TH169607A

TH169607A - โพลีเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐานซึ่งมีส่วนน้ำหนักโมเลกุลสูงลดลง

Info

Publication number: TH169607A
Application number: TH1601002743A
Authority: TH
Inventors: คาร์โต; เค. จอห์น; เอ็กมอนด์ แวน; ดับบลิว. แจน; เลสเตอร์; ดี. ชาร์ลส์
Original assignee: นาย จักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์; นางสาว ปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณื; นาย รุทร นพคุณ
Filing date: 2014-11-14
Publication date: 2017-10-27

Abstract

แก้ไข บทสรุป 03/06/2559 การเปิดเผยนี้จัดให้มีกระบวนการสำหรับผลิตโพลีเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐาน กระบวนการ ประกอบด้วยการสัมผัสโพรพิลีนโมโนเมอร์ และโคโมโนเมอร์หนึ่งชนิดหรือมากกว่านั้นในลักษณะที่ เลือกได้ กับองค์ประกอบตัวเร่งปฏิกิริยา Ziegler-Natta ภายใต้สภาวะของกระบวนการโพลีเมอรไรเซซั่น กระบวนการประกอบด้วยการคงอุณหภูมิของเขตปฏิกิรยาในเตาปฏิกรณ์ไว้ที่อุณหภูมิตั้งแต่มากกว่า 72?ํC จนถึงน้อยกว่าหรือเท่ากับ 85?ํC และการก่อรูปของโพลีเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐานที่มีน้ำหนัก โมเลกุล (Mw) มากกว่า 100,000 และ Mz+1/Mz น้อยกว่า 2.20 โพลีเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐานที่ได้รับ มีข้อดีในการประยุกต์ใช้กับงานเส้นใย -------------------------------------------------- การเปิดเผยนี้จัดให้มีกระบวนการสำหรับผลิตโพลีเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐาน กระบวนการ ประกอบด้วยการสัมผัสโพรพิลีนโมโนเมอร์ และโคโมโนเมอร์หนึ่งชนิดหรือมากกว่านั้นในลักษณะที่ เลือกได้ กับองค์ประกอบตัวเร่งปฏิกิริยา Ziegler-Natta ภายใต้สภาวะของกระบวนการโพลีเมอรไรเซซั่น กระบวนการประกอบด้วยการคงอุณหภูมิของเขตปฏิกิรยาในเตาปฏิกรณ์ไว้ที่อุณหภูมิตั้งแต่มากกว่า 72 ํC จนถึงน้อยกว่าหรือเท่ากับ 85 ํC และการก่อรูปของโพลีเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐานที่มีน้ำหนักโมเลกุล (Mw) มากกว่า 100,000 และ Mz+1/Mz น้อยกว่า 2.20 โพลีเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐานที่ได้รับมีข้อดีใน การประยุกต์ใช้กับงานเส้นใย

Claims

: แก้ไข บทสรุป 03/06/2559 การเปิดเผยนี้จัดให้มีกระบวนการสำหรับผลิตโพลีเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐาน กระบวนการ ประกอบด้วยการสัมผัสโพรพิลีนโมโนเมอร์ และโคโมโนเมอร์หนึ่งชนิดหรือมากกว่านั้นในลักษณะที่ เลือกได้ กับองค์ประกอบตัวเร่งปฏิกิริยา Ziegler-Natta ภายใต้สภาวะของกระบวนการโพลีเมอรไรเซซั่น กระบวนการประกอบด้วยการคงอุณหภูมิของเขตปฏิกิรยาในเตาปฏิกรณ์ไว้ที่อุณหภูมิตั้งแต่มากกว่า 72?ํC จนถึงน้อยกว่าหรือเท่ากับ 85?ํC และการก่อรูปของโพลีเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐานที่มีน้ำหนัก โมเลกุล (Mw) มากกว่า 100,000 และ Mz+1/Mz น้อยกว่า 2.20 โพลีเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐานที่ได้รับ มีข้อดีในการประยุกต์ใช้กับงานเส้นใย -------------------------------------------------- การเปิดเผยนี้จัดให้มีกระบวนการสำหรับผลิตโพลีเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐาน กระบวนการ ประกอบด้วยการสัมผัสโพรพิลีนโมโนเมอร์ และโคโมโนเมอร์หนึ่งชนิดหรือมากกว่านั้นในลักษณะที่ เลือกได้ กับองค์ประกอบตัวเร่งปฏิกิริยา Ziegler-Natta ภายใต้สภาวะของกระบวนการโพลีเมอรไรเซซั่น กระบวนการประกอบด้วยการคงอุณหภูมิของเขตปฏิกิรยาในเตาปฏิกรณ์ไว้ที่อุณหภูมิตั้งแต่มากกว่า 72 ํC จนถึงน้อยกว่าหรือเท่ากับ 85 ํC และการก่อรูปของโพลีเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐานที่มีน้ำหนักโมเลกุล (Mw) มากกว่า 100,000 และ Mz+1/Mz น้อยกว่า 2.20 โพลีเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐานที่ได้รับมีข้อดีใน การประยุกต์ใช้กับงานเส้นใยข้อถือสิทธิ์ (ข้อที่หนึ่ง) ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : แก้ไข 03/06/2559

1. กระบวนการสำหรับผลิตโพลิเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐานซึ่งประกอบรวมด้วย: การสัมผัสโพรพิลีนโมโนเมอร์ และอาจเลือกให้สัมผัสโคโมโนเมอร์หนึ่งชนิดหรือมากกว่านั้น กับองค์ประกอบตัวเร่งปฏิกิริยา Ziegler-Natta ภายใต้สภาวะของกระบวนการโพลีเมอไรเซชั่นในเตา ปฏิกรณ์แก๊สเฟสโพลีเมอไรเซชั่น การคงอุณหภูมิของเขตปฏิกิริยาของเตาปฏิกรณ์แก๊สเฟสโพลีเมอไรเซชั่นไว้ที่อุณหภูมิตั้งแต่ มากกว่า 72 ?C จนถึงน้อยกว่าหรือเท่ากับ 85 ?C และ การก่อรูปโพลีเมอร์ที่มีโพรพิลีนเป็นพื้นฐานซึ่งมีน้ำหนักโมเลกุลแท็ก :