SU567341A1 - Устройство дл получени покрытий в вакууме - Google Patents
Устройство дл получени покрытий в вакуумеInfo
- Publication number
- SU567341A1 SU567341A1 SU742046953A SU2046953A SU567341A1 SU 567341 A1 SU567341 A1 SU 567341A1 SU 742046953 A SU742046953 A SU 742046953A SU 2046953 A SU2046953 A SU 2046953A SU 567341 A1 SU567341 A1 SU 567341A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- hollow cathode
- anode
- vacuum
- ratio
- steam line
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Изобретение может быть использовано в различных област х техники, например в микроэлектронике, дл получени толстых пленок высокого качества.
Известно устройство дл гГолучени поК{матий в вакууме, в котором испар емый материал ионизируетс во вспомогательном электрическом разр де, например в тлеющем, возбуждаемом между поверхностйй конденсации и источникгм пара, и, ускор сь в электрическом поле к подложке , приобретает значительную скорость (энергию) 2,
Известно устройство дл получени покрытий в вакууме, содержащее квазизамкнутый испаритель с нагревателем, выполненный в ВЕ(де двух соединенных между собой цилиндрическим каналом, оканчивающимс дистанционно управл емым герметичным затвором, камер, одна из которых содержит испар емый материал, а втора снабжена выходным отверстием, служащим дл выпуска из камеры паров напыл емого на подложку вещества 2.
Цель изобретени - повышение адгезии толстых пленок.
Это достигаетс тем, что в предлагаемом устройстве дл получени покрытий в вакууме, преимущественно толстых пленок , содержащем средства дл генерации, ионизации паров осаждаемого вещества, ускорени образующейс . плазмы, средство дл генерации пара выполнено в виде квазизамкнутого испарител , соединенного обогреваемым паропроводом со средством дл ионизации и ускорени образующейс плазмы, выполненным в виде полого катода и соосно установленного анода в форме усеченного конуса, обращенного верщиной в сторону выходного отверсти полого катода, на выходе которого коаксиально с анодом установлена магнитна катущка. Соатнощение длины полйго катода к его диаметру составл ет 1:5, причем соотношение диаметров выходных отверстий паропровода и полого катода ОД:О,5.
На чертеже схематически показано пpeд лагаемое устройство дл получени покрытий в вакууме.
Устройство состоит из испарител 1, снабженного нагревателем 2, дистанцион-. но управл емым затвором 3, соедин ющим s камеру с испар емым материалом 4 с камерой 5, имеющей выходное отверстие б, паропровода 7, соедин ющего выходное отверстие 6 иопапитби с вз ОДГ1ым отверстием 8 полого катода 9.10
Со стороны -выходного оттверсти 1О полого катода 9 коаксиально с ним уста- новлены электроизолврованный анод 11 и электромагнитна катушка 12. Полый катод 9 подключен через источник 13. пи- is тани к аноду 11, Паропровод 7, полый катод 9 и анод 11 снабжены нагрева ел ми 14, 15 и 16 соответственно. Ионизованные пары 17 испар емого мате-s риа а 4 конденсируютс на подложке 18, 20 установленной в подпожкодержателе 19.
Перед запуском устройства после достижени требуемого разрежени в технологическом объеме, где производитс напыление , предва|штепьно прогреваютс на- 25 греватели 14 15 и 1в, 1Юро11ровод 7, полый Kaitifl 9 и анод 11, а затем прогревают шзпаритель 1 е закрытым затвором 3 при аомощи нагревател 2. Регулиру МОЩНОСТИ нагревателей 2, 14, 15 30 и 16, устанавливают температуру испарител 1, соответствующую давлению паров испар емого материала 4 0,5 1О - lOiiM рт. ст., температуру паропровода
7, полого катода 9 и анода 11, превыша- 35 ощую температуру испарител 1, дл предотвращени конденсации паров по всему тракту устройства.
При помощи источника 13 питани подают напр жение между полым катодом 9 и анодом 11 и открывают при помощи затвора 3 доступ пара в полый катод 9. При этом между полым катодом 9 и анодом 11 возбуждаетс дуговой разр д, го р ший в парах испар емого материала 4, Вк ганают электромагнитную катушку 12 дл боздани аксиально расход щегос ма- гнитного пол . При наличии магнитного пол происходит дрейф электронов в азимуталЬном направлении, привод щий эф 50 фективной ионизации паров и ускорению ИОНОЙ в осевом направлении.Высокие скорости ионов (до 10 м/с) и практически полна ионизаци паров исх пар емого материала обеспечивают требуемые адгезионные свойства толстых пленок при конденсации их на подложке 18,
Устройство -позвол ет регулировать скорость ионизированного пара 17 изме-. нением величины магнитного пол катущки 12. Кроме того, наличие направленной струи ионизованногоi пара 17 позвол ет повысить эффект1шность использовани ве- щества (что особенно важно дл дорогосто щих материалов)и производительность устройства.
Экспериментальнс установлено, что, еС ли катод 9 выполнен в виде полого цш1инд-1 , ра с торцовыми стенками и расположенными в них входным 8 и выходным 10 отверсти ми, то устойчива работа устройства наблюдаетс в случае , когда соотнощение длины катода к его диаметру составл ет 1:5, а соотношение диаметра входного отверсти к выходному составл ет 0,1:0,5.
Claims (3)
1.Устройство дл получени покрытий в вакууме, преимущественно толстых к, содержащее средства дл генерации, ионизации паров осаждаемого вещества, ускорени образующейс плазмы, отличающеес тем, что, с целью повышени адгезии толстых пленок,/ средство дл генераций пара выполнено в виде квазизш кнутого испарител , соединенного обогреваемым паропроводом со средством дпй ионизации и ускорени образующейс плазмы, выполненным в виде полого катода и соосно установленного анода в форме усеченного конуса, обращенного вершиной в сторону выходного отверсти полого катода, на выходе которого коаксиа ьно с анодом установлена магнитна катушка ,
2.Устройство по п. 1, о т л и ч а ю ш е е с тем, что соотношение длины полого катода к его диаметру составл ет IsS.
3.Устройство по п. 1, о т л и ч а ю ш е е с тем, что соотношение диаметров выходных отверстий паропровода и полого катода составл ет О,1:О,5.
Источники инфо|эмации, прин тые во внимание при экспертизе:
1.Патент США Ns 3329601, т. 204-298, 1970.
2.Авторское свидетельство СССР
№ 201484, кл. С 23 С 13/12, 1967.
6 7 Iff
2x/yg
LI /
r.-.AV.-.V.
л-.,/; iv.
i i r X
-- s../. ,%,%« ;;,.
W « s & 9S &lS&j & & &gi,e
2ZSZS
f. V
ZZL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU742046953A SU567341A1 (ru) | 1974-07-22 | 1974-07-22 | Устройство дл получени покрытий в вакууме |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU742046953A SU567341A1 (ru) | 1974-07-22 | 1974-07-22 | Устройство дл получени покрытий в вакууме |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU567341A1 true SU567341A1 (ru) | 1978-07-18 |
Family
ID=20591949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU742046953A SU567341A1 (ru) | 1974-07-22 | 1974-07-22 | Устройство дл получени покрытий в вакууме |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| SU (1) | SU567341A1 (ru) |
-
1974
- 1974-07-22 SU SU742046953A patent/SU567341A1/ru active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4448802A (en) | Method and apparatus for evaporating material under vacuum using both an arc discharge and electron beam | |
| JP6491752B2 (ja) | 薄膜製造用仮想陰極蒸着(vcd) | |
| JPH09512304A (ja) | イオン支援された真空コーティング方法並びに装置 | |
| CN101156505A (zh) | 用于生成、加速和传播电子束和等离子体束的设备和方法 | |
| CN106119780A (zh) | 一种涂布系统 | |
| US20120279449A1 (en) | Apparatus and method for focused electric field enhanced plasma-based ion implantation | |
| US5070811A (en) | Apparatus for applying dielectric or metallic materials | |
| US8405326B2 (en) | Method and apparatus for generating ion beam | |
| CN102808155A (zh) | 电子轰击式蒸发源系统 | |
| JP3481953B2 (ja) | 基板をコーティングするための装置 | |
| US20150140231A1 (en) | Method and apparatus for deposition of thin film materials for energy storage devices | |
| JPH0456761A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| US4093858A (en) | Cesium injection system for negative ion duoplasmatrons | |
| JPS61143579A (ja) | プラズマイオン供給方法 | |
| JPS5489983A (en) | Device and method for vacuum deposition compound | |
| CN113643950B (zh) | 一种产生掺杂碱金属或卤素的耦合气体团簇离子束的装置和方法 | |
| JPH04120271A (ja) | クラスタイオンビーム発生方法およびクラスタイオンビーム発生装置 | |
| JPH0214426B2 (ru) | ||
| JPH08319562A (ja) | プラズマ発生装置およびイオンプレーティング装置 | |
| JPH09256148A (ja) | イオンプレーティング装置 | |
| JPH0417669A (ja) | プラズマを用いた成膜方法およびrfイオンプレーティング装置 | |
| JP2010180469A (ja) | イオンプレーティング装置 | |
| JPS6199670A (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
| JPH0542603Y2 (ru) | ||
| JPH04168272A (ja) | イオンビーム製膜方法およびイオンビーム製膜装置 |