TH19275A

TH19275A - ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมซึ่งมีการกระจายตัวอยู่ร่วมกันสารปรับสภาพผมโพลิโซลอกเชน และสารช่วยให้ผมเป็นเงางามโพลิไซลอกเชน

Info

Publication number: TH19275A
Application number: TH9501001037A
Authority: TH
Inventors: โธมัสเซบาสเตียน แพ็ตเตอร์สัน นาย; มาร์คเดวิด อีแวนส์ นาย; วิลเลียมเดล เมอร์ด็อค นาย
Original assignee: นาย ดำเนินการเด่น; นาย ต่อพงศ์โทณะวณิก; นาย วิรัชศรีเอนกราธา; นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์; นายดำเนิน การเด่น
Filing date: 1995-05-11
Publication date: 1996-06-21

Abstract

??????????????????????????????????????????????????????? ???????????? ??????????????? (a) ???????????????????????? ?? ??????????????????????????????? ????????????????????? ????????????????? 0.01% ????????? 10% ????????????? ???? ??????????????????????????????? ????????????? 25 ?? ??????????????? 5,000 ?????????? ??????????????????????? ?????????????? ????????????????????? 1.48 (b) ?????????? ???????????????????????????????????????????????????????? ????????? ???????????? ????????????????? 0.005% ????????? 5% ?????????????????????? ?????????????????????????????? ???????????????????????? 1.48 ??????????? (c) ????????????????????????????????????? ??????????????????????? ?????????????? ???????????????? ???????? ??????????????????????????????????????????????? ???????? ??????????????????????????????????

Claims

1. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมสำหรับปรับสภาพและให้ความเงางามแก่เส้นผม ผลิตภัณฑ์ดังกล่าวประกอบด้วย (a) ส่วนประกอบสำหรับปรับสภาพผม ซึ่งกระจายตัวอยู่ที่ ประกอบด้วยโพลีไซ ลอกเซนฟลูอิคซึ่งไม่ละลาย ไม่ระเหย จาก ประมาณ 0.01% ถึงประ มาณ 10% โดยน้ำ หนักของผลิตภัณฑ์นั้นโพ ลิไซลอกเซนฟลูอิคดังกล่าวมี ความหนืด 25 ํซ อย่างน้อย ประมาณ5,000 เซนติพอยส์ และส่วน ประกอบสำหรับปรับสภาพผมดัง กล่าวมีดรรชนีหักเห น้อยกว่า 1.48 (b) ส่วนประกอบสำหรับช่วยให้ผมเป็นเงางาม ซึ่งกระจายตัว อยู่ที่ประกอบ ด้วยโพลิไซลอกเซนฟลูอิคซึ่งไม่ละลาย ไม่ระเหย จากประมาณ 0.005% ถึงประมาณ 5% โดยน้ำหนักของผลิตภัณฑ์นั้น ส่วนประกอบสำหรับช่วยให้ ผมเป็นเงางามดังกล่าวมีดรรชนีหักเห 1.48 หรือมากกว่า (c) พาหะซึ่งประกอบด้วยน้ำที่เหมาะสมสำหรับการใช้เฉพาะที่ กับผมนั้น ซึ่งส่วนประกอบสำหรับปรับสภาพผมดังกล่าว และส่วน ประกอบช่วยให้ผมเป็นเงางามดังกล่าว อยู่ในผลิตภัณฑ์ดังกล่าว ในรูปวัฏภาคไม่ต่อเนื่องซึ่งเด่นชัด

2. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบ ด้วยสารช่วยให้ แขวนลอยสำหรับวัฏภาคกระจายของสารปรับสภาพผม และสารช่วยให้เป็นเงางามดังกล่าว จากประมาณ 0.1% ถึงประมาณ 10% โดยน้ำหนัก

3. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมตามข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งแชมพู นั้นนอกจากนี้ประกอบ ด้วยสารลดแรงดึงผิวหน้าที่ชะล้างซึ่ง เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยสารลดแรงดึงผิวแอนไอ ออนิค สารลด แรงดึงผิวแอมฟอเทอริคและสารลดแรงดึงผิวนอนไอออนิค และสาร ดังกล่าว รวมกัน จากประมาณ 1% ถึงประมาณ 35% โดยน้ำหนัก

4. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผม ตามข้อถึอสิทธิข้อ 2 ซึ่งแชมพู นั้นนอกจากนี้ประกอบ ด้วยสารลดแรงดึงผิว ทำหน้าที่ชะล้าง ซึ่งเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยสารลดแรงดึงผิวแอนไอ ออนิค สารลดแรงตึงผิวแอนฟอเทอริค และสารลดแรงตึงผิวนอนไอออนิค และสารดังกล่าว รวมกันจากประมาณ 8% ถึงประมาณ 25% โดยน้ำ หนัก

5. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผม ตามข้อถึอสิทธิข้อ 4 ซึ่งวัฏภาค ของสารปรับสภาพ และสารช่วยให้เป็นเงางามที่กระจายอยู่ดัง กล่าว มีขนาดหยดเฉลี่ยเชิงน้ำหนัก คือ จาก ประมาณ 0.1 ไมครอน ถึงประมาณ 500 ไมครอน

6. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมตามข้อถึอสิทธิข้อ 5 ซึ่งขนาดหยด เฉลี่ยดังกล่าว คือ จากประมาณ 2 ไมครอนถึงประมาณ 250 ไมครอน

7. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมตามข้อถึอสิทธิข้อ 6 ซึ่งขนาดหยด เฉลี่ยดังกล่าวคือ จากประมาณ 5 ไมครอนถึงประมาณ 50 ไมครอน

8. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมตามข้อถึอสิทธิข้อ 1 ซึ่งสารปรับ สภาพดังกล่าวมี ดรรชนีหักเหจากประมาณ 1.42 ถึงประมาณ 1.44 และ สารช่วยให้เป็นเงางามดังกล่าว มีดรรชนีหักเหจากประมาณ 1.50 ถึงประมาณ 1.70

9. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมตามข้อถึอสิทธิข้อ 4 ซึ่งสารปรับ สภาพดังกล่าวมี ดรรชนีหักเหจากประมาณ 1.42 ถึงประมาณ 1.44 และสารช่วยให้เป็นเงางามดังกล่าวมี ดรรชนีหักเหจากประมาณ 1.50 ถึงประมาณ 1.60

10. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมตามข้อถึอสิทธิข้อ 9 ซึ่งสารช่วย ให้เป็นเงางามดัง กล่าวมีดรรชนีหักเหจากประมาณ 1.52 ถึง ประมาณ 1.56

11. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมตามข้อถึอสิทธิข้อ 8 ซึ่งโพลิไซ ลอกเซนดังกล่าวของ สารปรับสภาพดังกล่าว คือ โพลิไดเมธิลไซลอก เซน

12. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมตามข้อถึอสิทธิข้อ 9 ซึ่งโพลิไซ ลอกเซนดังกล่าวของ สารปรับสภาพดังกล่าว คือโพลิไดเมธิลไซลอก เซน

13. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมตามข้อถึอสิทธิข้อ 8 ซึ่งโพลิไซ ลอกเซนดังกล่าว ของสารช่วยให้เป็นเงางามดังกล่าว คือ โพลิเฟ นิลเมธิลไซลอกเซน ที่มีระดับเฉลี่ยของ การแทนที่ของเฟนิล อย่างน้อยประมาณ 50%

14. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผม ตามข้อถึอสิทธิข้อ 13 ซึ่งโพลิไซ ลอกเซนดังกล่าว ของสารช่วยให้เป็นเงางามดังกล่าว คือ โพลิ เฟ นิลเมธิลไซลอกเซนที่มีระดับเฉลี่ยของ การแทนที่ของเฟนิล อย่างน้อยประมาณ 50%

15. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมตามข้อถึอสิทธิข้อ 1 ซึ่งวัฏภาค ไม่ต่อเนื่องดังกล่าว ของสารช่วยให้เป็นเงางามดังกล่าวนอก จากนี้ประกอบด้วยสารช่วยให้กระจายสำหรับโพลิ ไซลอกเซนดัง กล่าว

16. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมตามข้อถึอสิทธิข้อ 16 ซึ่งสารช่วย ให้กระจายดัง กล่าวเลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วยซิลิโคนเร ซิน สารลดแรงดึงผิวและสารดังกล่าวรวมกัน

17. ผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมตามข้อถึอสิทธิข้อ 17 ซึ่งสารช่วย ให้กระจาย ดังกล่าว คือ MQ ซิลิโคนเรซิน

18. วิธีเตรียมผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาผมเฉพาะที่เพื่อช่วยปรับ สภาพและช่วยให้ผม เป็นเงางาม วิธีดังกล่าวประกอบด้วยขั้นตอน เกี่ยวกับ (a) การจัดเตรียมสารกระจายในน้ำของสารปรับสภาพโพลิไซลอกเซน สาร ปรับสภาพโพลิไซลอกเซนดังกล่าวมีดรรชนีหักเหน้อยกว่า 1.48 และ ความหนืดเฉลี่ยที่ 25 ํ ซ อย่างน้อยประมาณ 5,000 เซนติพอยส์ (b) การจัดเตรียมสารกระจายในน้ำของสารช่วยให้เป็นเงางามโพ ลิไซลอก เซน ซึ่งมีดรรชนีหักเห 1.48 หรือมากกว่า (c) การผสมสารกระจาย (a) ดังกล่าวกับสารกระจาย (b) ซึ่ง สามารถ กระจาย (a) และ (b) ดังกล่าว อยู่ในรูปวัฏภาคไม่ต่อ เนื่องซึ่งเด่น ชัดในผลิตภัณฑ์ดังกล่าว

19. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 19 ซึ่งผลิตภัณฑ์ดังกล่าวนอกจาก นี้ประกอบด้วยสาร ช่วยให้แขวนลอย

20. วิธีสำหรับช่วยปรับสภาพ และให้ความเงางามแก่เส้นผม ซึ่งประกอบด้วย การใช้ผลิตภัณฑ์ของข้อถือสิทธิข้อ 1 กับผม นั้น

21. วิธีทำความสะอาด ปรับสภาพและให้ความเงางามแก่ผมซึ่ง ประกอบด้วย การทำให้ผมเปียกน้ำ การใช้ผลิตภัณฑ์ของข้อถือ สิทธิข้อ 4 กับผมนั้น และการล้างผมด้วยน้ำ