SU565638A3 - Промывочный состав - Google Patents
Промывочный составInfo
- Publication number
- SU565638A3 SU565638A3 SU7502113540A SU2113540A SU565638A3 SU 565638 A3 SU565638 A3 SU 565638A3 SU 7502113540 A SU7502113540 A SU 7502113540A SU 2113540 A SU2113540 A SU 2113540A SU 565638 A3 SU565638 A3 SU 565638A3
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- plate
- washing composition
- wash
- composition
- photosensitive polymer
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 title description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims 1
- 238000012552 review Methods 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000012261 resinous substance Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
(54) ПРОМЫВОЧНЫЙ СОСТАВ
ровой кислоты, изофталевой кислоты и диэтиленгликол в мол рном отношеиии 2:1:3 и обладающий кислотным числом 30 (65 ч.), триэтиленгликольдиметакрилат (35 ч.), бензоинметиловый эфир (1 ч.), и гидрохинон (0,1ч.), образу слой толщиной 0,6 мм. В результате образуетс фоточувствительна полимерна пластина.
На полученный слой фоточувствительной полимерной пластины накладывают негатив, который сверху прижимают стекл нной пластиной . При экспозиции пластину освещают дес тью ультрофиолетовыми флюорисцентными лампами в течение 3 мин. Экспонированную поверхность подвергают дущевой промывке (примерно 2 мин) однопроцентным водным раствором алюмината натри . Раствор подают через 40 сопел под давлением 3,5 кг/см. Промывочный состав объемом 50 л используют дл двадцатикратной обработки, причем осадок эффективно отдел етс фильтрованием.
Пример 2. На поверхность железной пластины 300X400 мм нанос т в виде сло толщиной 0,8 мм фоточувствительную полимерную композицию, состо щую из сополимера метилметакрилата и метакриловой кислоты 7:3 в мол рном отнощении (70 ч.), триэтиленгликольдиметакрилата (30 ч.), бензоинметилОБого эфира (0,3 ч.), гидрохинона (0,03 ч.) и ацетона (100 ч.). Пластину выдерживают в течение ночи дл выпаривани ацетона, в результа (те абра.зуетс ,фоточувствительна полимерна пластина.
На поверХЕость фоточувствителцной /полимерной пластины помещают негатив, а сверху - стекл нную пластину. При экспозиции пластину освещают дес тью ультрафиолетовыми флюорисцентными лампами в течение 3 мин. Экспонированную поверхность подвергают (примерно в течение 2 мин) дущевой промывке однопроцентным водным раствором алюмината натри , причем этот промывочный состав подают через 40 сопел под давлением
3,5 атм. Промывочный состав используют дл промывки 20 пластин, при этом он имеет хорощую эффективность.
Сравнительный пример. Фоточувствительную полимерную пластину приготовл ют и
экспонируют способом, описанным в примере 1. Экспонированную поверхность фоточувствительной полимерной пластины подвергают дущевой промывке однопроцентным водным раствором карбоната натри , причем разбрызгивание раствора осуществл етс через 40 сопел под давлением 3,5 атм. Более трех минут требуетс дл заверщени промывки, отмечаетс прилипание смолистых веществ на экспонированных участках поверхности.
Таким образом, промывочные свойства промывочного состава недостаточно удовлетворительны . Остаток отдел етс с трудом и промывочный состав остаетс мутным.
Claims (1)
1. «Обзоры по электронной технике вып. 2 (86) Б. В. Малин, Т. И. Эрез «Основы фотолитографии в производстве интегральных схем, М., 19734 с. 24-25.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2554474A JPS5637543B2 (ru) | 1974-03-04 | 1974-03-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU565638A3 true SU565638A3 (ru) | 1977-07-15 |
Family
ID=12168916
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU7502113540A SU565638A3 (ru) | 1974-03-04 | 1975-03-03 | Промывочный состав |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5637543B2 (ru) |
| DE (1) | DE2508856A1 (ru) |
| FR (1) | FR2263535B1 (ru) |
| GB (1) | GB1480705A (ru) |
| IT (1) | IT1030259B (ru) |
| NL (1) | NL7502561A (ru) |
| SU (1) | SU565638A3 (ru) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5032643B2 (ru) * | 1971-10-04 | 1975-10-23 |
-
1974
- 1974-03-04 JP JP2554474A patent/JPS5637543B2/ja not_active Expired
-
1975
- 1975-02-28 DE DE19752508856 patent/DE2508856A1/de not_active Withdrawn
- 1975-03-03 IT IT6754175A patent/IT1030259B/it active
- 1975-03-03 FR FR7506563A patent/FR2263535B1/fr not_active Expired
- 1975-03-03 GB GB878975A patent/GB1480705A/en not_active Expired
- 1975-03-03 SU SU7502113540A patent/SU565638A3/ru active
- 1975-03-04 NL NL7502561A patent/NL7502561A/xx not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL7502561A (nl) | 1975-09-08 |
| JPS50120336A (ru) | 1975-09-20 |
| GB1480705A (en) | 1977-07-20 |
| JPS5637543B2 (ru) | 1981-09-01 |
| IT1030259B (it) | 1979-03-30 |
| DE2508856A1 (de) | 1975-09-18 |
| FR2263535B1 (ru) | 1980-11-14 |
| FR2263535A1 (ru) | 1975-10-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2064079C2 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch | |
| US4023973A (en) | Photosensitive composition using maleic anhydride adduct of a 1,2 polybutadiene | |
| DE1522362C2 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch sowie Verfahren zur Herstellung eines photopolymerisierbaien Aufzeichnungsttiaterials | |
| DK160907B (da) | Fotosensitive optegnelsesmaterialer med elastomere podecopolymerisat-bindemidler samt reliefforme fremstillet paa basis deraf | |
| JPS55135838A (en) | Surface treating method for photosensitive elastomer printing plate | |
| DE2150691A1 (de) | Lichtempfindliches beschichtungsmaterial | |
| JPS6119980B2 (ru) | ||
| US4001015A (en) | Method for the production of printing plates using photosensitive compositions | |
| US5368977A (en) | Positive type photosensitive quinone diazide phenolic resin composition | |
| US3740224A (en) | Photosensitive compositions for the production of printing plates | |
| CA1145190A (en) | Process for the development of exposed light-sensitive printing plates based on o-naphthoquinone-diazides | |
| DE1522458A1 (de) | Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen | |
| US3890150A (en) | Photosensitive compositions including aromatic bis-acrylic derivatives | |
| US3036914A (en) | Photopolymerizable compositions and elements | |
| US3852256A (en) | Photopolymers | |
| JPS62262855A (ja) | プリント配線フォトレジスト用電着塗料組成物の電着塗装方法 | |
| DE2525297A1 (de) | Photopolymerisierbare massen und ihre verwendung | |
| CA1213274A (en) | 1,3-diaza-9-thia-anthracene-2,4-diones and photopolymerizable mixtures containing same | |
| US4604343A (en) | Water developable photosensitive resinous composition | |
| DE1298414B (de) | Lichtempfindliches Gemisch | |
| SU640236A1 (ru) | Фотополимеризующа с композици | |
| JP2010256860A (ja) | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物及びそれから得られる印刷用原版 | |
| JPH01163166A (ja) | 多官能単量体及びこの単量体を含有する光硬化型樹脂組成物 | |
| SU1366068A3 (ru) | Пластина для изготовления фотополимерных печатных форм | |
| DE2341734A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer reliefstruktur |