko) * | 2009-10-28 | 2011-05-04 | 한국과학기술연구원 | 소재 표면의 항균성 향상을 위한 은 원소 플라즈마 이온주입 장치 및 방법 |
-
2015
- 2015-12-17 RU RU2015154392A patent/RU2631553C2/ru not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2631553C2 (ru) | 2017-09-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AR095602A1 (es) | Sistema y método de recubrimiento de un sustrato | |
| AR098225A1 (es) | Disposición de recubrimiento al vacío y tratamiento con plasma, y método de recubrimiento de un sustrato | |
| CL2013002656A1 (es) | Sistema de recubrimiento que comprende una camara de vacio y un conjunto de revestimiento que incluye una fuente de deposicion catodica con magnetron, un soporte de sustrato, un conjunto de camara de catodo que incluye un objetivo del catodo, un anodo primario y un escudo, un anodo remoto y una fuente de alimentacion primaria. | |
| MX2017007356A (es) | Fuente de plasma del catodo hueco. | |
| RU2015137774A (ru) | Устройство для ионной бомбардировки и способ его применения для очистки поверхности подложки | |
| RU2015154392A (ru) | Магнетронная распылительная система с инжекцией электронов | |
| MY174916A (en) | Plasma source | |
| WO2013130046A3 (en) | Extended cascade plasma gun | |
| JP2016520964A5 (ru) | ||
| WO2016099635A3 (en) | Apparatus for pvd dielectric deposition | |
| MY183420A (en) | Refrigerator and/or freezer body | |
| EP2509100A3 (en) | Integrated anode and activated reactive gas source for use in a magnetron sputtering device | |
| WO2009129115A3 (en) | Cylindrical magnetron | |
| WO2016092368A3 (en) | Plasma generator with at least one non-metallic component | |
| RU2014121444A (ru) | Способ охлаждения лопаток турбины газотурбинной установки | |
| US9916960B2 (en) | Device for producing an electron beam | |
| JP2013218985A5 (ru) | ||
| MY190639A (en) | Low pressure wire ion plasma discharge source, and application to electron source with secondary emission | |
| TW201615061A (en) | Long-arc type discharge lamp | |
| UA93483U (ru) | Источник энергии для диффузионной сварки и пайки на основе тлеющего разряда с полым катодом | |
| RU2011151103A (ru) | Способ управления током электронной пушки с плазменным катодом | |
| RU2015126752A (ru) | Вакуумный эмиссионный триод | |
| Astrelin et al. | An influence of grid field on beam characteristics in a diode with grid stabilization of plasma emitting surface | |
| TH160104A (th) | แหล่งกำเนิดพลาสมา | |
| UA105426U (ru) | Электродуговой плазмотрон |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20191218 |