SU338948A1 - Установка для изготовления фотошаблонов - Google Patents
Установка для изготовления фотошаблоновInfo
- Publication number
- SU338948A1 SU338948A1 SU1429170A SU1429170A SU338948A1 SU 338948 A1 SU338948 A1 SU 338948A1 SU 1429170 A SU1429170 A SU 1429170A SU 1429170 A SU1429170 A SU 1429170A SU 338948 A1 SU338948 A1 SU 338948A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- installation
- photomask
- disk
- production
- photoshablons
- Prior art date
Links
- 238000009434 installation Methods 0.000 title description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Description
Изобретение относитс к технологии изготовлени электронных приборов, в частности фотошаблонов микроэлектронных схем.
Известны установки дл изготовлени фотошаблонов , содержащие неподвижную фотоэлектрическую систему и перемещающийс относительно нее по координатам х и у стол с заготовка ми фотощаблонов.
Недостатком таких установок вл етс наличие механических элементов, движущихс неравномерно во врем фо-рмированн изображен .и .
С целью повышени .производительности и надежности установки дл изготовлени фотошаблонов изображение формируетс на равномерно движущейс заготовке фотошаблона с ПОМОЩЬЮ составной диафрагмы, образуемой неподвижной щелевой диафрагмой и совмещаемыми с ней дуговыми диафрагмами на равномерно вращающемс диске.
На фиг. 1, 2 представлена схема установки, вид сбоку и сверху; на фиг. 3 - узел диафрагмы; на фиг. 4 - полученное на заготовке фотошаблона изображение.
Установка содержит щелевую диафрагму / и расположенный под ней диск 2. Экспонирование заготовки фотощаблона 3, распололсенной на столе 4, осуществл етс источником света 5 через объектив 6. Диск 2 и стол 4 получают движение от привода 7. Над диском 2 установлен фотодатчик 8, св занный с управл ющим устройством 9.
При равномерном вращении диска 2 отверстие 10 диафрагмы / (практически имеющее форму квадрата - см. фиг. 3) перемещаетс скачками вдоль щели диафрагмы, пробега ее за полный оборот диска. Оно проектируетс через объектив 5 на заготовку фотошаблона 3, который равномерно перемещаетс вместе со столом 4 перпендикул рно направлению движени изображени отверсти . За один оборот диска 2 стол 4 смещаетс на ширину этого изображени , и за один проход
стола оно обегает всю поверхность заготовки фотошаблона 3. Информаци об угловом положении диска 2, т. е. о положении изображени отверсти 10 на заготовке фотошаблона , поступает с фотодатчика 8 в счетно-решающее управл ющее устройство 9, которое .включает .импульсный распределенный источник света 5 в соответствии с программой, экспониру заданные участки (на фиг. 4 экспонированные участки заштрихованы). Размеры получаемого на заготовке фотошаблона изобрал ;ени кратны размерам стороны .изображени отверсти . Угол между осью щелевой диафрагмы и направлением движени стола отличаетс от пр мого на небольшую
ность фигур на фотошаблоне, возникающую из-за сложени движений стола и изображени отверсти .
Фотошаблоны, получаемые на такой установке , могут быть, налрлмер, размером 50X70 мм при кратности всех размеров 50 ж/с и точности 5 мк. Их можно использовать в качестве пр моугольных фотошаблонов больших интегральных схем. Врем изготовлени фотошаблона не зависит от его сложности и определ етс практически только быстродействием источника света. При параметрах фотошаблона 50X70 мм оно может быть менее 20 мин.
Предмет изобретени
Установка дл изготовлени фотошаблонов пр.и производстве нолупроводниковых приборов , содержаш,а стол с заготовкой фотошаблона , диск с дуговыми прорез ми, привод, объектив, фотоэлектрическую систему, устройство программного управлени импульсным источником света, отличающа с тем, что, с целью повышени производительности и надел ности, в нее введено устройство программного диафрагмировани , выполненное в виде неподвижной ш.елевой диафрагмы, совмешенной с дуговыми прорез ми на диске.
Ci
т
if Риг. I
чзаг.г
Риг.З
у 6.
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU338948A1 true SU338948A1 (ru) |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0616476B2 (ja) | パターン露光方法 | |
| US5503959A (en) | Lithographic technique for patterning a semiconductor device | |
| JP2817615B2 (ja) | 縮小投影露光装置 | |
| JP2000331928A (ja) | リソグラフ方法 | |
| US20070263192A1 (en) | Illumination system and a photolithography apparatus employing the system | |
| CN1162766A (zh) | 相移掩模及其制造方法 | |
| CN1678960A (zh) | 用于小线条印刷的光刻方法 | |
| CN115903409A (zh) | 一种微偏振片阵列制作方法、掩模版、基板以及载物台 | |
| JPH05315226A (ja) | 投影露光装置 | |
| KR970004421B1 (ko) | 반도체 노광장치 | |
| US6352800B1 (en) | Reticle for use in exposing semiconductor, method of producing the reticle, and semiconductor device | |
| US3871764A (en) | Pattern generator apparatus | |
| CN1400630A (zh) | 无铬相移掩膜及使用该掩膜的设备 | |
| JP2711194B2 (ja) | 露光装置 | |
| JPH08250407A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| US6593033B1 (en) | Attenuated rim phase shift mask | |
| KR100513440B1 (ko) | 반도체소자 제조용 노광장비의 조명장치 및 이를 이용한 변형조명방법 | |
| JP3312365B2 (ja) | 投影露光方法及び投影露光用光学マスク | |
| CN1136708A (zh) | 用于制造半导体器件的曝光装置 | |
| US8472005B2 (en) | Methodology for implementing enhanced optical lithography for hole patterning in semiconductor fabrication | |
| JPH04216553A (ja) | 半導体製造用マスク | |
| JPH09304917A (ja) | 露光方法 | |
| US9366969B2 (en) | Methodology for implementing enhanced optical lithography for hole patterning in semiconductor fabrication | |
| CN1178275C (zh) | 三维立体掩膜 | |
| JP2023148840A (ja) | 照明光学系、露光装置および物品製造方法 |