SE534312C2 - Anordning samt förfarande för rengöring av filterelement - Google Patents
Anordning samt förfarande för rengöring av filterelementInfo
- Publication number
- SE534312C2 SE534312C2 SE0950832A SE0950832A SE534312C2 SE 534312 C2 SE534312 C2 SE 534312C2 SE 0950832 A SE0950832 A SE 0950832A SE 0950832 A SE0950832 A SE 0950832A SE 534312 C2 SE534312 C2 SE 534312C2
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- filter
- spray nozzle
- filter cloth
- disc
- flushing
- Prior art date
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 28
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 claims description 46
- 230000035508 accumulation Effects 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D33/00—Filters with filtering elements which move during the filtering operation
- B01D33/15—Filters with filtering elements which move during the filtering operation with rotary plane filtering surfaces
- B01D33/21—Filters with filtering elements which move during the filtering operation with rotary plane filtering surfaces with hollow filtering discs transversely mounted on a hollow rotary shaft
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D33/00—Filters with filtering elements which move during the filtering operation
- B01D33/44—Regenerating the filter material in the filter
- B01D33/46—Regenerating the filter material in the filter by scrapers, brushes nozzles or the like acting on the cake-side of the filtering element
- B01D33/463—Regenerating the filter material in the filter by scrapers, brushes nozzles or the like acting on the cake-side of the filtering element nozzles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D33/00—Filters with filtering elements which move during the filtering operation
- B01D33/44—Regenerating the filter material in the filter
- B01D33/48—Regenerating the filter material in the filter by flushing, e.g. counter-current air-bumps
- B01D33/50—Regenerating the filter material in the filter by flushing, e.g. counter-current air-bumps with backwash arms, shoes or nozzles
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
Anordning samt förfarande för rengöring av filterduk (4) anordnad påminst ett filterelement (3), vilket minst ett filterelement (3) bildar ett roterbartskivfilter (1), innefattande minst ett sprutmunstycke (5) för distribution avrengöringsvätska på filterduken (4). Minst ett sprutmunstycke (5) ärflyttbart iåtminstone skivfiltrets (1) Iängdriktning (L) mellan fördefinierade avstånd frånfilterduken (4). En dylik anordning åstadkommer en rengöringsanordning (2)för skivfilter (1) vilken ej behöver utnyttja ett energikrävande högtryck, samtvilken rengör åtminstone en majoritet av filterdukens (4) yta vid en ochsamma tidpunkt. (Fig. 1)
Description
25 30 35 5311 312 2 heller kan hela det enskilda filterelementets yta rengöras samtidigt eller under maximalt ett av filterelementets rotationsvarv.
Sammanfattnirg av uppfinningen Ett ändamål med den föreliggande uppfinningen är att åstadkomma en spolanordning för skivfilter vilken ej behöver utnyttja ett energikrävande högtryck, samt vilken rengör åtminstone en majoritet av skivfiltrets filterduk vid en och samma tidpunkt eller under maximalt ett av filterelementets rotationsvarv. Det är även önskvärt att trycket skall kunna justeras lokalt, samt att rengöring kan utföras kontinuerligt utan tidskrävande avbrott såsom vid förflyttning av spolanordningen.
Enligt en utföringsform av uppfinningen uppnås dessa och andra ändamål av en anordning för rengöring av filterduk anordnad på minst ett filterelement, vilket minst ett filterelement bildar ett roterbart skivfilter, innefattande minst ett sprutmunstycke för distribution av rengöringsvätska på filterduken, kännetecknad av att minst ett sprutmunstycke är flyttbart i åtminstone skivfiltrets längdriktning mellan fördefinierade avstånd från filterduken.
Eftersom sprutmunstycket är flyttbart i skivfiltrets längdriktning behöver högtryck ej användas, då rengöringstrycket på filterduken ökas vid behov genom själva förflyttningen.
Anordningen innefattar ett flertal sprutmunstycke, vilket gör att ett flertal filterdukar altemativt en större andel av en filterduk kan rengöras samtidigt.
Minst ett sprutmunstycke är flyttbart inom en yta vilken begränsas av filterelementets omkrets, vilket möjliggör rengöring av en stor del av minst en filterduk med endast ett eller ett fåtal sprutmunstycke.
Minst ett sprutmunstycke år anordnat på minst ett spolningsrör, varvid minst ett spolningsrör är flyttbart i åtminstone skivfiltrets längdriktning mellan fördefinierade avstånd från filterduken.
Eftersom spolningsröret är flyttbart i skivfiltrets längdriktning behöver högtryck ej användas, då rengöringstrycket på filterduken ökas vid behov genom förflyttningen.
Minst ett spolningsrör år flyttbart inom en yta vilken begränsas av filterelementets omkrets, vilket möjliggör rengöring av en stor del av minst en filterduk med endast ett eller ett fåtal spolningsrör. 10 15 20 25 30 35 534 312 3 Minst ett spolningsrör är anordnat på en spolramp, varvid spolrampen och/eller skivfiltret är flyttbara, i förhållande till varandra, i skivfiltrets längdriktning.
Då spolrampen och/eller skivfiltret är fiyttbara i skivfiltrets längdriktning behöver högtryck ej användas, då rengöringstrycket på filterduken ökas vid behov genom själva förflyttningen.
Spolningsröret är roterbart anordnat på spolrampen, vilket ger minskat antal komponenter då två motsatta filterdukar kan rengöras via ett och samma spolningsrör.
Rengöringsvätskan i anordningen distribueras vid ett tryck lägre än 15 bar, företrädesvis ett tryck mellan 6-10 bar. Ett lägre användningstryck leder till att mindre effekt krävs för att driva anordningen under rengöring.
Skivfiltret innefattar ett flertal filterelement, vilket ger ett effektivare skivfilter då en större vätskevolym kan filtreras vid en och samma tidpunkt.
Avståndet mellan två intilliggande filterelement är mindre än 16 cm, företrädesvis 12 cm. 16 cm är ett normalt avstånd mellan filterelement i skivfilter. Med denna anordning kan avståndet mellan filterelementen minskas, vilket ger ett volymmässigt mindre skivfilter men med samma kapacitet.
Sprutmunstycket kan förflyttas i längdriktning, över det fördefinierade avståndet, företrädesvis mellan 4 och 8 cm från filterduken, vilket gör att både vätskans tryck och spridningsarea kan varieras.
Flödet av rengöringsvätska från nämnda sprutmunstycke täcker en större del av filterdukens area och har en mindre koncentrerad stråle vid det största avståndet från filterduken, samt täcker en mindre del av filterdukens area och har en mer koncentrerad stråle vid det minsta avståndet från filterduken.
Detta ger stor valfrihet vad gäller önskad effekt av rengöringsvätskan.
Vid det uppfinningsenliga förfarandet för rengöring av filterduk anordnad på minst ett filterelement, vilket minst ett filterelement bildar ett roterbart skivfilter, innefattande minst ett sprutmunstycke för distribution av rengöringsvätska på filterduken, förflyttas minst ett sprutmunstycke i åtminstone skivfiltrets längdriktning mellan fördefinierade avstånd från filterduken.
Eftersom sprutmunstycket är flyttbart i skivfiltrets längdriktning behöver högtryck ej användas, då rengöringstrycket på filterduken ökas vid behov genom själva förflyttningen. 10 15 20 25 30 35 534 3'l2 4 Minst ett sprutmunstycke är flyttbart inom en yta vilken begränsas av filterelementets omkrets, vilket möjliggör rengöring av en stor del av minst en filterduk med endast ett eller ett fåtal sprutmunstycke.
Minst ett sprutmunstycke är anordnat pà minst ett spolningsrör, varvid minst ett spolningsrör förflyttas i åtminstone skivfiltrets längdriktning mellan fördefinierade avstånd från filterduken.
Eftersom spolningsröret är flyttbart i skivfiltrets längdriktning behöver högtryck ej användas, då rengöringstrycket på filterduken ökas vid behov genom förflyttningen.
Minst ett spolningsrör är flyttbart inom en yta vilken begränsas av filterelementets omkrets, vi|ket möjliggör rengöring av en stor del av minst en filterduk med endast ett eller ett fåtal sprutmunstycke.
Minst ett spolningsrör är anordnat på en spolramp, varvid spolrampen och/eller skivfiltret förflyttas, i förhållande till varandra, i skivfiltrets längdriktning.
Då spolrampen och/eller skivfiltret är flyttbara, i förhållande till varandra, i skivfiltrets längdriktning behöver högtryck ej användas, då rengöringstrycket på filterelementet ökas vid behov genom förflyttningen.
Spolningsröret är roterbart anordnat på spolrampen, vilket ger minskat antal komponenter då två motsatta filterdukar kan rengöras via ett och samma spolningsrör.
Rengöringsvätskan i anordningen distribueras vid ett tryck lägre än 15 bar, företrädesvis ett tryck mellan 6-10 bar. Ett lägre användningstryck leder till att mindre effekt krävs för att driva anordningen under rengöring.
Sprutmunstycket förflyttas i längdriktning, över det fördefinierade avståndet, företrädesvis mellan 4 och 8 cm från filterelementet, vi|ket ger att både vätskans tryck och spridningsarea kan varieras.
Kort beskrivning av ritnindarna Uppfinningen kommer att beskrivas närmare i det följande under hänvisning till bifogade schematiska ritning som i exemplifierande syfte visar för närvarande föredragna utföringsformer av uppfinningen.
Figur 1 är en perspektivskiss som schematiskt visar principen för ett skivfilter och en föredragen utföringsform av den uppfinningsenliga rengöringsanordningen.
Figur 2 är en perspektivskiss som schematiskt visar ett flertal sprutmunstycken anordnade på en sida av ett spolningsrör, enligt en 10 15 20 25 30 35 534 312 5 föredragen utföringsform av den uppfinningsenliga rengöringsanordningen, samt spridningen av rengöringsvätska på en yta vid två olika avstånd från sprutmunstyckena.
Figur 3 är en perspektivskiss som schematiskt visar ett flertal sprutmunstycken anordnade på två sidor av ett spolningsrör, enligt en föredragen utföringsform av den uppfinningsenliga rengöringsanordningen, samt spridningen av rengöringsvätska på en yta vid två olika avstånd från sprutmunstyckena.
Detalierad beskrivnlnggav en föredragen utföringsform Principen för uppbyggnad av ett skivfilter 1 och en rengöringsanordning 2 enligt uppfinningen kommer att förklaras med hänvisning till figur 1.
Grundprincipen för ett skivfilter 1 är att den vätska som ska filtreras leds in genom en ände av en central, roterbar trumma och vidare genom öppningar i trummans omkrets radiellt utåt till minst ett filterelement 3.
Fiiterelementet 3 består av en ram på vilken en filterduk 4 är anordnad.
Därifrån leds vätskan i en filtreringsriktning ut genom filterduken 4. Eventuella partiklar i vätskan fastnar på insidan av filterduken 4.
Skivfiltret 1 innefattar även en rengöringsanordning 2. Genom rengöringsanordningen 2 leds trycksatt rengöringsvätska, vilken sedan sprutas, i motsatt riktning från filtreringsriktningen, på filterelementets 3 filterduk 4 för att tvätta bort eventuella ansamlingar från nämnda yta.
Ansamlingarna spolas tillbaka inuti filterelementet 3 och leds till en ränna vilken avleder ansamlingarna.
Rengöringsanordningen 2 består enligt en föredragen utföringsform av minst ett sprutmunstycke 5. Ett eller ett flertal sprutmunstycke 5 kan vara anordnade på ett eller flera spolningsrör 6, varvid sprutmunstyckena 5 kan vara riktade åt samma eller åt skilda håll beroende på behovet vid det aktuella tillfället, se figur 2 och figur 3.
Sprutmunstycket 5 kan, i en utföringsform, förflyttas fritt inom filterelementets 3 radiella plan, alltså inom den area vars ytterkant definieras av filterelementets 3 omkrets.
Sprutmunstycket 5 kan förflyttas i skivfiltrets 1 längdriktning L mot och/eller från ett, eller två, filterelements 3 filterduk 4. Förflyttningen kan utföras linjärt eller stegvis, och sprutmunstycket 5 stannar vid fördefinierade avstånd från filterduken 4. Förflyttningen kan utföras i samma eller motsatt riktning som flödet av rengöringsvätska. 10 15 20 25 30 35 534 312 6 Sprutmunstycket 5 kan företrädesvis förflyttas i längdriktning mellan 4 och 8 cm från filterduken 4. Flödet av rengöringsvätska från sprutmunstycket 5 täcker en större del av filterdukens 4 area och har en mindre koncentrerad stråle vid det största avståndet från filterduken, samt täcker en mindre del av filterelementets area och har en mer koncentrerad stråle vid det minsta avståndet från filterduken.
Spolningsröret 6 är i sin tur anordnat på en spolramp 7. Spolrampen 7 sträcker sig parallellt med skivfiltrets 1 centrumaxel C, utanför nämnda minst ett filterelements 3 omkrets. Minst ett spolningsrör 6 sträcker sig från spolrampen 7 i höjd med filterdukens 4 yta. Spolningsröret 6 är fast eller roterbart anordnat, beroende på behov. Med roterbart avses här även rotation kring spolrörets 6 infästning i spolrampen 7, i både x-, y-, och z-led.
Filterelementen hos ett skivfilter är vanligen anordnade med ett mellanrum på 16 cm. Enligt en föredragen utföringsform har detta avstånd minskats, företrädesvis till 12 cm.
Spolningsröret 6 kan, i en utföringsform, förflyttas fritt inom filterelementets 3 radiella plan, alltså inom den area vars ytterkant definieras av filterelementets 3 omkrets. Det kan även förflyttas i skivfiltrets längdriktning L mot och/eller från ett, eller två, filterelements 3 filterduk 4. Förflyttningen kan utföras linjärt eller stegvis, och spolningsröret 6, eller det därtill anordnade sprutmunstycket 5, stannar vid fördefinierade avstånd från filterduken 4. Även spolrampen 7 kan förflyttas i skivfiltrets 3 längdriktning L.
Förflyttningen kan utföras linjärt eller stegvis, och spolrampens 7 rörelse är inställd så att sprutmunstycket 5 stannar vid fördefinierade avstånd från filterduken 4. l en ytterligare utföringsform är spolrampen 7 stillastående medan skivfiltret 1 förflyttas i skivfiltrets längdriktning L. Ytterligare ett alternativ är att både spolramp 7 och skivfilter 1 rör sig, i förhållande till varandra, i längdriktningen L.
Rengöringsvätskan spolas genom spolrampen 7 och spolningsröret 6 ut genom sprutmunstycket 5. Endast rengöringsvätskan som spolar ut ur sprutmunstycket 5 rör filterduken 4, varvid filterduken 4 blir rengjord.
De parametrar som används vid beräkningen av vätskeflödet och de olika komponentemas rörelse i längdriktningen L är t.ex. vätsketryck, vätskespridning, filterelementets 3 rotationshastighet samt rengöringsanordningens 2 förflyttningsrlktning och -hastighet. 10 15 534 312 7 Vätsketrycket förblir under 15 bar, och ligger med fördel i ett intervall mellan 6-10 bar.
Det inses att en mängd modifieringar av de häri beskrivna utföringsformerna av uppfinningen är möjliga inom ramen för uppfinningen, vilken definieras i de efterföljande patentkraven. Rengöringsanordningen 2 kan vara tillverkad på alternativa sätt och t.ex. bestå av andra komponenter än spolramp 7 och spolningsrör 6. Rengöringsanordningen 2 kan vara av en mindre storlek än angivet, och endast täcka en mindre del av skivfiltret 1 åt gängen. De parametrar som används för att beräkna avståndet mellan sprutmunstycke 5 och filterduken 4 kan vara andra än de som angetts här.
Olika delar av anordningen, såsom spolramp 7 eller spolningsrör 6 kan vara rörliga, både enstaka delar eller flera i kombination med varandra. Dessutom kan rengöringsanordningen 2 användas för rengöring av andra anordningar än skivfilter 1.
Claims (20)
1. Anordning för rengöring av filterduk (4) anordnad på minst ett filterelement (3), vilket minst ett filterelement (3) bildar ett roterbart skivfilter (1), innefattande minst ett sprutmunstycke (5) för distribution av rengöringsvätska på filterduken (4), kännetecknad av att nämnda minst ett sprutmunstycke (5) är flyttbart i åtminstone skivfiltrets (1) längdriktning (L) mellan fördefinierade avstånd från filterduken (4).
2. Anordningen enligt krav 1, innefattande ett flertal sprutmunstycke (5)-
3. Anordningen enligt något av föregående krav, varvid minst ett sprutmunstycke (5) är flyttbart inom en yta vilken begränsas av filterelementets (3) omkrets.
4. Anordningen enligt något av föregående krav, varvid minst ett sprutmunstycke (5) är anordnat på minst ett spolningsrör (6), kännetecknad av att minst ett spolningsrör (6) är flyttbart i åtminstone skivfiltrets (1) längdriktning (L) mellan fördefinierade avstånd från filterduken (4).
5. Anordningen enligt krav 4, varvid minst ett spolningsrör (6) är flyttbart inom en yta vilken begränsas av filterelementets (3) omkrets.
6. Anordningen enligt något av kraven 4-5, varvid minst ett spolningsrör (6) är anordnat på en spolramp (7), varvid spolrampen (7) och/eller skivfiltret (1) år flyttbara, i förhållande till varandra, i skivfiltrets (1) längdriktning (L).
7. Anordningen enligt krav 6, varvid nämnda spolningsrör (6) är roterbart anordnat på spolrampen (7).
8. Anordningen enligt något av föregående krav, varvid rengöringsvätskan distribueras vid ett tryck lägre än 15 bar, företrädesvis ett tryck mellan 6-10 bar.
9. Anordningen enligt något av föregående krav, varvid skivfiltret (1) innefattar ett flertal filterelement (3).
10. Anordningen enligt krav 9, varvid avståndet mellan två intilliggande filterelement (3) är mindre än 16 cm, företrädesvis 12 cm.
11. Anordningen enligt något av föregående krav, varvid nämnda sprutmunstycke (5) förflyttas i längdriktning, över det fördefinierade avståndet, mellan företrädesvis 4 och 8 cm från filterduken (4)
12. Anordningen enligt något av föregående krav, varvid flödet av rengöringsvätska från sprutmunstycket (5) täcker en större del av filterdukens (4) area och har en mindre koncentrerad stråle vid det största avståndet från 10 15 20 25 30 534 312 9 filterduken (4), samt täcker en mindre del av filterdukens (4) area och har en mer koncentrerad stråle vid det minsta avståndet från filterelementet.
13. Förfarande för rengöring av filterduk (4) anordnad på minst ett filterelement (3), vilket minst ett filterelement (3) bildar ett roterbart skivfiiter (1 ), innefattande minst ett sprutmunstycke (5) för distribution av rengöringsvätska på filterduken (4), kännetecknat av att nämnda minst ett sprutmunstycke (5) förflyttas i åtminstone skivfiltrets (1) längdriktning (L) mellan fördefinierade avstånd från filterduken (4).
14. Förfarande enligt krav 13, varvid minst ett sprutmunstycke (5) är flyttbart inom en yta vilken begränsas av filterelementets (3) omkrets.
15. Förfarande enligt något av kraven 13-14, varvid minst ett sprutmunstycke (5) är anordnat på minst ett spolningsrör (6), kännetecknat av att minst ett spolningsrör (6) förflyttas i åtminstone skivfiltrets (1) längdriktning (L) mellan fördefinierade avstånd från filterduken (4).
16. Förfarande enligt krav 15, varvid minst ett spolningsrör (6) är flyttbart inom en yta vilken begränsas av filterelementets (3) omkrets.
17. Förfarande enligt något av kraven 15-16, varvid minst ett spolningsrör (6) är anordnat på en spolramp (7), varvid spolrampen (7) och/eller skivfiltret (1) förflyttas, i förhållande till varandra, i skivfiltrets (1) längdriktning (L).
18. Förfarande enligt krav 17, varvid nämnda spolningsrör (6) kan rotera i förhållande till spolrampen (7).
19. Förfarande enligt något av kraven 13-18, varvid rengöringsvätskan distribueras vid ett tryck lägre än 15 bar, företrädesvis ett tryck mellan 6-10 bar.
20. Förfarande enligt något av kraven 13-19, varvid sprutmunstycke (5) förflyttas i längdriktning, över det fördefinierade avståndet, företrädesvis mellan 4 och 8 cm från filterelementet (3).
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE0950832A SE534312C2 (sv) | 2009-11-05 | 2009-11-05 | Anordning samt förfarande för rengöring av filterelement |
| PCT/SE2010/051189 WO2011056129A1 (en) | 2009-11-05 | 2010-11-02 | Device and method for cleaning of filter elements |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE0950832A SE534312C2 (sv) | 2009-11-05 | 2009-11-05 | Anordning samt förfarande för rengöring av filterelement |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SE0950832A1 SE0950832A1 (sv) | 2011-05-06 |
| SE534312C2 true SE534312C2 (sv) | 2011-07-05 |
Family
ID=43970163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SE0950832A SE534312C2 (sv) | 2009-11-05 | 2009-11-05 | Anordning samt förfarande för rengöring av filterelement |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| SE (1) | SE534312C2 (sv) |
| WO (1) | WO2011056129A1 (sv) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3215244A1 (de) * | 2014-11-03 | 2017-09-13 | ZIEMANN HOLVRIEKA GmbH | Vorrichtung, system und verfahren zur extraktion und filtration einer suspension, vorzugsweise enthaltend pflanzenbestandteile mittels rotierenden filterelementen |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE9319221U1 (de) * | 1993-12-15 | 1994-02-03 | B & M Blumenbecker GmbH, 59269 Beckum | Vorrichtung zum Reinigen, insbesondere von Kohlestaubfiltern |
| DK1961475T3 (da) * | 2007-02-21 | 2020-08-31 | Veolia Water Solutions & Tech | Højtryksrensningsanordning |
-
2009
- 2009-11-05 SE SE0950832A patent/SE534312C2/sv unknown
-
2010
- 2010-11-02 WO PCT/SE2010/051189 patent/WO2011056129A1/en not_active Ceased
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3215244A1 (de) * | 2014-11-03 | 2017-09-13 | ZIEMANN HOLVRIEKA GmbH | Vorrichtung, system und verfahren zur extraktion und filtration einer suspension, vorzugsweise enthaltend pflanzenbestandteile mittels rotierenden filterelementen |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2011056129A1 (en) | 2011-05-12 |
| SE0950832A1 (sv) | 2011-05-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5325119B2 (ja) | フィルタ・クロスを洗浄するためのデバイス及び方法 | |
| US20160325208A1 (en) | Device for Removing Impurities from a Liquid and Method for Cleaning a Corresponding Device | |
| WO2014196238A1 (ja) | 浄化装置を備えた塗装ブース | |
| WO2010131564A1 (ja) | 浄化装置を備えた塗装ブース | |
| EP2457633A1 (en) | Rotary nozzle for gas scrubbing in exhaust pipes | |
| JP4303790B2 (ja) | 向流清浄に関するろ過装置 | |
| US20200208928A1 (en) | Heat exchanger exterior surface cleaning system, method of retrofitting a heat exchanger with a cleaning system, and method of cleaning a heat exchanger | |
| US20170209824A1 (en) | Low Water Usage Wet Scrubber | |
| KR101473666B1 (ko) | 습식세정장치 | |
| KR20140097888A (ko) | 집진장치 | |
| SE1051094A1 (sv) | Anordning för rengöring av en filterduk i ett skivfilter innehållande ett kompakt sprutmunstycke | |
| CN206009304U (zh) | 移动式谷物清洗器 | |
| SE534312C2 (sv) | Anordning samt förfarande för rengöring av filterelement | |
| KR101790408B1 (ko) | 미스트 포집장치 | |
| SE531514C2 (sv) | Förfarande och anordning för avvattning av en fibersuspension tillförd genom ett munstyckesaggregat | |
| CN202860251U (zh) | 带式过滤机滤带的清洗装置和带式过滤机 | |
| KR101657139B1 (ko) | 무동력 역세필터 장치 | |
| JP6323906B2 (ja) | オイルミスト除去装置 | |
| JP2016034628A (ja) | 浄化装置 | |
| JP6514802B2 (ja) | オイルミスト除去装置 | |
| TW201903930A (zh) | 半導體製程之方法 | |
| KR20130055277A (ko) | 흄 집진 장치 |