TH12653B - เครื่องมือสำหรับการกระทำด้วยพลาสมาว่องไวและวิธีการ - Google Patents
เครื่องมือสำหรับการกระทำด้วยพลาสมาว่องไวและวิธีการInfo
- Publication number
- TH12653B TH12653B TH9201001181A TH9201001181A TH12653B TH 12653 B TH12653 B TH 12653B TH 9201001181 A TH9201001181 A TH 9201001181A TH 9201001181 A TH9201001181 A TH 9201001181A TH 12653 B TH12653 B TH 12653B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- plasma
- substrate
- reaction chamber
- coating
- instrument
- Prior art date
Links
Abstract
เครื่องมือสำหรับกระทำด้วยพลาสมามีประโยชน์สำหรับการเคลือบสับสเตรทเข้ากับฟิล์มบางที่มีสมบัติเป็นขั้นกั้นโอในอัตราการพอกพูนที่ค่อนข้าเร็ว เครื่องมือนี้ประกบด้วยห้องทำปฏิกิริยาที่เอาอากาศออกได้ อีเลคโทรดพลังไฟฟ้าที่กำหนดพื้นผิวที่หันหน้าเข้หาพลาสมาภายในห้องทำปฏิกิริยาและส่วนกำบังที่กั้นเป็นช่องที่มีระยะห่าง ตามขวางจากพื้นผิวที่หันหน้าเชข้หาพลาสมา ในช่วงระหว่างการกระทำด้วยพลาสมาพลาสมาจะได้รักบารกัดให้อยู่ห่างในระยะ ในขณะที่มีการป้อนสับสเตรทอย่างต่อเนื่องสู่พลาสมาที่ได้รับการกักไว้
Claims (19)
1.เครื่องมือสำหรับกระทำด้วยพลาสมาที่ประกอบด้วย: ห้องทำปฏิกิริยาที่ระบายอากาศออกได้; อุปกรณ์สำหรับสร้างพลาสมาภายในห้องทำปฏิกิริยา โดยอุปกรณ์สำหรับสร้างพลาสมาประกอบด้วยอีเลคโรดที่ทำงานด้วยไฟฟ้าที่กำหนดพื้นผิวที่อยู่ประชิดกับพลาสมาภายในห้องทำปฏิกิริยา อุปกรณ์สำหรับเชื่อมต่อไฟฟ้าจากอีเลคโรดไปยังสับสเทรตหนึ่ง ๆ เสมื่อสับสเทรตอยู่ภายในห้องทำปฏิกิริยาโดยการจัดวางพื้นผิวที่อยู่ประชิดกับพลาสมาไว้ในลูกกลิ้ง (rolling)ที่สำผัสกับสับสเทรต และสำหรับเผยส่วนที่เปลี่ยนแปลงได้อย่างต่อเนื่องของสับสเทรตเข้าหาพลาสมาในระหว่างกระทำด้วยพลาสมา และ อุปกรณ์สำหรับจำกัดพลาสมาให้อยู่ใกล้ชิดกับส่วนของสับสเทรตที่เปลี่ยนแปลงได้อย่างต่อเนื่องโดยอุปกรณ์จำกัดขอบเขตประกอบด้วยเครื่องกำบังที่ต่อลงดิน
2.เครื่องมือตามข้อพถือสิทธิที่ 1 โดยที่อีเลคโทรดที่ทำงานด้วยไฟฟ้ามีไบแอสเป็นลบเมื่อเทียบกับอุปกรณ์จำกัดขอบเขต
3.เครื่องมือตามข้อพถือสิทธิที่ 1 โดยที่อุปกรณ์จำกัดขอบเขตจำกัดพลาสมาให้อยู่ที่ส่วนที่เปลี่ยนแปลงได้ของสับสเทรตและอยู่ภายในระยะทางระหว่างประมาณ 0.5 นิ้ว ถึงประมาณ 12 นิ้ว ออกมาทางด้านนอก
4.เครื่องมือตามข้อพถือสิทธิที่ 3 โดยที่ทำเครื่องกำบังที่ต่อลงดินให้เย็นลงที่เว้นระยะอย่างน้อยที่สุด จากส่วนที่เปลี่ยนแปลงได้ของสับสเทรต และจำกัดพลาสมาส่วนใหญ่อยู่ระหว่างส่วนที่เปลี่ยนแปลงได้ของสับสเทรต และเครื่องกำบัง
5.เครื่องมือตามข้อพถือสิทธิที่ 4 โดยที่พื้นผิวที่อยู่ประชิดกับพลาสมามีลักษณะงอโค้ง และขยายตามยาวตามแนวแกน และเครื่องกำบังมีแกนร่วมกับพื้นผิว
6.เครื่องมือตามข้อพถือสิทธิที่ 4 โดยที่อุปกรณ์จำกัดขอบเขตประกอบด้วยอุปกรณ์แม่เหล็กสำหรับสร้างสนามแม่เหล็กที่ขยายเข้าไปในพลาสมา และตัดกันกับพื้นผิวที่อยู่ประชิดกับพลาสมา
7.เครื่องมือตามข้อพถือสิทธิที่ 6 โดยที่อุปกรณ์แม่เหล็กประกอบด้วยคู่ขั่วแม่เหล็กอย่างน้อยที่สุดหนึ่งคู่จัดวางอยู่ใกล้ชิดกับเครื่องกำบัง
8.เครื่องมือตามข้อพถือสิทธิที่ 4 โดยที่ปรับห้องทำปฏิกิริยาให้รักษาไว้ที่น้อยกว่าประมาณ 0.1 เทอร์ในระหว่างการกระทำสับสเทรตด้วยพลาสมา
9.เครื่องมือตามข้อพถือสิทธิที่ 8 โดยที่อุปกรณ์สร้างพลาสมาประกอบด้วยแห่งกำเนิดแก๊สสร้างฟิลบ์ม โดยแก๊สสามารถสร้างสารเคลือบสับสเทรตที่ชิดกันในระหว่างการกระทำสับสเทรดด้วยพลาสมา
10.เครื่องมือตามข้อพถือสิทธิที่ 9 โดยที่อุปกรณ์สร้างพลาสมาประกอบด้วย ทางเข้าที่เกี่ยวข้องกับเครื่องกำบังที่ต่อลงดิน สำรหับการบรรจะกระแสแก๊สที่สร้างฟิลืมจากแหล่งกำเนิดแก๊สเข้าไปเป็นระยะทาง
11.เครื่องมือตามข้อพถือสิทธิที่ 1 โดยที่พื้นผิวที่อยู่ประชิดกับพลาสมาเป้นทรงกระบอก
12.เครื่องมือตามข้อพถือสิทธิที่ 11 โดยที่สับสเทรตส่วนใหญ่ไม่นำไฟฟ้าและยืดหยุ่นได้
13.เครื่องมือตามข้อพถือสิทธิที่ 1 โดยที่สับสเทรตนำไฟฟ้าเป็นส่วนใหญ่ และสับสเทรตสร้างพื้นผิวที่ประชิดกับพลาสมา
14.เครื่องมือเคลือบฟิล์มบางที่ประกอบด้วย: ห้องทำปฏิกิริยาที่ระบายอากาศออกให้เหลือน้อยกว่าประมาณ 0.1ทอรร์; อุปกรณ์สำหรับสร้างพลาสมาภายในห้องทำปฏิกิริยาจากแระแสแก๊สที่สร้างฟิล์มโดยกระแสแก๊สสร้างฟิล์มที่สามารถสะสมสารเคลือบที่อยู่ชิดกันลงบนสับสเทรต; อุปกรณ์สำหรับสร้างพลาสมาให้อยู่ในส่วนของสับสเทรตที่เปลี่ยนแปลงได้อย่างน่อนเองโดยถูกป้อนผ่านทางห้องทำปฏิกิริยาในระหว่างการเคลือบสารและให้อยู่ภายในระยะทาง ออกมาทางด้านนอก; อุปกรณ์จำกัดขอบเขตประกอบด้วยเครื่องกำบังที่ต่อลงดิน; และ อุปกรณ์สำหรับไบแอสส่วนของสับสเทรดที่ถูกเคลือบให้เป้นลบเมื่อเยบกับห้องทำปฏิกิริยาและเทียบกับเครื่องกำยบังที่ต่อลงดิน
15.เครื่องมือเคลือบสารตามข้อถือสิทธิ 14 โดยที่ระยะทางอยู่ระหว่างประมาณสองนิ้วถึงประมาณสี่นิว
16.เครื่องมือเคลือบสารตามข้อถือสิทธิ 14 โดยที่ทำเครื่องกำลังที่ต่อลงดินให้เย็นลงและถูกเว้นระยะอย่างน้อยที่สุดเป็นระยะทาง จากส่วนของสับสเทรตที่เปลี่ยนแปลงได้
17.เครื่องมือเคลือบสารตามข้อถือสิทธิ 16 โดยที่พื้นผิวที่อยู่ประชิดกับพลาสมามีลักษณะโค้งงอ และขยายตามยาวตามแนวแกน และเครื่องกำบังใช้แกนร่วมกับพื้นผิว
18.เครื่องมือเคลือบสารตามข้อถือสิทธิ 17 โดยที่อุปกรณ์แม่เหล็กประกอบด้วยคู่ขั่วแม่เหล็กอย่างน้อยที่สุดหนึ่งคู่ที่วางอยู่ชิดกับเครื่องกำบัง
19.เครื่องมือเคลือบสารตามข้อถือสิทธิ 14 โดยที่อุปกรณ์ไบแอสให้เป็นลบประกอบด้วยอีเลคโทรดที่กำหนดพื้นผิวที่อยู่ประชิดกับพลาสมาภายในห้องทำปฏิกิริยา และส่วนของสับสเทรตที่เปลี่ยนแปลงได้จะสัมผัสกับอีเลคโทรดพร้อมกับหมุนในระหว่างการเคลือบสาร
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH14372A TH14372A (th) | 1994-06-30 |
| TH12653B true TH12653B (th) | 2002-05-07 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY110816A (en) | Apparatus for rapid plasma treatments and method | |
| EP3711078B1 (en) | Linearized energetic radio-frequency plasma ion source | |
| US5578130A (en) | Apparatus and method for depositing a film | |
| EP0502385B1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer doppelseitigen Beschichtung von optischen Werkstücken | |
| EP0574100B1 (en) | Plasma CVD method and apparatus therefor | |
| CN1397151A (zh) | 等离子体加工系统和方法 | |
| ATE256763T1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum beschichten mittels bogenentladung | |
| US6143124A (en) | Apparatus and method for generating a plasma from an electromagnetic field having a lissajous pattern | |
| KR20010012858A (ko) | 기판상에 유전체막을 스퍼터 증착하기 위한 장치 및 방법 | |
| TH14372A (th) | เครื่องมือสำหรับการกระทำด้วยพลาสมาว่องไวและวิธีการ | |
| JP2942899B2 (ja) | プラズマｃｖｄ装置用電極装置 | |
| JP6896911B2 (ja) | バッチ式基板処理装置 | |
| JPS6369981A (ja) | プラズマ化学処理によって層を形成する方法および装置 | |
| TWI384086B (zh) | Film forming apparatus and thin film forming method | |
| CN1106670C (zh) | 等离子体发生装置 | |
| JPH0766138A (ja) | プラズマｃｖｄ装置 | |
| Novák et al. | Generation of supersonic plasma flow by means of unipolar RF discharges | |
| KR100593805B1 (ko) | 필름상 중합체에 금속박막을 연속적으로 형성하기 위한장치 및 방법 | |
| CN108315722A (zh) | 一种弧形电极等离子体增强化学气相沉积装置 | |
| JPH04168281A (ja) | 大気圧グロープラズマ装置 | |
| KR20040088650A (ko) | 박막 합성 장치 | |
| JPS6063919A (ja) | 表面処理装置 | |
| KR20030069575A (ko) | 대면적 플라스틱 표면 처리용 플라스마 장치 | |
| DE59005990D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Substrates in einem Plasma. | |
| JPS6465261A (en) | Vapor deposition method by plasma ionization |