TH65872B - สารผสมนอนแอคเควียสแบบไม่กัดกร่อนเพื่อการทำความสะอาดวัสดุไมโครอิเล็กทรอนิกส์ - Google Patents

สารผสมนอนแอคเควียสแบบไม่กัดกร่อนเพื่อการทำความสะอาดวัสดุไมโครอิเล็กทรอนิกส์

Info

Publication number
TH65872B
TH65872B TH501001281A TH0501001281A TH65872B TH 65872 B TH65872 B TH 65872B TH 501001281 A TH501001281 A TH 501001281A TH 0501001281 A TH0501001281 A TH 0501001281A TH 65872 B TH65872 B TH 65872B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
group
alkyl
integers
compounds
abrasive
Prior art date
Application number
TH501001281A
Other languages
English (en)
Other versions
TH74877A (th
Inventor
อินาโอกะ นายเซอิจิ
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายรุทร นพคุณ
นายรุทร นพคุณ
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายรุทร นพคุณ, นายรุทร นพคุณ filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH74877A publication Critical patent/TH74877A/th
Publication of TH65872B publication Critical patent/TH65872B/th

Links

Abstract

DC60 (06/09/59) ได้มีการจัดเตรียมสารลอกโฟโตรีซิสต์ และสารผสมทำความสะอาดปลายย้อนกลับโดย สารผสมทำความสะอาดนอนแอคเควียสที่ไร้กรดอะมิโนที่โดยสาระสำคัญแล้วไม่กัดกร่อนทองแดง รวมทั้งอะลูมินัมและที่ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายอินทรีย์มีขั้วอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด, อะมีน อินทรีย์ที่ถูกไฮดรอกซิเลตอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด และสารประกอบตัวยับยั้งการกัดกร่อนอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดที่มีหมู่เชิงหน้าที่ไฮดรอกซิลหลายหมู่ซึ่งเป็นสารประกอบในสูตร T1[(CR1R2)m-(CR3R4)n]p-(CR5R6)q-T2 โดยที่ R1 และ R2 อย่างน้อยที่สุดหนึ่งหมู่ คือ OH, และถ้า R1 และ R2 หนึ่งหมู่ไมใช่ OH แล้ว จะถูก คัดเลือกจาก H, แอลคิล หรือแอลคอกซี, m คือ จำนวนเต็มทั้งหมดที่รวม 1 หรือมากกว่านั้น, คัดเลือก R3 และ R4 จาก H ,แอลคิล หรือแอลคอกซี, n คือ 0 หรือจำนวนเต็มบวกทั้งหมดที่มากกว่านั้น , p คือ จำนวนเต็มทั้งหมดที่รวม 1 หรือมากกว่านั้น , R5 และ R6 อย่างน้อยที่สุดหนึ่งหมู่ คือ OH และถ้า R5 และ R6 หนึ่งหมู่ไม่ใช่ OH แล้วควรคัดเลือกจาก H, แอลคิล หรือแอลคอกซี, q คือ จำนวนเต็มทั้งหมด ที่รวม 1 หรือมากกว่านั้น, คัดเลือก T1 และ T2 จาก H ,หมู่แอลคิล, ไฮดรอกซีแอลคิล,พอลิไฮดรอกซี แอลคิล, อะมิโนแอลคิล, คาร์บอนิลแอลคิล หรืออะมีด หรือ T1 และ T2 อาจได้รับการเชื่อมต่อกันเพื่อ ก่อรูปโครงสร้างซึ่งคัดเลือกจากวงอะลิฟาทิก หรือโครงสร้างวงที่หลอมรวมและอย่างเป็นทางเลือก แล้ว คือ ตัวทำละลายร่วมที่มีไฮดรอกซิลหนึ่งชนิด หรือมากกว่านั้น, สารประกอบอะริลเพื่อการยับยั้ง การกัดกร่อนที่มีหมู่ OH, OR6 และ/หรือ SO2R6R7 สองหมู่ หรือมากกว่านั้นซึ่งเกิดพันธะอย่างโดยตรง กับแหวนอะโรมาทิกโดยที่อย่างเป็นอิสระแล้ว คัดเลือก R6,R7 และ R8 แต่ละหมู่จากกลุ่มที่ ประกอบด้วยแอลคิล และอะริล, ตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อนของโลหะ, สารประกอบยับยั้งการ กัดกร่อนโลหะชนิดที่แตกต่างกัน และสารลดแรงตึงผิว

Claims (1)

1. ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :
TH501001281A 2005-03-23 สารผสมนอนแอคเควียสแบบไม่กัดกร่อนเพื่อการทำความสะอาดวัสดุไมโครอิเล็กทรอนิกส์ TH65872B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH74877A TH74877A (th) 2006-01-23
TH65872B true TH65872B (th) 2018-10-26

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NO20073122L (no) Ikke-vandige, ikke-korrosive mikroelektronikk-renseformuleringer
TW200736857A (en) Chemical rinse composition for removing resist stripper
DK1385926T3 (da) Smöreoliesammensætning der omfatter en tilsætningsstofkombination af en carboxylsyre og en amin som antirustmiddel
TW200508300A (en) Composition and method for removing copper-compatible resist
JP2009526910A5 (th)
WO2009020199A1 (ja) 鉛フリーハンダフラックス除去用洗浄剤組成物、および鉛フリーハンダフラックスの除去方法
JP2008509554A5 (th)
DE602004011673D1 (de) Zusammensetzungen
ATE450595T1 (de) Reinigungsmittel für mikroelektronik-substrate
WO2009016954A1 (ja) 水性金属加工油剤
BR9401407A (pt) Sais de metais alcalino-terrosos, sais de metais de transição e complexos de metais de transição, composição de revestimento, emprego de compostos, processos para proteger um substrato de metal e para a preparação de sais de metais e produto
AR058737A1 (es) Compuestos de benzoazepina con actividad hipotensora hidrosoluble y composicion farmaceutica inyectable que los comprende.
SG161273A1 (en) Non-aqueous photoresist stripper that inhibits galvanic corrosion
TH65872B (th) สารผสมนอนแอคเควียสแบบไม่กัดกร่อนเพื่อการทำความสะอาดวัสดุไมโครอิเล็กทรอนิกส์
TH74877A (th) สารผสมนอนแอคเควียสแบบไม่กัดกร่อนเพื่อการทำความสะอาดวัสดุไมโครอิเล็กทรอนิกส์
TW200641522A (en) Positive resist composition, method for forming resist pattern and compound
BRPI0921059A2 (pt) derivados de bifenilacetamida
DK1108001T3 (da) Anvendelse af pigmentsammensætninger indeholdende substituerede amidophtalocyaninderivater i en termoplastisk harpikssammensætning
TW200619368A (en) Polishing composition for silicon wafer
MX2009006129A (es) Compuestos de n-hidroxiacrilamida.
ATE473312T1 (de) Kesselstein- und korrosionsinhibitor und verfahren für wasserkreisläufe
AR047742A1 (es) Compuestos con actividad antitumoral
TH2001006637A (th) สิทธิบัตรยังไม่ประกาศโฆษณา
TH1901003900A (th) องค์ประกอบสารทำความสะอาดสำหรับแผ่นเหล็กกล้า
TH2001003838A (th) องค์ประกอบและวิธีการกัดผิว