SU1237280A1 - Method of producing female die for blanking die set - Google Patents
Method of producing female die for blanking die set Download PDFInfo
- Publication number
- SU1237280A1 SU1237280A1 SU843737790A SU3737790A SU1237280A1 SU 1237280 A1 SU1237280 A1 SU 1237280A1 SU 843737790 A SU843737790 A SU 843737790A SU 3737790 A SU3737790 A SU 3737790A SU 1237280 A1 SU1237280 A1 SU 1237280A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- matrix
- punch
- layer
- die
- working
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 27
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 16
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 15
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 3
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 3
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 3
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- DITXJPASYXFQAS-UHFFFAOYSA-N nickel;sulfamic acid Chemical compound [Ni].NS(O)(=O)=O DITXJPASYXFQAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZQLBQWDYEGOYSW-UHFFFAOYSA-L copper;disulfamate Chemical compound [Cu+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O ZQLBQWDYEGOYSW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIKYYQJBTPYKSG-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni].[Ni] XIKYYQJBTPYKSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
1 one
Изобретение относитс к обработке металлов давлением и может быть использовано в инстгументальном производстве машиностроительных отрасл х промышленности.The invention relates to the processing of metals by pressure and can be used in the instumental production of machine building industries.
Целью изобретени вл етс повышение стойкости матрицы и улучшение качества штампуемых деталей.The aim of the invention is to increase the durability of the die and improve the quality of the parts to be stamped.
На фиг. 1 схематично изображен пуансон с гальванопластическим покрытием; на фиг. 2 - гальванопластическа матрица и способ креплени формообразующих элементов штампа. FIG. 1 shows schematically a plunger with an electroformed coating; in fig. 2 - a galvanoplastic matrix and a method for fastening forming elements of a stamp.
Способ осуществл етс следующим образом.The method is carried out as follows.
Изготовл ют металлический пуансон 1 механической обработкой затем на рабочую поверхность пуансона осаждают слой 2 химического никел , соответствующий по толщине технологическому зазору между матрицей и пуансоном . Этот слой пассивируют на. воздухе с образованием окисной пленки,Затем на пуансон неравномерно осадда- ют слой металла по длине пуансона в процессе его извлечени из электро Лита 3, профиль которого в дальнейшем оформл ет и профиль рабочего и провального окон матрицы. Далее по- верхность электролитического осадка паунсона пассивируют на воздухе с образованием окисной пленки 4 и йро- извод т электроосаждение рабочего и конструкционного слоев матрицы 5. После механической обработки пуансо - на с наращ енным осадком, не отдел пуансон от матрицы,их устанавливают соответственно в матричную плиту 6 и на пуансонодержатёль 7 на эпоксидный клей 8. После согласовани натри цы с пуансоном отдел ют пуансон от матрицы и удал ют материал временного покрыти 9 из .гальванопласгичес- кой матрицы 10. Зачтем механической обработкой производ т доводку размеров и профил рабочего отверсти матрицы.A metal punch 1 is fabricated by machining, and a layer 2 of chemical nickel is deposited on the working surface of the punch, corresponding in thickness to the technological gap between the die and the punch. This layer is passivated on. air with the formation of an oxide film. Then, a metal layer is unevenly deposited on the punch along the length of the punch during its extraction from electrolyte Lithium 3, the profile of which further shapes the profile of the working and failure windows of the matrix. Next, the surface of the electrolytic precipitate of the Punson is passivated in air with the formation of an oxide film 4 and the electrodeposition of the working and structural layers of the matrix 5 is made. After mechanical treatment of the pierce with increased sediment, the punch is not separated from the matrix; The slab 6 and the platen holder 7 on the epoxy adhesive 8. After adjusting the sodium with the punch, the punch is separated from the die and the material of the temporary coating 9 is removed from the galvanoplastic matrix 10. Read the mechanical By means of processing, the dimensions and the profile of the working hole of the die are adjusted.
Пример. По пуансону, изготовленному из стали У10А с твердостью HRC 56-58, изготовл матрицу беззазорного вырубного штампа дл штамповки деталей из молибденовой ленты (марки М4) толщиной 0,1 .Вна чале на пуансон наносили слой из никел , соответствующий зазору между матрицей и паунсоном, путем осаж дени химического никел из водного раствора, который вл етс также разExample. On a punch made of U10A steel with a hardness of HRC 56-58, I made a matrix of a backlash-free die for punching parts out of 0.1 mm thick molybdenum tape (mark M4). by precipitating a chemical nickel from an aqueous solution that is also
372802372802
делительным слоем. Подготовка поверхности металлического пуансона перед нанесением покрыти включила обезжиривание бензином, промьшку в гор 3 чей проточной воде, обезжиривание венской известью промывку в холодной проточной воде, активацию в 10%-ном растворе сол ной кислоты в течение 10-30 с, промьшку в холоднойdividing layer. Preparing the surface of the metal punch before coating included degreasing with gasoline, rinsing in hot running water, degreasing with Vienna lime washing in cold running water, activation in 10% hydrochloric acid for 10-30 seconds, rinsing in cold
10 проточной воде и промьшку в дистиллированной воде. После этого пуансон погружали в раствор химического никелировани с рН 6,1-6,2 следующего состава, г/л:10 running water and rinse in distilled water. After that, the punch was immersed in a solution of chemical nickel plating with a pH of 6.1-6.2 of the following composition, g / l:
2020
2525
30thirty
3535
4040
4545
;50;50
3535
Никель сернокислый 30 Гипофосфит натри 15 Уксуснокислый натрий 10Nickel sulfate 30 Sodium hypophosphite 15 Sodium acetate 10
Толщина осаждаемого сло состав- .л ла 5% от толщины штампуемой детали ., .т.е. 5 мкм. Осаждение производили в термостойком химическом стакане емкостью 1000 мл, который был помещен , в ультратермостат. Осаждение химического никел производили при температуре раствора вб-бв С. Скорость осаждени при этом составл ла 20 мкм/ч при плотности загрузки 0,4-0,6 дм /л. После осаждени химического никел на пуансон наносили временное покрытие, обеспечива- кщее в процессе изготовлени матрицы конусность рабочего отверсти матрицы . В качестве материала покрыти был выбран электролитичесусий никель ввиду низкой кислотности .сульфамат- ного электролита, с которым не кор- Фодирует материал пуансона, и л.егкой пассивируемости воверхностного сло никел .на вогщухе. Подготовка поверхности пуансона с нанесенным слоем хюшческого никел перед электро- оса адением никел включала обезжиривание венской известью, промывку холодной проточной Водой и промьшку дистиллированной водой. Завешивание пуансона в ванну никелировани производили на специальном приспособлении , которое позвол ло удерживать пуансон в строго вертикальном положении в течение всего цикла нара- Щ{ваки . Аноды .марки НПАН завешивали в гальваническую ванну параллельно пуансону. Величина межэлектродного рассто ни оставалась посто нной во всех опытах и составл ла 150 мм. Состав электролита и режимы осаждени :The thickness of the deposited layer was 5% of the thickness of the part to be stamped. 5 microns. Deposition was carried out in a 1000 ml heat-resistant beaker, which was placed in an ultra thermostat. Chemical nickel was deposited at a temperature of ib-bv C solution. At the same time, the deposition rate was 20 µm / h with a loading density of 0.4-0.6 dm / l. After the deposition of chemical nickel, a temporary coating was applied to the punch, which in the process of fabricating the matrix made the taper of the working hole of the matrix. Electrolytic nickel was chosen as the coating material due to the low acidity of the sulfamate electrolyte, which is not corrosive to the material of the punch, and easy passivation in the surface layer of nickel on the outer gut. The preparation of the surface of the punch with the deposited layer of nickel nickel before the electrosus by nickel deposition included degreasing with Viennese lime, rinsing with cold running Water and washing with distilled water. Hanging the punch in the nickel plating bath was carried out on a special device that allowed the punch to be kept in a strictly vertical position during the entire cycle. The anodes of the NPAN brand were hung in a galvanic bath parallel to the punch. The interelectrode distance remained constant in all experiments and was 150 mm. The composition of the electrolyte and deposition modes:
Никель сульфаминовокисльйNickel sulfamic acid
г/лg / l
340-360340-360
3-5 30-353-5 30-35
0,1-1,0 4,00.1-1.0 4.0
Никель двухлористый, г/лNickel dichloride, g / l
Кислота борна ,г/л Натрий лаурилсуль- фат, г/л рН .Bourne acid, g / l Sodium lauryl sulfate, g / l pH.
Катодна плотность тока, А/дм 2Cathode current density, A / dm 2
Во врем осаждении никел дл . создани конуса пуансон медленно извлекали из электролита, корректиру . при этом режим электроосаждени в соответствии с площадью погруженной в электролит части пуансона.During the deposition of nickel dl. making a cone the punch was slowly removed from the electrolyte, corrected. at the same time, the mode of electrodeposition is in accordance with the area of the part of the punch immersed in the electrolyte.
Углы наклона Ы, и соответственно принимали 10 и 2, при этом максимальна толщина электроосажден ного никел на рабочей и нерабочей част х пуансона (оформл юща соответственно рабочее и провальное рк матрицы) составл ла соответственно 11 и 30 мкм. После создани конуса поверхность осадка пассивировали на воздухе (чтопозвол ло в дальнейшем легко отделить рабочий слой матрицы от материала временного покрыти ) , обезжиривали венской известью, промьшали в холодной и дистиллиро- ванной воде. На подготовленный таки обра зом паунсон осаждали рабочий сло из сернокислого электролита сплава никель-кобальт, Состав электролита и режимы осаждени : Никель сернокислый,г/л 200 Кобальт сернокислый,г/л .19 Натрий хлористый,г/л 15 Кислота борна ,г/л 30 Паратолуолсульфамид,г/л 0,1 Натрий лаурилсульфат,г/л 0,1 рН 4,8-5,2 The angles of inclination, Ы, and, respectively, were 10 and 2, with the maximum thickness of the electrodeposited nickel on the working and non-working parts of the punch (forming the matrix and working matrix, respectively) were 11 and 30 microns, respectively. After the cone was created, the surface of the precipitate was passivated in air (which allowed later to easily separate the working layer of the matrix from the material of the temporary coating), degreased with Vienna lime, washed in cold and distilled water. A working layer of nickel-cobalt alloy electrolyte sulphate electrolyte was deposited on the prepared paunson. Electrolyte composition and deposition modes: Nickel sulphate, g / l 200 Cobalt sulphate, g / l. 19 Sodium chloride, g / l 15 Boron acid, g / l l 30 Paratoluolsulfamid, g / l 0.1 Sodium lauryl sulfate, g / l 0.1 pH 4.8-5.2
Катодна плотностьCathode density
тока, А/дм Температура,Сcurrent, A / dm Temperature, C
0,8-1,0 20-220.8-1.0 20-22
После осаждени рабочего сло из электролита никель-кобальт толщиной 1,5-мм осаждали конструкционный слой из сернокислого электролита меди толщиной 8,5 мм. Состав электролита и режимы осаждени :After the working layer was deposited from the electrolyte, 1.5 mm thick nickel-cobalt precipitated a 8.5 mm thick structural layer of copper sulphate electrolyte. The composition of the electrolyte and deposition modes:
Медь сернокисла ,г/л 200-220 Кислота серна ,г/л 50-70 Спирт этиловый,мл/л 5-10 Катодна плотность тока,Copper sulfate, g / l 200-220 Sulfuric acid, g / l 50-70 ethyl alcohol, ml / l 5-10 Cathodic current density,
Температура,С18-25Temperature, C18-25
10ten
15 15
20 25 30 ,, Q 20 25 30 ,, Q
5five
0 0
5 five
Затем пуансон с гальванопластическим , осадком механически обрабатывали , создава промежуточную базовую поверхность. После механической обработки пуансон и матрицу устанавливали в пуансокодержатель 7 и матричные плиты 6 на эпоксидном компаунде 8 (фиг. 2) следующего состава, вес.ч.:Then the punch with electroforming, sediment mechanically processed, creating an intermediate base surface. After machining, the punch and the die were installed in the punch holder 7 and the matrix plates 6 on the epoxy compound 8 (FIG. 2) of the following composition, parts by weight:
Эпоксидно-дианова смола с содержанием эпоксидных групп 20% 100 Полиэтиленполиамины 13,5 Графит коллоидный 10 Пуансон извлекали из матрицы 10, удал ли материал временного покрыти и производили окончательную сборку формообразук цих элементов штампа. Твердость режущих кромок изготовленной матрицы соответствовала HRC 52. В гальванопластической матрице вырубного штампа была отштампована парти деталей из молибденовой ленты толщиной 0,1 мм в количестве 50 тыс. шт., при этом точность изготовлени деталей соответствовала 8-9 квалитету при шероховат.ости по- верхности среза R 40 мкм.Epoxy-Dianova resin containing 20% epoxy groups 100 Polyethylenepolyamines 13.5 Colloidal graphite 10 The punch was removed from the matrix 10, the temporary coating material was removed, and the stamp elements were finally assembled. The hardness of the cutting edges of the fabricated matrix corresponded to HRC 52. A batch of parts made of molybdenum tape with a thickness of 0.1 mm in the amount of 50 thousand pieces was stamped into the galvanoplastic matrix of the die, while the accuracy of manufacturing parts corresponded to 8–9 quality with a rough cutting surface R 40 microns.
П р и м е р 2. По пуансону, изготовленному из стали 45 с твердостью HRC 38, изготовл ли матрицу вырубного штампа дл штамповки деталей из стали 10 КП толщиной 0,5 мм.Как в примере 1, на пуансон наносили слой из никел , соответствующий необходимому технологическому зазору, путем осаждени химического никел толщиной 25 мкм и далее аналогично получали временное покрытие, обеспечивающее конусность при изготовлении матрицы. При этом длина паунсо- на составл ла 10 мм, рабочей части 4 мм, нерабочей 6 мм. Углы наклона Ы- к соответственно принимали 15 и 3° при этом максимальна толщина электролитического осадка никел на рабочей и нерабочей частей паунсона составл ла соответственно 15 и 44 мкм. После осаждени материала временного покрыти и пассивации поверхности осадка в качестве рабочего сло осаждали никель (из сульфа- матного электролита никелировани ) толщиной 2,0 мм. Состав электролита и режим осаждени :EXAMPLE 2. A die, made of steel 45 with a hardness of HRC 38, was used to make a die die for stamping parts from 10 KP steel with a thickness of 0.5 mm. As in example 1, a layer of nickel was applied to the die, corresponding to the required technological gap, by deposition of chemical nickel with a thickness of 25 µm and further, a temporary coating was obtained similarly, providing taper during the fabrication of the matrix. The length of the punch was 10 mm, the working part was 4 mm, the non-working 6 mm. The angles of inclination of the CN to k, respectively, were 15 and 3 °, while the maximum thickness of the electrolytic deposit of nickel on the working and non-working parts of the poundson was 15 and 44 µm, respectively. After deposition of the temporary coating material and passivation of the surface of the precipitate, nickel (from a sulphate nickel plating electrolyte) 2.0 mm thick was deposited as a working layer. Electrolyte composition and deposition mode:
Никель сульфаминово- кислый,г/л Никель двухлорис340-360Nickel sulfamic acid, g / l Nickel dvuhloris340-360
тый, г/лty, g / l
Кислота борна ,г/лBourne acid, g / l
Натрий лаурилсульфат , г/лSodium lauryl sulfate, g / l
рНpH
Катодна плотностьCathode density
тока,А/дм current, A / dm
Температура,СTemperature, C
Процесс осаждени производили в 2 стадии: зат жка никелем при D 0,3 А/дм в течение 1 ч, затем плотность тока посто нно повышали до рабочей величины (0,5-1,0 А/дм ); после создани рабочего сло осаждали конструкционный слой тохщиной 10 мм из сульфаматного электролита меднени . Состав электролита и режимы осаждени :The deposition process was carried out in 2 stages: pulling in with nickel at D 0.3 A / dm for 1 h, then the current density was constantly increased to the working value (0.5-1.0 A / dm); after the creation of the working layer, the structural layer was deposited with a thickness of 10 mm from the sulfamate copper electrolyte. The composition of the electrolyte and deposition modes:
200-260 100200-260 100
2,5-5,0 0,3-0,82.5-5.0 0.3-0.8
1-21-2
1 1едь сульфаминовокисла ,г/л1 1 sulfamic acid, g / l
Кислота серна ,г/л Калий пирофосфорнокислый , г/лSulfuric acid, g / l Potassium pyrophosphate, g / l
.рН .rn
Катодна плотностьCathode density
тока,А/дмcurrent, A / dm
После осаждени конструкционного сло как и в примере 1, производили механическую обработку осадка дл создани базовой поверхности,затем устанавливали пуансон и матрицу в соответствук цие плиты, отдел ли пуансон от матрицы и извлекали материалы временного покрыти . Твердость режущих кромок матрицы составл ла НРС 32.After deposition of the structural layer, as in Example 1, the sediment was machined to create a base surface, then a punch and a die were installed in the corresponding plate, the punch was separated from the die, and the temporary coating materials were removed. The hardness of the cutting edges of the matrix was HPC 32.
Составитель В.Лукашенко Редактор И.Рыбченко Техред В.Кадар КорректорЕ.СирохманCompiled by V.Lukashenko Editor I.Rybchenko Tehred V.Kadar Corrector E.E. Sirokhman
Заказ 3225/10 Тираж 783ПодписноеOrder 3225/10 Circulation 783 Subscription
ВНИИПИ Государственного комитета СССРVNIIPI USSR State Committee
по делам изобретений и открыт™ 113035, Москва, Ж-35, Раушска наб., д. 4/5on inventions and open ™ 113035, Moscow, Zh-35, Raushsk nab., 4/5
Производственно-полиграфическое предпри тие, г, Ужгород, ул. Проектна , 4Production and printing company, Uzhgorod, st. Project, 4
сриг 2srig 2
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU843737790A SU1237280A1 (en) | 1984-05-07 | 1984-05-07 | Method of producing female die for blanking die set |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU843737790A SU1237280A1 (en) | 1984-05-07 | 1984-05-07 | Method of producing female die for blanking die set |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU1237280A1 true SU1237280A1 (en) | 1986-06-15 |
Family
ID=21117860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU843737790A SU1237280A1 (en) | 1984-05-07 | 1984-05-07 | Method of producing female die for blanking die set |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| SU (1) | SU1237280A1 (en) |
-
1984
- 1984-05-07 SU SU843737790A patent/SU1237280A1/en active
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Романин В.И. и др. Основные конструкторские, технологические и организационные рекомендации -по применению сплава ЭКБ при изготовлении штампов дл холодной листовой штамповки. М.: ВНИИМИ, 1973. * |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4789437A (en) | Pulse electroplating process | |
| Bacher et al. | Fabrication of LIGA mold inserts | |
| US3925170A (en) | Method and composition for producing bright palladium electrodepositions | |
| US8551316B2 (en) | Method of electrodepositing a metallic coating layer containing nickel and molybdenum | |
| EP0110463B1 (en) | A process of electroforming a metal product and electroformed metal product | |
| GB2155493A (en) | Electroplating zinc-iron alloy from alkaline bath | |
| FI96873B (en) | Process for forming a screen material and screen material provided by the method | |
| US3970527A (en) | Electroformation of the running track of a rotary internal combustion engine | |
| CN111411379B (en) | Low-stress nickel-phosphorus alloy roller for microstructure machining and electroplating process thereof | |
| US8110087B2 (en) | Production of a structured hard chromium layer and production of a coating | |
| JP2781362B2 (en) | Manufacturing method of chrome plated products | |
| US3669854A (en) | Zinc electroplating electrolyte and process | |
| US3500537A (en) | Method of making palladium coated electrical contacts | |
| KR900000283B1 (en) | Manufacturing method of zn-ni alloy plated steel strips | |
| US3959109A (en) | Method and apparatus for electroforming | |
| US3793162A (en) | Electrodeposition of ruthenium | |
| EP4259856A1 (en) | Silver-bismuth electrolyte for separating hard silver layers | |
| US5543028A (en) | Electroforming semi-step carousel, and process for using the same | |
| US4297179A (en) | Palladium electroplating bath and process | |
| CN117721507A (en) | A double-pulse electrochemical deposition method for preparing nano-copper-tin alloy | |
| CN114836801B (en) | Multilayer electroplating process of beryllium bronze elastic device | |
| US2799636A (en) | Processing of separable fastener stringers | |
| US3856635A (en) | Formation of the rotor track of a rotary engine | |
| EP2176447B1 (en) | A microporous layer for lowering friction in metal-forming processes | |
| US2594933A (en) | Process for electrodepositing hard nickel plate |