SU543207A1 - Графитовый нагревательный элемент установок дл выращивани кристаллов - Google Patents

Графитовый нагревательный элемент установок дл выращивани кристаллов

Info

Publication number
SU543207A1
SU543207A1 SU2111469A SU2111469A SU543207A1 SU 543207 A1 SU543207 A1 SU 543207A1 SU 2111469 A SU2111469 A SU 2111469A SU 2111469 A SU2111469 A SU 2111469A SU 543207 A1 SU543207 A1 SU 543207A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
heating element
crystal growing
growing plants
graphite heating
crystal
Prior art date
Application number
SU2111469A
Other languages
English (en)
Inventor
Владимир Дмитриевич Мартынко
Юрий Григорьевич Пухов
Original Assignee
Завод Чистых Металлов Им. 50-Летия Ссср
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Завод Чистых Металлов Им. 50-Летия Ссср filed Critical Завод Чистых Металлов Им. 50-Летия Ссср
Priority to SU2111469A priority Critical patent/SU543207A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU543207A1 publication Critical patent/SU543207A1/ru

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

который выполн ет роль подпорното. Другое кольцо 4, донное, примыкает к внутреннему цилиндру и имеет центральное сквозное отверстие дл  прохода контейнера или штока контейнера. Если высота цилиндров будет более , чем 0,35, а толщина донного и соединительных колец более 1,1 диаметра внутреннего цилиндра, то тер ютс  «подпорные тепловые свойства нагревател . То же самое происходит , если отношение диаметров внешнего и внутреннего цилиндров будет более 1,5. Если высоту цилиндров выбрать менее 0,25 диаметра внутреннего цилиндра, то зона нагрева становитс  настолько узкой, что при выборке расплава из тигл  режим выт гивани  становитс  неустойчивым, рост монокристалла прекращаетс . При толщине верхнего и нижнего колец менее 1,1 уменьшаетс  осевой градиент температуры, рост кристалла становитс  неустойчивым , уменьшаетс  выход монокристаллической части. Наименьщее значение отношени  диаметров наружного и внутреннего диаметров, равное 1,05, обусловлено технически достижимой минимальной величиной зазора между цилиндрами. Если толщина стенки наружного цилиндра менее 1,2 стенки внутреннего , это приводит к снижению потребл емой мощности, у стенок тигл  возможно образование центров кристаллизации, рост становитс  неустойчивым.
Применение предлагаемого графитового нагревательного элемента позвол ет установить в системе расплав-кристалл оптимальные с точки зрени  получени  монокристалла температурные градиенты при выращивании кристаллов в защитной атмосфере при давлении, больше атмосферного. При этом на 10-15% уменьшаетс  потребл ема  мощность. Это позвол ет уменьшить габариты камеры установки или увеличить диаметр кристалла при неизменных габаритах камеры и потребл емой мощности. В случае применени  фосфида галли  на 20-25% возрастет выход монокристаллов , что дает возможность на 300- 400 руб. уменьшить себестоимость 1 кг фосфида галли .

Claims (3)

1. Сборник трудов МИИТа № 254 «Исследование тепло-массообмена в процессах получени  монокристаллических полупроводниковых материалов и теплообмена в каналах, 1967, стр. 78.
2. Вильке «Методы выращивани  кристаллов , 1968 г., стр. 201.
3. Труды Гиредмета, т. ХХП1, 1971, стр. 121.
У i
Т ТТТ Л
xXXA- -x J
SU2111469A 1975-03-10 1975-03-10 Графитовый нагревательный элемент установок дл выращивани кристаллов SU543207A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU2111469A SU543207A1 (ru) 1975-03-10 1975-03-10 Графитовый нагревательный элемент установок дл выращивани кристаллов

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU2111469A SU543207A1 (ru) 1975-03-10 1975-03-10 Графитовый нагревательный элемент установок дл выращивани кристаллов

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU543207A1 true SU543207A1 (ru) 1977-01-15

Family

ID=20612111

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU2111469A SU543207A1 (ru) 1975-03-10 1975-03-10 Графитовый нагревательный элемент установок дл выращивани кристаллов

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU543207A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4748315A (en) * 1986-01-21 1988-05-31 Hitachi, Ltd. Molecular beam source

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4748315A (en) * 1986-01-21 1988-05-31 Hitachi, Ltd. Molecular beam source

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FR2457913A1 (fr) Procede de fabrication de monocristaux, en particulier de ferrite, et tetes magnetiques comportant des monocristaux de ferrite ainsi fabriques
FR2425128A1 (fr) Procede de preparation de pastilles de combustible nucleaire ceramique
US3796548A (en) Boat structure in an apparatus for making semiconductor compound single crystals
US5135726A (en) Vertical gradient freezing apparatus for compound semiconductor single crystal growth
JPH01108200A (ja) SiCインゴツトの製造方法
US4824519A (en) Method and apparatus for single crystal pulling downwardly from the lower surface of a floating melt
JPH0314800B2 (ru)
CN102912416A (zh) 新型多晶炉加热装置
JPH0651275U (ja) 炭化ケイ素単結晶育成装置
CN209685955U (zh) 一种多晶合成炉
US20050115493A1 (en) Thermal shield
SU508266A1 (ru) Устройство дл выращивани моно-кристаллов из расплавов
CN209323032U (zh) 用于单晶硅定向凝固生长的坩埚
CN211689294U (zh) 一种直拉单晶炉底部用保温装置及直拉单晶炉
JPS6350393A (ja) SiC単結晶の成長方法
JPH04187585A (ja) 結晶成長装置
CN119392348A (zh) 一种碲锌镉单晶制备方法及装置
KR930000903B1 (ko) Ⅲ-v족 화합물 반도체의 단결정 제조시 저온부의 온도 제어방법
RU98109552A (ru) Способ твердофазного синтеза шихты для выращивания монокристаллов лантангаллиевого силиката
JPH0940492A (ja) 単結晶の製造方法及び製造装置
GB1306015A (ru)
SU552993A1 (ru) Способ получени монокристаллов двойного соединени из гидроксодов щелочных металлов
CN106149045B (zh) 一种用于热液法晶体生长的球形高压反应釜
JPS6041040B2 (ja) ガリウムリン半導体結晶の成長方法
JPH0699214B2 (ja) ガリウム砒素単結晶の製造方法及び石英反応管