RU2155643C2 - Равномерное нанесение радиоактивного слоя - Google Patents
Равномерное нанесение радиоактивного слоя Download PDFInfo
- Publication number
- RU2155643C2 RU2155643C2 RU98110780A RU98110780A RU2155643C2 RU 2155643 C2 RU2155643 C2 RU 2155643C2 RU 98110780 A RU98110780 A RU 98110780A RU 98110780 A RU98110780 A RU 98110780A RU 2155643 C2 RU2155643 C2 RU 2155643C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- radioactive
- substrate
- layer
- application
- drying
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области исследования радиоактивного препарата. Способ равномерного нанесения радиоактивного слоя предусматривает приготовление специальной дырчатой подложки. Она состоит из двух дюралевых колец, входящих одно в другое, между которыми помещается тонкая клейкая лента, к ней приклеивается бумага с симметрично нанесенными отверстиями. При нанесении радиоактивного раствора и его высушивании радиоактивность размещается по всем этим отверстиям равномерно. Важно, чтобы подложка располагалась точно горизонтально, для чего применяется столик с ватерпасом, на котором размещается подложка при нанесении аликвоты и ее высушивании. Контролируемая ватерпасом горизонтальность устанавливается при помощи навинченных на ножки столика шайб. 5 ил.
Description
При исследовании радиоактивного препарата на бета-спектрометре важно, чтобы слой радиоактивного вещества был как можно тоньше с целью уменьшения самопоглощения в нем. В экологических пробах, когда наряду с активностью присутствует и грунт, с которого берется проба, зачастую тонкие слои получить невозможно.
Как показано в книге Лукьянова и др. [1], поглощение в слое различно для мягких и жестких энергий (фиг. 1). На графике зависимости log I от мг/см2:
кривая 1 - это самопоглощение в 32P (Emax= 1,7 МэВ);
кривая 2 - в 24Na (E = 1,40 МэВ) - позитронный распад;
кривая 3 - 89Sr (Emax = 1,46 МэВ);
кривая 4 - 111Ag (Emax = 1,00 МэВ);
кривая 5 - 60Co (Emax = 0,31 МэВ);
кривая 6 - 45Ca (Emax = 0,26 МэВ);
кривая 7 - 35S (Emax = 0,167 МэВ).
кривая 1 - это самопоглощение в 32P (Emax= 1,7 МэВ);
кривая 2 - в 24Na (E = 1,40 МэВ) - позитронный распад;
кривая 3 - 89Sr (Emax = 1,46 МэВ);
кривая 4 - 111Ag (Emax = 1,00 МэВ);
кривая 5 - 60Co (Emax = 0,31 МэВ);
кривая 6 - 45Ca (Emax = 0,26 МэВ);
кривая 7 - 35S (Emax = 0,167 МэВ).
Это приходится учитывать и при идентификации сложных бета-спектров. В связи с самопоглощением в слое возникает вопрос и о равномерном нанесении активного слоя на подложку.
Известно несколько способов получения равномерного слоя:
- Выпаривание. Наносится аликвота (отмеренная капелька радиоактивного раствора) на подложку, а затем высушивается выпариванием. Иногда этот метод приводит к неоднородности радиоактивных слоев, как свидетельствует Лангер и др. [2] в сто раз в различных частях нанесенного слоя. Правда наш опыт говорит о неоднородности в пять - семь раз.
- Выпаривание. Наносится аликвота (отмеренная капелька радиоактивного раствора) на подложку, а затем высушивается выпариванием. Иногда этот метод приводит к неоднородности радиоактивных слоев, как свидетельствует Лангер и др. [2] в сто раз в различных частях нанесенного слоя. Правда наш опыт говорит о неоднородности в пять - семь раз.
- Метод электрофореза. Мелкий порошок, используемый для приготовления источника, смешивают со спиртом до образования устойчивой суспензии. Эту суспензию помещают в металлический цилиндр ⌀ = 10 мм, вдоль которого устанавливают проволоку, используемую в качестве подложки. Разность потенциалов между подложкой и цилиндром зависит от применяемого материала и устанавливают от 300 до 800 В. Такой метод находит применение при изготовлении источников, используемых в магнитных бета-спектрометрах с постоянным магнитом.
- Метод разбрызгивания [3]. Подходящее соединение радиоактивного материала растворяют в жидкости, не проводящей в нормальных условиях, например в ацетоне. Из капиллярной трубки изготавливают пипетку с тонкой шейкой так, чтобы в обычных условиях жидкость не могла вытекать из нее. Внутрь этой пипетки на расстоянии нескольких миллиметров от основания шейки вводят проволоку соответствующих размеров, свободный конец которой соединяют с положительным полюсом источника, обеспечивающего напряжение от трех до десяти киловатт. Подложку для источника устанавливают на расстоянии 1 см под шейкой пипетки и соединяют с отрицательным полюсом источника напряжения. При включении напряжения жидкость начинает выбрасываться в виде мелких брызг, которые затем испаряются [4]. Равномерность нанесения активного слоя получается хорошей, но, во-первых, невозможно точно нанести второй препарат с той же активностью (невоспроизводимость результата), а, во-вторых, разбрызгивание активности приводит к загрязнению установки, аппаратуры и иногда все ее участки из-за этого подлежат замене.
- Метод электрического осаждения [5]. Радиоактивное вещество растворяют в 10-100 мл воды, смешивают с 10 мл спирта и помещают в устройство для электрического осаждения. Высоковольтный источник с постоянным напряжением порядка 600 В соединяют с катодом и анодом (подложка), на ней осаждают активное вещество в виде тонкой однородной пленки. Однородность таких пленок отличная, но толщина их ограничена не более 0,5 мг/см2.
- Метод напыления в вакууме [6]. Для использования этого метода нужна испарительная установка с диффузным наносом. На плите устанавливаются два нагревательных электрода и колоколообразный стеклянный колпак, снабженный внизу резиновой прокладкой. Испарительное устройство в виде проволочных нитей, лодочек или тиглей закрепляется между двумя электродами. Подогрев до требуемой температуры осуществляется с помощью автотрансформатора. Лодочки и проволочные нити делают из вольфрама, тантала или молибдена, тигли из графита. Слой получается прекрасный, но нет воспроизводства при его нанесении. Разброс активности параллельных проб при этом получается от 50 до 200%. Кроме того, после одного напыления приходится из-за загрязненности радиоактивностью долго дезактивировать или полностью менять установку. При необходимости нанесения большого количества проб такой метод не производителен и дорог.
Предлагаемый метод является улучшением метода выпаривания и позволяет наносить параллельные пробы равномерным слоем, причем равномерность получается не хуже 3% во всех точках препарата.
Метод состоит в следующем.
Особым образом изготавливается подложка для нанесения препарата (фиг. 2). Между двумя кольцами из дюраля помещается тонкая клейкая лента. Из бумаги вырезается окружность, диаметр которой соответствует диаметру растекаемой аликвоты радиоактивного раствора. В бумаге делается симметричное количество отверстий булавкой или иголкой. На фиг. 2 изображено:
1 - внутреннее кольцо из дюраля;
2 - дырчатая подложка из бумаги;
3 - клейкая лента;
4 - внешнее кольцо из дюраля.
1 - внутреннее кольцо из дюраля;
2 - дырчатая подложка из бумаги;
3 - клейкая лента;
4 - внешнее кольцо из дюраля.
Кольца с клейкой лентой и бумагой вставляют друг в друга.
Берется точно отмеренная аликвота радиоактивного раствора 5 (фиг. 2) и наносится на две - три приготовленные подложки. Это будут параллельные пробы. Затем раствор высушивается под лампой.
При нанесении и высушивании на дырчатой подложке получается не одна капля, а количество капель, равное числу отверстий в подложке (фиг. 3). Раствор, таким образом, распределяется равномерно при условии, что и нанесение пробы, и последующее высушивание происходит на строго горизонтальной поверхности, иначе раствор будет скатываться к одному или другому краю подложки.
Чтобы достигнуть горизонтальности при нанесении пробы, предлагается использовать предметный столик с ватерпасом, позволяющим контролировать горизонтальность положения столешницы (фиг. 4). На ней расположен не только ватерпас 1, но и две подложки 2, на которые наносятся параллельные пробы. Ножки столика снизу имеют мелкую резьбу 4, на них навинчиваются шайбы 5, с их помощью устанавливается горизонтальность столешницы.
Оценка равномерности нанесенного таким образом слоя производилась на бета-спектрометре со сцинтилляционным кристаллом антраценом диаметром 40 мм высотой 4 мм, на который надевалась обойма с щелью 3 х 10 мм. Толщина обоймы такова, что полностью поглощала энергию бета-излучения - 137Cs (~ 700 КэВ). Препарат, исследуемый на равномерность, находился на расстоянии 2 мм от обоймы. Химический состав препарата включал активность - 137Cs и взвеси грунта ~ 0,05 г/см2. Сначала препарат подставлялся под щель каким-нибудь одним своим краем, а затем перемещался на 3, 6, 9, 12, 15, 18, 21, 24 и 27 мм поперек щели. Во всех точках измерялся конверсионный пик 137Cs (624 КэВ). По площади пика определялась интенсивность активности, вырезаемой щелью в площади препарата во всех перечисленных положениях (фиг. 5).
На фиг. 5 показано распределение активности по поверхности в обычной пробе (1). Видна неравномерность распределения активности, особенно к краю подложки. Очевидно, при нанесении слоя она была наклонена в какую-либо сторону, и раствор стекал к краю.
Во втором случае (2, фиг. 5) горизонтальность соблюдалась, но активность и грунтовый слой распределялись неравномерно, слой грунта остался в центре, что привело к поглощению активности в нем.
В случае согласно изобретению (3, фиг. 5) аликвота наносилась на "дырчатую подложку" и при использовании предметного столика с ватерпасом. При этом равномерность нанесения получалась не хуже 3% по всему диаметру подложки. Это доказывает успешное применение предлагаемого метода.
ЛИТЕРАТУРА
1. Лукьянов В.Б., Симонов Е.Ф. Измерение и идентификация бета-радиоактивных препаратов. - М.: Энергоатомиздат, 1982.
1. Лукьянов В.Б., Симонов Е.Ф. Измерение и идентификация бета-радиоактивных препаратов. - М.: Энергоатомиздат, 1982.
2. Langer L.M., at al., Phis. Pev., 76, 1725, 1949.
3. Parker W.C., at al., Nucl. Instr., and Meth, 7, 22, 1960.
4. Carswell D.J., Mibsted J.J., Nucl. Instr., 4, 51, 1957.
5. Bruninx E., Rudstam G.E., O.N.R., NP/1080/nc 1961, Genewa.
6. Jeckson N.J., J. Sci. Instr., 37, 168, 1960.
Claims (1)
- Способ равномерного нанесения на подложку радиоактивного слоя путем нанесения аликвоты радиоактивного раствора на подложку с последующим высушиванием, отличающийся тем, что используют подложку, изготовленную с помощью двух дюралевых колец, между которыми помещают тонкую клейкую ленту, на которую приклеивают бумагу с нанесенными на нее отверстиями для распределения аликвоты по ним и обеспечения равномерности растекания раствора при условии горизонтальности подложки при нанесении на нее радиоактивного слоя за счет применения предметного столика с ватерпасом и ножками на шайбах, при помощи которых регулируют горизонтальность столешницы, на которой располагают подложку для нанесения радиоактивного слоя.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU98110780A RU2155643C2 (ru) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | Равномерное нанесение радиоактивного слоя |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU98110780A RU2155643C2 (ru) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | Равномерное нанесение радиоактивного слоя |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU98110780A RU98110780A (ru) | 2000-04-10 |
| RU2155643C2 true RU2155643C2 (ru) | 2000-09-10 |
Family
ID=20206922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU98110780A RU2155643C2 (ru) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | Равномерное нанесение радиоактивного слоя |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2155643C2 (ru) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0353579A2 (de) * | 1988-08-03 | 1990-02-07 | Volker Ludwig | Verfahren und Vorrichtung zum Auftragen von flüssigen, pastösen oder plastischen Substanzen auf ein Substrat |
| FR2663565A1 (fr) * | 1990-06-21 | 1991-12-27 | Optima Sarl | Procede et dispositif pour l'apposition de lignes de paillettes. |
-
1998
- 1998-06-04 RU RU98110780A patent/RU2155643C2/ru active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0353579A2 (de) * | 1988-08-03 | 1990-02-07 | Volker Ludwig | Verfahren und Vorrichtung zum Auftragen von flüssigen, pastösen oder plastischen Substanzen auf ein Substrat |
| FR2663565A1 (fr) * | 1990-06-21 | 1991-12-27 | Optima Sarl | Procede et dispositif pour l'apposition de lignes de paillettes. |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| LANGER L.M. at al. Phys. Rev., 76, 1725, 1949. * |
| Лукьянов В.Б. Измерение и идентификация радиоактивных препаратов. - М.: Энергоатомиздат, 1982, с.25. * |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Durrum | Continuous Electrophoresis and Ionophoresis on Filter Paper1 | |
| Stein et al. | [22] Autoradiography | |
| DE2029463C3 (de) | Bildaufzeichnungs und/oder wieder gärvorrichtung | |
| NO163414C (no) | Apparat og fremgangsmaate for magnetronkatodisk paafoering eller sputtering av materiale. | |
| EP2579034A1 (en) | Sample detection method by thin-layer chromatography, thin-layer chromatography plate, and method for producing same | |
| KR860002137A (ko) | 마이크로파 여기 스팟타링 | |
| Russ et al. | A study of the adhesion of electrophoretically deposited phosphors | |
| DE3772706D1 (de) | Anlage zur vakuum-auflagerung durch reaktive kathodenzerstaeubung auf eine glasplatte. | |
| Bowers et al. | Isotope dilution mass spectrometry and the national reference system | |
| Epp et al. | Oxygen diffusion times in bacterial cells irradiated with high-intensity pulsed electrons: new upper limit to the lifetime of oxygen-sensitive species suspected to be induced at critical sites in bacterial cells | |
| Zhou et al. | Achieving extra-high-quality images in ToF-SIMS molecular imaging of insulating samples using a low current O2+ auxiliary beam and back side au coating | |
| GB701514A (en) | Improvements in and relating to methods for the manufacture of cathode ray tube screens | |
| CN109187717B (zh) | 一种植物中外源有机污染物的检测方法 | |
| Anbar et al. | Field ionization-field desorption source for nonfragmenting mass spectrometry | |
| McGee et al. | High Quality Phosphor Screens for Cascade Image Intensifies | |
| Yamada et al. | MeV-energy probe SIMS imaging of major components in animal cells etched using large gas cluster ions | |
| EP0776987A1 (de) | Vakuumbeschichtungsanlage mit einem in der Vakuumkammer angeordneten Tiegel zur Aufnahme von zu verdampfendem Material | |
| CN1017354B (zh) | 用离子束反应溅射方法成膜的装置 | |
| Griffith et al. | Contrast effects in photoelectron microscopy: UV dose-dependent quantum yields of biological surface components | |
| Weaver et al. | The molecule microscope: a new instrument for biological and biomedical research | |
| Chiu | A luminescent and fluorescent region associated with prebreakdown and breakdown in n-hexane | |
| Murphy et al. | Electrospray loading of field desorption emitters and desorption chemical ionization probes | |
| Okawa et al. | Proton implantation into living cells under nonvacuum atmosphere | |
| KR20160079752A (ko) | 말디톱 질량분석기에 이용가능한 시료 플레이트 및 상기 시료 플레이트의 제조방법 | |
| JP7262220B2 (ja) | 質量分析計を用いた粒子測定法 |