SU338948A1 - Установка для изготовления фотошаблонов - Google Patents

Установка для изготовления фотошаблонов

Info

Publication number
SU338948A1
SU338948A1 SU1429170A SU1429170A SU338948A1 SU 338948 A1 SU338948 A1 SU 338948A1 SU 1429170 A SU1429170 A SU 1429170A SU 1429170 A SU1429170 A SU 1429170A SU 338948 A1 SU338948 A1 SU 338948A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
installation
photomask
disk
production
photoshablons
Prior art date
Application number
SU1429170A
Other languages
English (en)
Inventor
Внтель ЗаЯ
В. И. Захаров В. Г. Касаткий А. В. Фунтиков
Publication of SU338948A1 publication Critical patent/SU338948A1/ru

Links

Description

Изобретение относитс  к технологии изготовлени  электронных приборов, в частности фотошаблонов микроэлектронных схем.
Известны установки дл  изготовлени  фотошаблонов , содержащие неподвижную фотоэлектрическую систему и перемещающийс  относительно нее по координатам х и у стол с заготовка ми фотощаблонов.
Недостатком таких установок  вл етс  наличие механических элементов, движущихс  неравномерно во врем  фо-рмированн  изображен .и .
С целью повышени  .производительности и надежности установки дл  изготовлени  фотошаблонов изображение формируетс  на равномерно движущейс  заготовке фотошаблона с ПОМОЩЬЮ составной диафрагмы, образуемой неподвижной щелевой диафрагмой и совмещаемыми с ней дуговыми диафрагмами на равномерно вращающемс  диске.
На фиг. 1, 2 представлена схема установки, вид сбоку и сверху; на фиг. 3 - узел диафрагмы; на фиг. 4 - полученное на заготовке фотошаблона изображение.
Установка содержит щелевую диафрагму / и расположенный под ней диск 2. Экспонирование заготовки фотощаблона 3, распололсенной на столе 4, осуществл етс  источником света 5 через объектив 6. Диск 2 и стол 4 получают движение от привода 7. Над диском 2 установлен фотодатчик 8, св занный с управл ющим устройством 9.
При равномерном вращении диска 2 отверстие 10 диафрагмы / (практически имеющее форму квадрата - см. фиг. 3) перемещаетс  скачками вдоль щели диафрагмы, пробега  ее за полный оборот диска. Оно проектируетс  через объектив 5 на заготовку фотошаблона 3, который равномерно перемещаетс  вместе со столом 4 перпендикул рно направлению движени  изображени  отверсти . За один оборот диска 2 стол 4 смещаетс  на ширину этого изображени , и за один проход
стола оно обегает всю поверхность заготовки фотошаблона 3. Информаци  об угловом положении диска 2, т. е. о положении изображени  отверсти  10 на заготовке фотошаблона , поступает с фотодатчика 8 в счетно-решающее управл ющее устройство 9, которое .включает .импульсный распределенный источник света 5 в соответствии с программой, экспониру  заданные участки (на фиг. 4 экспонированные участки заштрихованы). Размеры получаемого на заготовке фотошаблона изобрал ;ени  кратны размерам стороны .изображени  отверсти . Угол между осью щелевой диафрагмы и направлением движени  стола отличаетс  от пр мого на небольшую
ность фигур на фотошаблоне, возникающую из-за сложени  движений стола и изображени  отверсти .
Фотошаблоны, получаемые на такой установке , могут быть, налрлмер, размером 50X70 мм при кратности всех размеров 50 ж/с и точности 5 мк. Их можно использовать в качестве пр моугольных фотошаблонов больших интегральных схем. Врем  изготовлени  фотошаблона не зависит от его сложности и определ етс  практически только быстродействием источника света. При параметрах фотошаблона 50X70 мм оно может быть менее 20 мин.
Предмет изобретени 
Установка дл  изготовлени  фотошаблонов пр.и производстве нолупроводниковых приборов , содержаш,а  стол с заготовкой фотошаблона , диск с дуговыми прорез ми, привод, объектив, фотоэлектрическую систему, устройство программного управлени  импульсным источником света, отличающа с  тем, что, с целью повышени  производительности и надел ности, в нее введено устройство программного диафрагмировани , выполненное в виде неподвижной ш.елевой диафрагмы, совмешенной с дуговыми прорез ми на диске.
Ci
т
if Риг. I
чзаг.г
Риг.З
у 6.
SU1429170A Установка для изготовления фотошаблонов SU338948A1 (ru)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU338948A1 true SU338948A1 (ru)

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0616476B2 (ja) パターン露光方法
US5503959A (en) Lithographic technique for patterning a semiconductor device
JP2817615B2 (ja) 縮小投影露光装置
JP2000331928A (ja) リソグラフ方法
US20070263192A1 (en) Illumination system and a photolithography apparatus employing the system
CN1162766A (zh) 相移掩模及其制造方法
CN1678960A (zh) 用于小线条印刷的光刻方法
CN115903409A (zh) 一种微偏振片阵列制作方法、掩模版、基板以及载物台
JPH05315226A (ja) 投影露光装置
KR970004421B1 (ko) 반도체 노광장치
US6352800B1 (en) Reticle for use in exposing semiconductor, method of producing the reticle, and semiconductor device
US3871764A (en) Pattern generator apparatus
CN1400630A (zh) 无铬相移掩膜及使用该掩膜的设备
JP2711194B2 (ja) 露光装置
JPH08250407A (ja) 半導体装置の製造方法
US6593033B1 (en) Attenuated rim phase shift mask
KR100513440B1 (ko) 반도체소자 제조용 노광장비의 조명장치 및 이를 이용한 변형조명방법
JP3312365B2 (ja) 投影露光方法及び投影露光用光学マスク
CN1136708A (zh) 用于制造半导体器件的曝光装置
US8472005B2 (en) Methodology for implementing enhanced optical lithography for hole patterning in semiconductor fabrication
JPH04216553A (ja) 半導体製造用マスク
JPH09304917A (ja) 露光方法
US9366969B2 (en) Methodology for implementing enhanced optical lithography for hole patterning in semiconductor fabrication
CN1178275C (zh) 三维立体掩膜
JP2023148840A (ja) 照明光学系、露光装置および物品製造方法