SU426540A1 - Электроразр дное устройство дл нанесени покрытий в вакууме - Google Patents
Электроразр дное устройство дл нанесени покрытий в вакуумеInfo
- Publication number
- SU426540A1 SU426540A1 SU1699206A SU1699206A SU426540A1 SU 426540 A1 SU426540 A1 SU 426540A1 SU 1699206 A SU1699206 A SU 1699206A SU 1699206 A SU1699206 A SU 1699206A SU 426540 A1 SU426540 A1 SU 426540A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- cathode
- electrode
- vacuum coater
- discharge vacuum
- anode
- Prior art date
Links
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
1
Изобретение касаетс нанесени покрытий в вакууме и может быть использовано дл получени тонких пленок.
Известно электроразр дное устройство дл нанесени покрытий в вакууме, содержащее анод, кольцевой катод и поджигающий электрод .
Однако в таком устройстве происходит последовательное испарение с отдельных участков кольцевой поверхности катода, что отрицательно сказываетс на равномерности покрытий .
Цель изобретени - получение равномерных по толщине покрытий и уменьшение капельной фазы в потоке пара.
Дл этого устройство снабжено электромагнитом , между полюсными наконечниками которого смонтирован катод, причем в катоде выполнен желоб дл размещени испар емых материалов.
На чертеже изображено предлагаемое устройство .
Устройство состоит из анода 1, кольцевого катода i2, поджигающего электрода 3, электромагнита , включающего цилиндрический магнитопровод 4 и катущку 5. В катоде 2 выполнен желоб 6 дл размещени испар емых материалов. Катод посредством изол торов 7 и 8 смонтирован между полюсными наконечниками электромагнита. Катущка 6 смонтировала на центральном стержне 9 цилиндрического магнитопровода 4. Стенки желоба 6 имеют наклон дл обеспечени надежного электрического и теплового контакта испар емого материала с катодом. Над катодом 2 смонтирована подложка 10.
Устройство работает следующим образом.
Исходное положение поджигающего электрода 3 обеспечивает короткое замыкание катода 2 с анодом / через ограничивающее сопротивление при помощи пружины 11. При подаче питающего напр жени на анод и катод возникает ток, создающий т говое усилие соленоида 12, которое обеспечивает отрыв поджигающего электрода 3 от катода 2 и тем самым возбуждает дуговой разр д, который продолжает гореть между катодом и анодом .
При взаимодействии дуги с магнитным полем (силовые линии показаны пунктиром) возникает сила, удерживающа катодное п тно в центре магнитного пол рассе ни и заставл юща его двигатьс по траектории,
определ емой формой воздушного зазора магнитопровода 4. При этом катодное п тно дуги перемещаетс по сплаву или по отрезкам металлов , уложенных в желобе 6, испар их. Пары металлов или сплава, конденсиру сь
на подложке 10, образуют тонкую пленку, со
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU1699206A SU426540A1 (ru) | 1971-09-20 | 1971-09-20 | Электроразр дное устройство дл нанесени покрытий в вакууме |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU1699206A SU426540A1 (ru) | 1971-09-20 | 1971-09-20 | Электроразр дное устройство дл нанесени покрытий в вакууме |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU426540A1 true SU426540A1 (ru) | 1975-10-05 |
Family
ID=20488512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU1699206A SU426540A1 (ru) | 1971-09-20 | 1971-09-20 | Электроразр дное устройство дл нанесени покрытий в вакууме |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| SU (1) | SU426540A1 (ru) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1982002906A1 (en) * | 1981-02-23 | 1982-09-02 | Leonid Pavlovich Sablev | Consumable cathode for electric-arc evaporator of metal |
-
1971
- 1971-09-20 SU SU1699206A patent/SU426540A1/ru active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1982002906A1 (en) * | 1981-02-23 | 1982-09-02 | Leonid Pavlovich Sablev | Consumable cathode for electric-arc evaporator of metal |
| FR2512270A1 (fr) * | 1981-02-23 | 1983-03-04 | Sablev Leonid | Cathode consommable pour evaporateur de metaux a arc electrique |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3547074A (en) | Apparatus for forming microelements | |
| JPH09512304A (ja) | イオン支援された真空コーティング方法並びに装置 | |
| US4430184A (en) | Evaporation arc stabilization | |
| JP2749679B2 (ja) | 基板を被覆する方法及び装置 | |
| EP0384617B1 (en) | System and method for vacuum deposition of thin films | |
| US2557530A (en) | Electric heating element | |
| US3501393A (en) | Apparatus for sputtering wherein the plasma is confined by the target structure | |
| US3494852A (en) | Collimated duoplasmatron-powered deposition apparatus | |
| SU426540A1 (ru) | Электроразр дное устройство дл нанесени покрытий в вакууме | |
| EP0211413A2 (en) | Arc ignition device | |
| US3883679A (en) | Vapor source assembly | |
| JPS57155369A (en) | High vacuum ion plating method and apparatus | |
| JPH0641727A (ja) | 物質の真空蒸発方法および装置、プラズマアーク点火方法、およびこれらの方法の応用 | |
| US3071533A (en) | Deposition control means | |
| JP2004018899A (ja) | 蒸着源及び成膜装置 | |
| RU1831514C (ru) | Электродуговой испаритель А.Н.Руднева | |
| RU2077604C1 (ru) | Электродуговой испаритель для нанесения покрытий в вакууме | |
| SU368807A1 (ru) | Электродуговой испаритель | |
| JPH0649628A (ja) | ボルタイック アーク ベーパライザー | |
| JPH09165673A (ja) | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 | |
| SU1075751A1 (ru) | Электродуговой испаритель провод щих материалов | |
| SU1123313A1 (ru) | Электродуговой испаритель | |
| SU565949A1 (ru) | Электродуговой испаритель материалов | |
| US3822146A (en) | Application of electrically conductive coatings to insulating tubes of switching magnets for particle accelerators | |
| JP2003282557A (ja) | 成膜方法 |