SU872012A1 - Способ вторичного охлаждени непрерывного слитка-швеллера - Google Patents

Description

Изобретение относитс  к литейному производству, точнее к непрерывному литью металла, и предназначено преимущественно дл  производства стальных слитков-швеллеров, используемых в качестве расходуемых электродов при электрошлаковом переплаве металла . Известен способ вторичного охлаждени  непрерывного слитка-швеллера, предусматривающий подачу распыленной воды на участки его поверхности Согласно этому способу на внутренние поверхности стенки и полок слиткашвеллера на участке его, примыкающем к кристаллизатору и равном по прот женности 0,6-0,75 глубины литейной лунки, воду подают с расходом , равным расходу воды, подаваемой на внешнюю поверхность стенки слитк4-швеллера . На последующем участке зоны вторичного охлаждени  производ т лишь воздушное охлаждение поверх ностей слитка-швеллера. Полученный слиток-швеллера по дан ному способу имеет кривизну по длине до 4-6 мм на 1 пог.м. Это св зано с тем, что в известном способе разни ца температур поверхности слиткашвеллера в районе внутренних поверхн стей стенки и полок слитка-швеллера и внешней поверхности его стенки уменьшаетс  до 120-150с. Однако при этой разнице температур брак слитковшвеллеров составл ет 5,5-6,5%. Цель изобретени  - уменьшение деформации непрерывного слитка-швеллера . Дл  достижени  поставленной цели на внутренние поверхности стенок и полок слитка-швеллера на участке его, примыкающем к кристаллизатору и равным по прот женности 0,3-0,5 глубины литейной лунки, воду подают с расходом , равным 0,7-0,9 расхода воды, подаваемой на внешнюю поверхность стенки слитка-швеллера, а на последующий участок прот женностью 0,20 ,4 глубины литейной лунки воду подают только на внешнюю поверхность стенки слитка-швеллера. Подача воды форсунками с отношением расхода ее на внутренние поверхности стенки и полок слитка-швеллера к расходу воды на внешнюю поверхность стенки слитка-швеллера,, равным 0,7-0,9, на участке, примыкающем к кристаллизатору и равном по прот женности 0,3-0,5 глубины литейной лунки , обеспечивает уменьшение деформа

Claims (1)

1. Формула изобретения

   Способ вторичного охлаждения непрерывного слитка-швеллера, предусматривающий подачу распыленной воды на участке его поверхности, о тл и чающийся тем, что, с целью уменьшения деформации слитка, на внутренние поверхности стенки и полок слитка-швеллера на участке его, примыкающем к кристаллизатору и равном по протяженности 0,3-0,5 глубины литейной лунки, воду подают с расходом, равным 0,7-0,9 расхода воды, подаваемой на внешнюю поверхность стенки слитка-швеллера, а на последующий участок протяженностью 0,20,4 глубины литейной лунки воду подают только на внешнюю поверхность стенки слитка-швеллера.