TH20045A - กรรมวิธีการผลิตกรดแอคริลิค - Google Patents

กรรมวิธีการผลิตกรดแอคริลิค

Info

Publication number
TH20045A
TH20045A TH9501002869A TH9501002869A TH20045A TH 20045 A TH20045 A TH 20045A TH 9501002869 A TH9501002869 A TH 9501002869A TH 9501002869 A TH9501002869 A TH 9501002869A TH 20045 A TH20045 A TH 20045A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
less
copper
vanadium
raw material
valence
Prior art date
Application number
TH9501002869A
Other languages
English (en)
Other versions
TH20107B (th
Inventor
คาวาจิริ นายทัตสึยะ
ทานิโมโตะ นายมิชิโอะ
มิฮารา นายอิชิโร
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายดำเนิน การเด่น
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายดำเนิน การเด่น, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายวิรัช ศรีเอนกราธา filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH20045A publication Critical patent/TH20045A/th
Publication of TH20107B publication Critical patent/TH20107B/th

Links

Abstract

?????????????????????????????????????????????????????????? ???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????? ???????????????/????????? ??????????? ???????????????????????????????????????? ???????????????????????????? ?????????????????????????????? ??????????????????????? ???????????????????????????????? ???????????????????????? ?????????? ???????? ??? ??????????????????????????? ??????? ????????? ??????????????????????? ??????? 0 ??????????? 5 ????????????????????? ???????? ?????? ??????? ??????????????????????????????(?????????????) ??????? ???????????????????????? ??????? ?????????????????????????????????? 0 ??????????? 5

Claims (13)

1. กรรมวิธีการผลิตกรดแอคริลิคโดยการนำแอโครเลอินหรือแก๊ส ที่มีแอโครเลอินมาออกซิเดชันวัฎภาคแก๊สด้วยออกซิเจนที่เป็นโมเลกุลหรือแก๊สที่มีออกซิเจนที่เป็น โมเลกุลในที่ปรากฏอยู่ของตัวเร่งปฏิกิริยาออกไซด์ที่มีโมลิบเดนัม/วาเนเดียม เป็นพื้น ฐานแทนโดยสูตรทั่วไป (I) ต่อไปนี้ : MoaVbWcCudXeYfZgOh (I) ซึ่ง Mo คือโมลิบเดนัม, V คือวาเนเดียม, W คือทังเตน, Cu คือทองแดง, X เป็นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งธาตุซึ่งเลือกจากพลวงและดีบุก, Y เป็นอย่างน้อยที่สุด หนึ่งธาตุซึ่งเลือกจากแมกนีเซียม, แคลเซียม, สทรอนเทียมและแบเรียม, Z เป็น อย่างน้อยที่สุดหนึ่งธาตุซึ่งเลือกจากไทเทเนียม, เซอร์โคเนียมและซีเรียม, O คือ ออกซิเจน a, b, c, d, e, f, g และ h เป็นเลขอะตอมของ Mo, V, W, Cu, X, Y และ Z ตามลำดับ ด้วยเงื่อนไขที่ว่าเมื่อ a คือ 12,2 (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) b (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 14,O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) C (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 12,O (น้อยกว่า) d (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 5,O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) e (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 5,O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) f (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 3 และ O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) g (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 10; และ h คือเลขที่โดยเลขออกซิเดชันของธาตุแต่ละชนิดนอกจาก O, ซึ่งก่อให้เกิดกรรมวิธี ตัวเร่งปฏิกิริยาออกไซด์ที่มีโมลิบเดนัม/วาเนเดียม เป็นพื้นฐานโดยการใช้สารต่อไปนี้ เป็นวัตถุดิบของวาเนเดียม, ทองแดง, พลวงและดีบุก : เมื่อตัวเร่งปฏิกิริยาออกไซด์ที่มี โมลิบ เดนัม/วาเนเดียมเป็นพื้นฐานไม่มีทั้งพลวงและดีบุก นั่นคือ เมื่อ e = O (A) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และอย่างน้อย ที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งวาเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า O แต่น้อยกว่า 5 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท, หรือ (B) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ไนเทรทและอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งวาเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 หรือ (C) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งวาเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2, และเมื่อตัวเร่ง ปฏิกิริยาออกไซด์ที่มีโมลิบเดนัม/วาเนเดียมเป็นพื้นฐานมีพลวงและ/หรือดีบุก นั่นคือ เมื่อ O (น้อยกว่า) e (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 5, (D) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และอย่างน้อย ที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียมมากว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคืออย่างน้อย ที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 หรือ (E) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดทและอย่างน้อย ที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุ ดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคืออย่างน้อยที่สุดทิน ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซี ของดีบุกมากกว่า 0 แต่ น้อยกว่า 4 หรือ (F) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดทและอย่างน้อย ที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ(อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคืออย่างน้อย ที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุก คืออย่างน้อยที่สุด ฟิน ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (G) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคืออย่างน้อย ที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 หรือ (H) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคืออย่างน้อย ที่สุดทิน ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (I) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคืออย่างน้อยที่สุด แอนทิโมนี ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ(อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคืออย่างน้อยที่สุด ทิน ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (J) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และอย่างน้อย ที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียม มากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2, และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ(อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคืออย่างน้อยที่สุด แอนทิโมนี ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 หรือ (K) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และอย่างน้อย ที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียม มากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุด คอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งวาเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคืออย่างน้อย ที่สุดทิน ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (L) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และอย่าง น้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่ น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งวาเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคืออย่างน้อย ที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคืออย่างน้อยที่สุด ทิน ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (M) ใช้วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และส่วน ของมันในรูปแบบของสารเชิงซ้อนกับสารประกอบพลวง ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อย กว่า 5 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท หรือ (N) ใช้วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และส่วน ของมันในรูปแบบของสารเชิงซ้อนกับสารประกอบดีบุกซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อย กว่า 4 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท หรือ (O) ใช้วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และส่วนของ มันในรูปแบบของสารเชิงซ้อนกับ (1) สารประกอบพลวง ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ (2) สารประกอบดีบุกซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อย กว่า 4 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท
2. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งตัวเร่งปฏิกิริยาถูกรองรับบนพาหะ ที่ไม่ว่องไว
3. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 1 หรือ 2 ซึ่งดำเนินปฏิกิริยาออกซิเดชัน โดยสัมผัส ด้วยตัวเร่งปฏิกิริยา แก๊สผสมซึ่งประกอบ รวมด้วย 1-15% โดยปริมาตรของ แอโครเลอิน, 0.5-25% โดยปริมาตรของออกซิเจน, 0-30% โดยปริมาตรของไอน้ำ และ 20-80% โดยปริมาตรของแก๊สเฉื่อยที่อุณหภูมิ 180-350 ํซ. ที่ความดันของความดัน ปกติถึง 10 บรรยากาศ ที่ความเร็วสเปซ (STP) มีค่า 500-20,000 hr-1
4. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 1 หรือ 2 ซึ่งดำเนินปฏิกิริยาออกซิเดชันโดย สัมผัส ด้วยตัวเร่งปฏิกิริยา แก๊สผสมซึ่งประกอบรวมด้วย 4-12% โดยปริมาตรของ แอโคร- เลอิน 2-20% โดยปริมาตรของออกซิเจน, 3-25% โดยปริมาตรของไอน้ำ และ 50- 70% โดยปริมาตรของแก๊สเฉื่อยที่อุณหภูมิ 200-330 ํซ ที่ความดันของความดันปกติถึง 10 บรรยากาศที่ความเร็วสเปซ (STP) มีค่า 1,000-10,000 hr-1
5. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งตัวเร่งปฏิกิริยา เมื่อนำมาทำเอ็กซ์เรย์ ดิฟแฟรคโทมิตรี ให้อัตราส่วนของความเข้มพีคที่ d=1.38 ํA ถึงความเข้มพีค ที่ d=4.00 ํA มีค่าน้อยกว่า 0.07
6. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งตัวเร่งปฏิกิริยามีการคงไว้ความเข้มพีค อย่างน้อยที่สุด 80% เมื่อระบุการคงไว้ความเข้มพีคเป็นเปอร์เซ็นต์ของความเข้มพีค ที่ d = 4.00 ํA ของตัวเร่งปฏิกิริยาที่ใช้ภายหลังการดำเนินการ 4,000 ชั่วโมง ต่อความเข้มพีค ที่ d = 4.00 ํA ของตัวเร่งปฏิกิริยาที่ไม่ได้ใช้เมื่อนำตัวเร่งปฏิกิริยา ทั้งสองมาทำเอกซ์เรย์ ดิฟแฟรคโทมิตรี
7. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่ง d ใน Cud คือ 0.01 ถึง 6 และ e ใน Xe คือ 0.01 ถึง 5, อย่างไรก็ตาม มีเงื่อนไขที่ว่าไม่ใช้ Sb และ Sn เฮไลด์ ในการเตรียมของตัวเร่งปฏิกิริยา ยกเว้นเมื่อใช้ สารนี้ในการทำให้เกิดสารเชิงซ้อน V-Sb และ V-Sn เพื่อเตรียมตัวเร่งปฏิกิริยานี้
8. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 5 ซึ่ง d ใน Cud คือ 0.01 ถึง 6 และ e ใน Xe คือ 0.01 ถึง 5, อย่างไรก็ตาม มีเงื่อนไขที่ว่าไม่ใช้ Sb และ Sn เฮไลด์ ในการเตรียมของตัวเร่งปฏิกิริยา ยกเว้นเมื่อใช้ สารนี้ในการทำให้เกิดสารเชิงซ้อน V-Sb และ V-Sn เพื่อเตรียมตัวเร่งปฏิกิริยานี้
9. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่ง d ใน Cud คือ 0.01 ถึง 6 และ e ใน Xe คือ 0.01 ถึง 5 และ g ใน Zg คือ 0, อย่างไรก็ตาม มีเงื่อนไขที่ว่าไม่ใช้ Sb และ Sn เฮไลด์ ในการเตรียมของตัวเร่ง ปฏิกิริยา ยกเว้นเมื่อใช้สารนี้ในการทำให้เกิดสารเชิงซ้อน V-Sb และ V-sn เพื่อเตรียมตัวเร่งปฏิกิริยานี้
10. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 5 ซึ่ง d ใน Cud คือ 0.01 ถึง 6 และ e ใน Xe คือ 0.01 ถึง 5 และ g ใน Zg คือ 0, อย่างไรก็ตาม มีเงื่อนไขที่ว่าไม่ใช้ Sb และ Sn เฮไลด์ ในการเตรียมของตัวเร่ง ปฏิกิริยา ยกเว้นเมื่อใช้สารนี้ในการทำให้เกิดสารเชิงซ้อน V-Sb และ V-sn เพื่อเตรียมตัวเร่งปฏิกิริยานี้
11. กรรมวิธีการผลิตกรดแอคริลิคโดยการนำแอโครเลอินหรือแก๊ส ที่มีแอโครเลอินมาออกซิเดชันวัฏภาคแก๊สด้วยออกซิเจนที่เป็นโมเลกุลหรือแก๊สที่มีออกซิเจนที่เป็น โมเลกุลในที่ปรากฏอยู่ของเร่งปฏิกิริยาออกไซด์ที่มีโมลิบเดนัม/วาเนเดียม เป็นพื้น ฐานแทนโดยสูตรทั่วไป (I) ต่อไปนี้ : MoaVbWcCudXeYfZgOh (I) ซึ่ง Mo คือโมลิบเดนัม, V คือวาเนเดียม, W คือทังเตน, Cu คือทองแดง, X เป็นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งธาตุซึ่งเลือกจากพลวงและดีบุก, Y เป็นอย่างน้อยที่สุด หนึ่งธาตุซึ่งเลือกจากแมกนีเซียม, แคลเซียม, สทรอนเทียมและแบเรียม, Z เป็น อย่างน้อยที่สุดหนึ่งธาตุซึ่งเลือกจากไทเทเนียม, เซอร์โคเนียมและซีเรียม, O คือ ออกซิเจน, a, b, c, d, e, f, g และ h เป็นเลขอะตอมของ Mo, V, W, Cu, X,Y และ Z ตามลำดับ ด้วยเงื่อนไขที่ว่าเมื่อ a คือ 12,2 (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) b (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 14,O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) C (น้อยกว่าหรือเท่ากับ)12,O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) d (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 6,O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) e (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 5,O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) f (น้อยกว่าหรือเท่ากับ)3 และ O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) g (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 10; และ h คือเลขที่หา โดยเลขออกซิเดชันของธาตุแต่ละชนิดนอกจาก O, ซึ่งก่อให้เกิดกรรมวิธี ตัวเร่งปฏิกิริยาออกไซด์ที่มีโมลิบเดนัม/วาเนเดียม เป็นพื้นฐานโดยการใช้สารต่อไปนี้ เป็นวัตถุดิบของวาเนเดียม, ทองแดง, พลวงและดีบุก: เมื่อตัวเร่งปฏิกิริยาออกไซด์ที่มี โมลิบเดนัม/วาเนเดียมเป็นพื้นฐานไม่มีทั้งพลวงและดีบุก นั่นคือ เมื่อ e=O, อย่างไรก็ตาม มีเงื่อนไขที่ว่าไม่ใช้ Sb และ Sn เฮไลด์ในการเตรียมของตัวเร่งปฏิกิริยายกเว้นเมื่อใช้สารนี้ ในสารเชิงซ้อน V-Sb และ V-Sn (A) วัตถุดิบของวาเนเดียม คือ แอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่ง วาเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท, หรือ (B) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ไนเทรทและปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งวาเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 หรือ (C) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งวาเลนซีของวาเนเดียมมากว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2, และเมื่อตัวเร่ง ปฏิกิริยาออกไซด์ที่มีโมลิบเดนัม/วาเนเดียมเป็นพื้นฐานมีพลวงและ/หรือดีบุก นั่นคือ เมื่อ 0 น้อยกว่า e น้อยกว่าหรือเท่ากับ 5, (D) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคือปริมาณที่ได้ผลของอย่าง น้อยที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 หรือ (E) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดทและปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดของวัตถุ ดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคือ ปริมาณที่ได้ผลอย่างน้อยที่สุด ทิน ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่ง เวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (F) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดทและปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งวาเลนซีของวาเนเดียมมากว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ(อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคือปริมาณที่ได้ผลของอย่าง น้อยที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งวาเลนซีของพลวงมากว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ(อาจจะหลายชนิด)ของดีบุก คือปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุด ทิน ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (G) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุด คอพเพอร์ ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคือ ปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 หรือ (H) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และ ปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุด คอพเพอร์ ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคือ ปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุด ทิน ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (I) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคือ ปริมาณที่ได้ผลของอย่าง น้อยที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคือปริมาณที่ได้ผลของอย่าง น้อยที่สุดทิน ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (J) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และ ปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุด คอพเพอร์ ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2, และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคือ ปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 หรือ (K) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และ ปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งวาเลนซีของวาเนเดียม มากว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุด คอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคือปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดทิน ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (L) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งวาเลนซีของวาเนเดียมมากว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุด คอพเพอร์ ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 ปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคือ อย่างน้อย ที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ ปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคือ อย่างน้อยที่สุด ทิน ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (M) ใช้วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเคท และส่วน ของมันในรูปแบบของปริมาณที่ได้ผลของสารเชิงซ้อนกับสารประกอบพลวง ซึ่งเวเลนซีของพลวง มากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ วัตถุดิบของทองแดงหรือคอพเพอร์ ไนเทรท หรือ (N) ใช้วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเคท และส่วน ของมันในรูปแบบของปริมาณที่ได้ผลของสารเชิงซ้อนกับสารประกอบดีบุก ซึ่งเวเลนซีของดีบุก มากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท หรือ (O) ใช้วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และส่วนของมัน ในรูปแบบของปริมาณที่ได้ผลของสารเชิงซ้อนกับ (1) สารประกอบพลวง ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ (2) สารประกอบดีบุกซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อย กว่า 4 และ วัตถุดิบของทองแดง คือ คอพเพอร์ ไนเทรท
12. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 11 ซึ่ง d ใน Cud คือ 0.01 ถึง 6 และ e ใน Xe คือ 0.01 ถึง 5
13. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 11 ซึ่ง d ใน Cud คือ 0.01 ถึง 6 และ e ใน Xe คือ 0.01 ถึง 5 และ g ใน Zg คือ 0
TH9501002869A 1995-11-13 กรรมวิธีการผลิตกรดแอคริลิค TH20107B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH20045A true TH20045A (th) 1996-08-20
TH20107B TH20107B (th) 2006-06-30

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100284061B1 (ko) 아크릴산의 제조방법
Thorsteinson et al. The oxidative dehydrogenation of ethane over catalysts containing mixed oxides of molybdenum and vanadium
DE69028843T2 (de) Verfahren zur herstellung von methacrolein und methacrylsäure
US4320227A (en) Process for producing methacrolein and methacrylic acid
KR950000639A (ko) 불포화 알데하이드 및 불포화 카복실산의 제조방법
KR101722061B1 (ko) 포화 및 불포화 알데히드를 불포화 카르복시산으로 산화시키기 위한 헤테로다중산을 포함하는 촉매, 이를 제조하는 방법 및 이를 사용하는 방법
EP0267556B1 (en) Process for production of methacrolein and methacrylic acid
US4354044A (en) Method for preparing methacrolein
JP2011178719A (ja) ブタジエンの製造方法
EP1912736B1 (en) Process of producing (meth)acrylic acid with high selectivity using a complex metal oxide catalyst
JP3139285B2 (ja) アクロレインおよびアクリル酸の製造方法
US5208371A (en) Process for production of methacrolein and methacrylic acid
DE69800312T2 (de) Verfahren zur Herstellung von Acrylsäuren aus Acrolein durch Redox-Reaktion
EP0350862B1 (en) Process for producing methacrylic acid
DE2432486C3 (de) Verfahren zur Herstellung von Methacrylsäure durch Oxidation von Methacrolein
US7217836B2 (en) Process for producing (meth)acrolein and/or (meth)acrylic acid
US4446328A (en) Process for producing methacrolein
JP3321300B2 (ja) モリブデン、ビスマス及び鉄含有酸化物触媒の製造法
JPS6230177B2 (th)
TH20107B (th) กรรมวิธีการผลิตกรดแอคริลิค
JP3268900B2 (ja) 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸合成用触媒の製造法
JPH0716464A (ja) 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸合成用触媒の製造法
CN1647853A (zh) 叔丁醇或异丁烯选择氧化合成甲基丙烯醛的催化剂及其应用
JP2657693B2 (ja) メタクロレイン及びメタクリル酸の製造用触媒の調製法
JPH10114689A (ja) メタクロレイン、メタクリル酸及び1,3−ブタジエンの製造法