TH107910A - กระบวนการเพื่อการเตรียม ราซีมิกไซทัลโลแพรมไดออลและ/หรือ s- หรือ r- ไซทัลโลแพรมไดออล และการใช้ไดออลดังกล่าวสำหรับการเตรียมราซีมิกไซทัลโลแพรม r-ไซทัลโลแพรม และ/หรือ s-ไซทัลโลแพรม - Google Patents
กระบวนการเพื่อการเตรียม ราซีมิกไซทัลโลแพรมไดออลและ/หรือ s- หรือ r- ไซทัลโลแพรมไดออล และการใช้ไดออลดังกล่าวสำหรับการเตรียมราซีมิกไซทัลโลแพรม r-ไซทัลโลแพรม และ/หรือ s-ไซทัลโลแพรมInfo
- Publication number
- TH107910A TH107910A TH301004879A TH0301004879A TH107910A TH 107910 A TH107910 A TH 107910A TH 301004879 A TH301004879 A TH 301004879A TH 0301004879 A TH0301004879 A TH 0301004879A TH 107910 A TH107910 A TH 107910A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- diol
- combining
- acids
- free
- salts formed
- Prior art date
Links
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 title claims abstract 16
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract 36
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract 24
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims abstract 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 9
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 claims abstract 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 claims 1
- 239000002585 base Substances 0.000 abstract 13
- 239000012458 free base Substances 0.000 abstract 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract 7
- 239000010802 sludge Substances 0.000 abstract 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 abstract 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 150000008043 acidic salts Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 abstract 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 abstract 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 abstract 1
Abstract
DC60 (15/03/47) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับกระบวนการสำหรับการเตรียมฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกลือจาก การรวมกับกรดของราซีมิกไดออล และ/หรือฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของ R- หรือ S-ไดออล ซึ่งประกอบรวมด้วยการแยกของผสมชนิดนอน-ราซีมิกแรกเริ่มของฟรีเบส และ / หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของ R- และ S-ไดออล ที่มีหนึ่งในบรรดาอิแนนทิโอเมอร์ มากกว่า 50 % ออกเป็นแฟรคชันที่เต็มไปด้วยฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของ S-ไดออล หรือ R-ไดออล และแฟรคชันที่ประกอบด้วยฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของ RS-ไดออล ซึ่งอัตราส่วนของ R-ไดออล S-ไดออล เท่ากับ 1:1 หรือใกล้กับ 1:1 มากกว่าใน ของผสมแรกเริ่มของ R- และ S- ไดออล ที่แสดงลักษณะเฉพาะที่ว่า i) ตกตะกอนฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของ RS-ไดออลจากสารละลาย ของของผสมชนิดนอนราซีมิกแรกเริ่มของฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับ กรดของ R- และ S-ไดออล ; หรือ ละลายฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของ R- หรือ S- ไดออล ในตัว ทำละลายหนึ่งจากของผสมชนิดนอน-ราซีมิกแรกเริ่มของฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกิด จากการรวมกับกรดของ R- และ S- ไดออล ในตัวทำละลายดังกล่าว ซึ่งปล่อยให้เรซิดิว ซึ่งประกอบรวมด้วยฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของ RS-ไดออล เหลืออยู่ ii) แยกเรซิดิว/ตะกอนที่เกิดขึ้นออกจากเฟสของสารละลายสุดท้าย iia) ถ้าเรซิดิว/ตะกอนเป็นผลึก มันถูกเลือกตกผลึกซ้ำหนึ่งครั้ง หรือมากกว่านั้น เพื่อก่อเกิดราซีมิกไดออล iib) ถ้าเรซิดิว/ตะกอนไม่ใช้ผลึก เลือกทำซ้ำขั้น i) และ ii) จนกระทั่งได้รับเรซิดิว / ตะกอน ที่เป็นผลึก และเลือกตกผลึกเรซิดิว/ตะกอนที่เป็นผลึกซ้ำหนึ่งครั้ง หรือมากกว่านั้น เพื่อก่อเกิดราซีมิกไดออล iii) เฟสของสารละลายสุดท้ายถูกเลือกนำไปอยู่ภายใต้ การทำให้บริสุทธิ์ต่อไป และแยก ฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของ S-ไดออล, R-ไดออล ออกจาก เฟสของสารละลายสุดท้ายนั้น เลือกแปลงผันฟรีเบสของไดออลที่ได้รับไปเป็นเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของสารนั้น หรือเลือกแปลงผันเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของไดออล ไปเป็นเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรด ชนิดอื่น ๆ หรือเลือกแปลงผันเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของไดออลที่ได้รับไปเป็นฟรีเบสที่ สอดคล้องกัน การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับกระบวนการเพื่อการเตรียมฟรีเบส และ / หรือเกลือที่เกลือจาก กการรวมกับกรด ของราซีมิกไดออล และฟรีเบส และ / หรือ เกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของ R- หรือ S-ไดออล ซึ่ง ประกอบรวมด้วยการแยกของผสมชนิดนอน-ราซีมิกแรกเริ่มของฟรี เบส และ / หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของ R- และ S-ได ออล ที่มีหนึ่งในบรรดาอิแนนทิโอเมอร์ มากกว่า 50 % ออกเป็นแฟรค ชันที่เต็มไปด้วย พรีเบส และ / หรือ เกลือที่เกิดจากากรรวม กับกรดของ S-ไดออล หรือ R-ไดออล และแฟรคชันซึ่งประกอบรวม ด้วยฟรีเบส และ / หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของ RS- ไดออล ซึ่งอัตราส่วนของ R-ไดออล, S-ไดออล เท่ากับ 1:1 หรือ ใกล้กับ 1:1 มากกว่าใน ของผสมแรกเริ่มของ R- และ S- ไดออล ที่แสดงลักษณะเฉพาะที่ว่า i) ตกตะกอนฟรีเบส และ / หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรด ของ RS-ไดออล จากสารละลาย ของของผสมชนิดนอนราซีมิก แรก เริ่มของฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับ กรด และ R-ไดออล, S-ไดออล หรือ ละลายฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกิดจาการรวมกับกรดของ R- หรือ S- ไดออล ในตัว ทำละลายหนึ่งจากของผสมชนิดนอน-ราซีมิกแรกเริ่มของฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกิด จากการรวมกับกรดของ R- และ S- ไดออล ในตัวทำละลายดังกล่าว ซึ่งปล่อยให้เรซิดิว ซึ่งประกอบรวมด้วยฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของ RS-ไดออล เหลืออยู่ ii) แยกเรซิดิว / ตะกอน ที่เกิดขึ้นออกจากเฟสของสารละลาย สุดท้าย iia) ถ้าเรซิดิว/ตะกอนเป็นผลึก มันถูกเลือกตกผลึกซ้ำหนึ่ง ครั้ง หรือมากกว่านั้น เพื่อก่อเกิดราซีมิกไดออล iib) ถ้าเรซิดิว / ตะกอบไม่ใช้ผลึก ขั้น i) และ ii) ถูก เลือกทำซ้ำจนกระทั่งได้รับเรซิดิว / ตะกอนที่เป็นผลึก และ เรซิดิว/ตะกอนที่เป็นผลึกถูกเลือกตกผลึกซ้ำหนึ่งครั้ง หรือ มากกว่านั้น เพื่อก่อเกิดราซีมิกไดออล iii) เฟสของสารละลายสุดท้ายถูกเลือกให้อยู่ภายใต้การทำให้ บริสุทธิ์ต่อไป และแยก ฟรีเบส และ/หรือเกลือที่เกิดจากการ รวมกับกรดของ R-ไดออล, S-ไดออล ออกจาก เฟสของสารละลายสุด ท้าย นั้น เลือกแปลงผันฟรีเบสของไดออลที่ได้รับไปเป็นเกลือที่เกิด จากการรวมกับกรดของสารนั้น หรือเลือกแปลงผันเกลือที่เกิด จากการรวมกับกรดของไดออล ไปเป็นเกลือที่เกิดจากการรวมกับ กรด ชนิดอื่น ๆ หรือเลือกแปลงผันเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของไดออลที่ได้รับไปเป็นฟรีเบสที่ สอดคล้องกัน:
Claims (1)
1. กระบวนการเพื่อการเตรียมฟรีเบส และ / หรือเกลือที่เกลือจากกการรวมกับกรด ของราซีมิก ไดออล และฟรีเบส และ / หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดของ R- หรือ S-ไดออล ซึ่ง ประกอบรวม ด้วยการแยกของผสมชนิดนอน-ราซีมิกแรกเริ่มของฟรี เบส และ / หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรด ของ R- และ S-ได ออล ที่มีหนึ่งในอิแนนทิโอเมอร์ มากกว่า 50 % ออกเป็นแฟรค ชันที่เต็มไปด้วย พรีเบส และ / หรือ เกลือที่เกิดจากากรรวม กับกรดของ S-ไดออล หรือ R-ไดออล และแฟรคชัน ซึ่ง ประกอบรวม ด้วยฟรีเบส และ / หรือเกลือที่เกิดจากการรวมกับกรดแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH107910A true TH107910A (th) | 2011-05-20 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Guo et al. | A chiral recognition polymer based on polyaniline | |
| JP2004169007A5 (th) | ||
| AR083483A2 (es) | Proceso para la preparacion del citalopram racemico y del s- o r-citalopram mediante la separacion de una mezcla de r- y s-citalopram | |
| Kurosaki et al. | Torsional chirality generation based on cyclic oligomers constructed from an odd number of pyrenes | |
| JP2007530539A5 (th) | ||
| TH107910A (th) | กระบวนการเพื่อการเตรียม ราซีมิกไซทัลโลแพรมไดออลและ/หรือ s- หรือ r- ไซทัลโลแพรมไดออล และการใช้ไดออลดังกล่าวสำหรับการเตรียมราซีมิกไซทัลโลแพรม r-ไซทัลโลแพรม และ/หรือ s-ไซทัลโลแพรม | |
| HRP20200135T1 (hr) | Metoda odvajanja izoprenskih sastojaka guayule | |
| JP2007513069A5 (th) | ||
| CN113891760A (zh) | 溶剂干燥组合物及相关的方法 | |
| RU2011141757A (ru) | Способ превращения ароматических альдегидов в ароматические ацилгалогениды | |
| US3819689A (en) | Resolution of dl-camphor-10-sulfonic acid | |
| JP2003062448A5 (th) | ||
| JP2005504144A5 (th) | ||
| US2387019A (en) | Aliphatic dinitro tetrols | |
| JPS55155703A (en) | Polysulfone-base separating membrane and its production | |
| KR100916286B1 (ko) | 구아니디니움 바이페닐 2,2’―디일디메탄 술포네이트 숙주분자의 포접능을 이용한 자일렌 이성질체의 선택적분리방법 | |
| KR100949140B1 (ko) | 구아니디니움 4―클로로벤젠 술포네이트의 숙주분자의선택적 포접능에 의한 자일렌 이성질체의 선택적 분리방법 | |
| RU2003107938A (ru) | Эпоксидная композиция | |
| KR100949138B1 (ko) | 구아니디니움 4―아이오도벤젠 술포네이트에 의한 자일렌이성질체의 선택적 분리방법 | |
| Hoyt et al. | Rigid rod molecules as liquid crystal thermosets | |
| MEP5708A (xx) | Postupak pripremanja racemskog citalopram diola i/ili r-citalopram diola i upotreba takvih diola za pripremanje racemskog citaloprama , r-citaloprama i/ili s-citaloprama. | |
| KR100949136B1 (ko) | 구아니디니움 4―브로모벤젠 술포네이트의 선택적 포접법을이용한 자일렌 이성질체의 선택적 분리방법 | |
| Zagajski Kučan et al. | Liquid fuel denitrification and desulfurization by means of choline chloride and betaine based deep eutectic solvents | |
| Zhou et al. | Solvent‐Regulated CPL Enhancement via Chiral Transfer in Efficient Luminescent Ionic Hydrogen‐Bonded Frameworks for Information Encryption | |
| JPS60115543A (ja) | 臭素化−ｐ−フエニルフエノ−ル |