TH2001007286A - สิทธิบัตรยังไม่ประกาศโฆษณา - Google Patents
สิทธิบัตรยังไม่ประกาศโฆษณาInfo
- Publication number
- TH2001007286A TH2001007286A TH2001007286A TH2001007286A TH2001007286A TH 2001007286 A TH2001007286 A TH 2001007286A TH 2001007286 A TH2001007286 A TH 2001007286A TH 2001007286 A TH2001007286 A TH 2001007286A TH 2001007286 A TH2001007286 A TH 2001007286A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- mass
- group
- represented
- compound
- ions
- Prior art date
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract 2
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 229910001447 ferric ion Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 abstract 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 abstract 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 abstract 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 abstract 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
Abstract
บทสรุปการประดิษฐ์ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณาReadFile:สิ่งที่ถูกจัดให้ไว้คือองค์ประกอบที่เป็นประโยชน์สำหรับการกัดผิวชั้นโลหะ,เช่นชั้นที่มีพื้นฐานเป็นทองแดง,องค์ประกอบที่ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่ละเอียดที่มีสภาพเชิงเส้นสูงและที่เป็นเลิศในด้านความแม่นยำของขนาดในขณะที่ระงับการเกิดฟิล์มตกค้างองค์ประกอบนั้นเป็นสารละลายที่เป็นน้ำที่ประกอบด้วย:(A)0.1ถึง25%โดยมวลของอย่างน้อยหนึ่งส่วนประกอบซึ่งถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยคิวปริกไอออนและเฟอร์ริกไอออน;(B)0.1ถึง30%โดยมวลของคลอไรด์ไอออน;(C)0.01ถึง10%โดยมวลของสารประกอบซึ่งถูกแสดงโดยสูตรต่อไปนี้(1)(R1แทนพันธะเดี่ยว,หรือที่คล้ายกันนั้น,R2และR3แต่ละตัวแทนหมู่C1-4แอลคิลีนโซ่ตรงหรือโซ่กิ่ง,R4และR5แต่ละตัวแทนอะตอมไฮโดรเจน,หรือที่คล้ายกันนั้น,และnแทนจำนวนที่ทำให้นํ้าหนักโมเลกุลเฉลี่ยตามจำนวน550ถึง1,400)ที่มีนํ้าหนักโมเลกุลเฉลี่ยตามจำนวนของ550ถึง1,400;(D)0.01ถึง10%โดยมวลของสารประกอบซึ่งถูกแสดงโดยสูตรต่อไปนี้(2)(R6แทนหมู่n-บิวทิล,R7แทนหมู่C2-4แอลคิลีน,และmแทนจำนวนเต็ม1ถึง3);และนํ้า(สูตรเคมี)(1)(สูตรเคมี)(2)
Claims (1)
1.องค์ประกอบที่เป็นลารละลายที่เป็นน้ำที่ประกอบรวมด้วย:(A)0.1ถึง25%โดยมวลของอย่างน้อยหนึ่งส่วนประกอบซึ่งถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยคิวปริกไอออนและเฟอร์ริกไอออน;(B)0.1ถึง30%โดยมวลของคลอไรด์ไอออน;(C)0.01ถึง10%โดยมวลของสารประกอบซึ่งถูกแสดงโดยสูตรต่อไปนี้(1),สารประกอบที่มีนํ้าหนักโมเลกุลเฉลี่ยตามจำนวนของ550ถึง1,400;(D)0.01ถึง10%โดยมวลของสารประกอบซึ่งถูกแสดงโดยสูตรต่อไปนี้(2):(สูตรเคมี)(1)ที่ซึ่งR1แทนพัน
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH2001007286A true TH2001007286A (th) | 2022-02-07 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW200834234A (en) | Radiation-sensitive resin compositions | |
| ATE537554T1 (de) | Vorläufer für die filmbildung und verfahren zur bildung eines rutheniumhaltigen films | |
| TW200508360A (en) | Aluminum chelate complex for organic EL material | |
| EP1273629A4 (en) | Antistatic composition | |
| EP1826196A3 (en) | Vinyl ether compounds | |
| CA2818744C (en) | Use of sulfosuccinates as corrosion inhibitors | |
| DE60204784D1 (de) | Lineare verbindungen enthaltend phenol und salicylsäure-einheiten | |
| WO2008093821A1 (ja) | 高分子発光素子、高分子化合物、組成物、液状組成物及び導電性薄膜 | |
| DK2038321T3 (da) | Umættede sammensætninger af polyesterharpiks | |
| BRPI0514058A (pt) | composições para limpeza de substratos microeletrÈnicos | |
| PH12014500719B1 (en) | Microelectronic substrate cleaning compositions having copper/azole polymer inhibition | |
| MX383476B (es) | Formulaciones anti-corrosion estables al almacenamiento. | |
| AR069800A1 (es) | Derivados 5- aminociclilmetil - oxazolidin-2- ona | |
| TW200600971A (en) | Calixresorcinarene compounds, photoresist base materials, and compositions thereof | |
| TH2001007286A (th) | สิทธิบัตรยังไม่ประกาศโฆษณา | |
| JP2005146110A5 (th) | ||
| TH2001003838A (th) | องค์ประกอบและวิธีการกัดผิว | |
| EA200201209A1 (ru) | Противоопухолевые аналоги ет-743 | |
| TW200615697A (en) | Composition for antireflection coating and pattern forming method | |
| TH65872B (th) | สารผสมนอนแอคเควียสแบบไม่กัดกร่อนเพื่อการทำความสะอาดวัสดุไมโครอิเล็กทรอนิกส์ | |
| TH74877A (th) | สารผสมนอนแอคเควียสแบบไม่กัดกร่อนเพื่อการทำความสะอาดวัสดุไมโครอิเล็กทรอนิกส์ | |
| TH70533A (th) | ส่วนประกอบสำหรับการสร้างฟิล์มปกป้องลายวงจรและการใช้ของส่วนประกอบดังกล่าว | |
| DE69606858D1 (de) | Cycloalkane enthaltendes reinigungsmittel | |
| TW200722940A (en) | Electrophotographic photoconductor | |
| TH123606A (th) | องค์ประกอบที่มีไซโคลโปรปีนและสารที่ทำให้เกิดสารเชิงซ้อนของโลหะ |