SU426351A3 - - Google Patents
Info
- Publication number
- SU426351A3 SU426351A3 SU1665738A SU1665738A SU426351A3 SU 426351 A3 SU426351 A3 SU 426351A3 SU 1665738 A SU1665738 A SU 1665738A SU 1665738 A SU1665738 A SU 1665738A SU 426351 A3 SU426351 A3 SU 426351A3
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- titanium
- electrode
- coating
- mixture
- metals
- Prior art date
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 21
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- -1 platinum metals Chemical class 0.000 description 5
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 4
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 2
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 description 1
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical class [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
- C23G1/10—Other heavy metals
- C23G1/106—Other heavy metals refractory metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
(54) СПОСОБ УДАЛЕНИЯ АКТИВНОГО ПОКРЫТИЯ,
СОДЕРЖАЩЕГО ОКИСЛЫ МЕТАЛЛОВ ПЛАТИНОВОЙ
ГРУППЫ, С ЭЛЕКТРОПРОВОДНОЙ ОСНОВЫ
ЭЛЕКТРОДА
Изобретение относитс к технологии регенерации отработанных электродов.
Известен способ удалени активного покрыти , содержащего окислы металлов платиновой группы, с электропроводной подложки электрода (титан, тантал, ниобий, цирконий) путем выдержки электрода в растворе неорганического соединени , например NaF.
Недостатками известного способа вл ютс значительные потери платиновых металлов и растравливание металлической основы электрода .
С целью уменьшени потерь металлов платиновой группы и металла основы электрода предлагаетс способ удалени активного покрыти , содержащего окислы металлов платиновой группы, с электропроводной основы отработанного электрода, по которому обработку ведут смесью сол ной или серной кислот с фтористоводородной кислотой. Фтористоводородную кислоту ввод т в смесь также путем добавлени к другой кислоте (серной или сол ной) соли фтористоводородной кислоты, например фтористого аммони , фтористого натри и фтористого кали . Сол ную кислоту примен ют в концентрации 20-
40 вес. %, а серную в концентрации 25- 100 вес. %. Фтористоводородную кислоту ввод т в смесь в количестве 0,01-8%, предпочтительно 0,2-4% от веса смеси. Процесс ведут при 25-100°С, предпочтительно 60- 100°С. Электрод выдерживают в смеси не более одного часа.
По предлагаемому способу могут быть обработаны электроды с активным покрытием,
содержащим как окислы, так и свободные металлы группы платины (платину, иридий, родий , осмий, рутений, палладий). Покрытие может содержать несколько металлов платиновой группы и их окислов, а также окислы других металлов (титана, тантала, циркони , ниоби , вольфрама, олова, германи , сурьмы). Наиболее типичным видом активного покрыти вл ютс покрыти из двуокиси рутени и двуокиси титана, а также двуокиси рутени и
смеси окислов олова и сурьмы.
В качестве материала электропроводной основы электрода примен ют титан.
Пример 1. Титановый электрод в виде пластины, имеющей двустороннее покрытие
из окиси рутени с двуокисью титана, погружают в раствор, состо щий из 80 мл 35%-ного HCl, 20 мл воды и 0,08%-ного фтористого аммони (что соответствует приблизительно 0,04%-ной концентрации HF). Обработку ведут при 75°С. Через 45 мин покрытие отпадает от титановой основы, которую можно повторно покрывать активным слоем. Потери титана составл ют 9,4%. Пример 2. Титановый электрод с активным покрытием аналогичным примеру 1 обрабатывают в растворе, содержащем 100 об. ч. 35%-ной НС1 и 0,4%-кого фтористого аммони (что соответствует 0,2%-ной концентрации HF). Обработку ведут при 85°С. Через 15 мин покрытие отпадает от титановой основы , пригодной дл повторного покрыти . Потери титана составл ют 13,8%. Пример 3. Титановый электрод с активным покрытием аналогичным примеру 1 погружают в раствор, состо щий из 90 об. ч. 35%-ной НС1, 10 об. ч. воды и 0,24%-кого фтористого натри (что соответствует приблизительно 0,12%-ной концентрации ПР). Обработку ведут при 95°С. Через 15 мин покрытие отпадает от титановой основы, пригодной дл повторного покрыти . Потери титана составл ют 14,4%. Пример 4. Титановый электрод с активным покрытием аналогичным примеру 1 погружают в раствор, состо щий из 80 об. ч. 35%-ной НС1 и 20 об. ч. воды. Фтористоводородную кислоту в раствор не добавл ют. Через 13 час покрытие удал етс только частично . Поверхность титановой основы электрода непригодна дл повторного покрыти . Пример 5. Титановый электрод с активным покрытием аналогичным примеру 1 погружают в раствор, состо щий из 30 мл 98%ной H2SO4, 70 мл воды и 0,2%-ного фтористого аммони (что соответствует 0,1%-ной концентрации HF). Обработку ведут при 80°С. Через 53 мин покрытие отпадает от титановой основы электрода, пригодной дл повторного покрыти . Потери титана 8,1%. Во всех примерах плотность покрыти составл ет 15-20 г/мм поверхности титана., Все нроцентные соотнощени даны по весу. Предмет изобретени 1.Способ удалени активного покрыти , содержащего окислы металлов платиновой группы , с электропроводной основы электрода путем обработки электрода в растворе неорганического соединени , отличающийс тем, что, с целью уменьщени потерь металлов платиновой группы и металла основы электрода, обработку ведут смесью сол ной или серной кислот с фтористоводородной кислотой . 2.Способ по п. 1, отличающийс тем, что фтористоводородную кислоту ввод т в смесь путем добавлени к раствору сол ной или серной кислоты соли фтористоводородной кислоты, например фтористого аммони , фтористого натри или фтористого кали . 3.Способ попп. 1и2, отличающийс тем, что примен ют сол ную кислоту концентрацией 20-40 вес. %. 4.Способ по пп. 1 и 2, отличающийс тем, что примен ют серную кислоту концентрацией 25-100 вес. %. 5.Способ по пп. 1и2, отличающийс тем, что фтористоводородную кислоту ввод т в смесь в количестве 0,01-8%, предпочтительно 0,2-4% от веса смеси. 6.Способ по пп. 1-5, отличающийс тем, что обработку ведут при 25-100°С, предпочтительно 60--100°С. 7.Способ по пп. I-6, отличающийс тем, что обработку ведут не более одного часа.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB2706770 | 1970-06-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU426351A3 true SU426351A3 (ru) | 1974-04-30 |
Family
ID=10253625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU1665738A SU426351A3 (ru) | 1970-06-04 | 1971-06-04 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3761313A (ru) |
| AU (1) | AU2965471A (ru) |
| BE (1) | BE767908A (ru) |
| CA (1) | CA919561A (ru) |
| FR (1) | FR2094044B1 (ru) |
| GB (1) | GB1290752A (ru) |
| IL (1) | IL36914A0 (ru) |
| SU (1) | SU426351A3 (ru) |
| ZA (1) | ZA713542B (ru) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4017368A (en) | 1974-11-11 | 1977-04-12 | General Electric Company | Process for electroplating zirconium alloys |
| US4322264A (en) * | 1975-12-09 | 1982-03-30 | U.S. Philips Corporation | Method for selective etching of titaniumdioxide relative to aluminum |
| US4052253A (en) * | 1976-09-27 | 1977-10-04 | Motorola, Inc. | Semiconductor-oxide etchant |
| US4132569A (en) * | 1977-10-25 | 1979-01-02 | Diamond Shamrock Corporation | Ruthenium recovery process |
| US4889589A (en) * | 1986-06-26 | 1989-12-26 | United Technologies Corporation | Gaseous removal of ceramic coatings |
| US4874434A (en) * | 1988-05-16 | 1989-10-17 | Kerr-Mcgee Chemical Corporation | Method of treating a titanium structure |
| US5141563A (en) * | 1989-12-19 | 1992-08-25 | Eltech Systems Corporation | Molten salt stripping of electrode coatings |
| JP3358604B2 (ja) * | 1999-11-11 | 2002-12-24 | 日本電気株式会社 | 白金族不純物回収液及びその回収方法 |
| US8323415B2 (en) | 2006-08-10 | 2012-12-04 | GM Global Technology Operations LLC | Fast recycling process for ruthenium, gold and titanium coatings from hydrophilic PEM fuel cell bipolar plates |
| US20110017608A1 (en) * | 2009-07-27 | 2011-01-27 | Faraday Technology, Inc. | Electrochemical etching and polishing of conductive substrates |
| CN102560514A (zh) * | 2012-01-16 | 2012-07-11 | 南昌航空大学 | 一种用于退除钛及钛合金阳极氧化膜的弱酸性悬浮液 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3562013A (en) * | 1967-10-23 | 1971-02-09 | Diversey Corp | Process of deoxidizing titanium and its alloys |
-
1970
- 1970-06-04 GB GB2706770A patent/GB1290752A/en not_active Expired
-
1971
- 1971-05-21 CA CA113687A patent/CA919561A/en not_active Expired
- 1971-05-25 IL IL36914A patent/IL36914A0/xx unknown
- 1971-05-27 US US00147608A patent/US3761313A/en not_active Expired - Lifetime
- 1971-06-01 BE BE767908A patent/BE767908A/xx unknown
- 1971-06-01 ZA ZA713542A patent/ZA713542B/xx unknown
- 1971-06-03 AU AU29654/71A patent/AU2965471A/en not_active Expired
- 1971-06-03 FR FR7120118A patent/FR2094044B1/fr not_active Expired
- 1971-06-04 SU SU1665738A patent/SU426351A3/ru active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2094044B1 (ru) | 1975-07-04 |
| BE767908A (fr) | 1971-12-01 |
| GB1290752A (ru) | 1972-09-27 |
| IL36914A0 (en) | 1971-07-28 |
| FR2094044A1 (ru) | 1972-02-04 |
| ZA713542B (en) | 1973-01-31 |
| CA919561A (en) | 1973-01-23 |
| US3761313A (en) | 1973-09-25 |
| AU2965471A (en) | 1972-12-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SU426351A3 (ru) | ||
| FI57132B (fi) | Elektrold avsedd foer anvaendning vid elektrokemiska processer | |
| SU1134122A3 (ru) | Электрод дл получени хлора | |
| US4069040A (en) | Method for recovery of platinum and iridium from catalysts | |
| US2336846A (en) | Etching of capacitor armatures | |
| US3117023A (en) | Method of making a non-corroding electrode | |
| JPS622038B2 (ru) | ||
| US3684577A (en) | Removal of conductive coating from dimensionally stable electrodes | |
| US3711393A (en) | Purification of a molten salt bath | |
| JP2003506895A (ja) | ビスマス含有酸化膜のエッチング方法 | |
| KR890006855A (ko) | 영구 양극 | |
| US3761312A (en) | Stripping of coated titanium electrodes | |
| US3632490A (en) | Method of electrolytic descaling and pickling | |
| JPS6254849B2 (ru) | ||
| USRE28849E (en) | Surface preparation process for recoating of used coated metallic electrodes | |
| US3960680A (en) | Treatment of catalytic anodes | |
| US3841983A (en) | Surface preparation process for recoating of used coated metallic electrodes | |
| JPH0210233B2 (ru) | ||
| US2332487A (en) | Surface treatment for articles of magnesium and alloys thereof | |
| US3574074A (en) | Surface treated platinized anodes | |
| JP2551274B2 (ja) | アルミ系材料の表面処理方法 | |
| JPH03101213A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチング方法 | |
| CA1140075A (fr) | Procede de preparation electrolytique des chlorates alcalins | |
| JPH07113155B2 (ja) | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔の製造方法 | |
| SU409410A1 (ru) | Способ удаления покрытий с титановых электродов |