TH20107B - กรรมวิธีการผลิตกรดแอคริลิค - Google Patents
กรรมวิธีการผลิตกรดแอคริลิคInfo
- Publication number
- TH20107B TH20107B TH9501002869A TH9501002869A TH20107B TH 20107 B TH20107 B TH 20107B TH 9501002869 A TH9501002869 A TH 9501002869A TH 9501002869 A TH9501002869 A TH 9501002869A TH 20107 B TH20107 B TH 20107B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- less
- copper
- vanadium
- raw material
- valence
- Prior art date
Links
Abstract
?????????????????????????????????????????????????????????? ???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????? ???????????????/????????? ??????????? ???????????????????????????????????????? ???????????????????????????? ?????????????????????????????? ??????????????????????? ???????????????????????????????? ???????????????????????? ?????????? ???????? ??? ??????????????????????????? ??????? ????????? ??????????????????????? ??????? 0 ??????????? 5 ????????????????????? ???????? ?????? ??????? ??????????????????????????????(?????????????) ??????? ???????????????????????? ??????? ?????????????????????????????????? 0 ??????????? 5
Claims (13)
1. กรรมวิธีการผลิตกรดแอคริลิคโดยการนำแอโครเลอินหรือแก๊ส ที่มีแอโครเลอินมาออกซิเดชันวัฎภาคแก๊สด้วยออกซิเจนที่เป็นโมเลกุลหรือแก๊สที่มีออกซิเจนที่เป็น โมเลกุลในที่ปรากฏอยู่ของตัวเร่งปฏิกิริยาออกไซด์ที่มีโมลิบเดนัม/วาเนเดียม เป็นพื้น ฐานแทนโดยสูตรทั่วไป (I) ต่อไปนี้ : MoaVbWcCudXeYfZgOh (I) ซึ่ง Mo คือโมลิบเดนัม, V คือวาเนเดียม, W คือทังเตน, Cu คือทองแดง, X เป็นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งธาตุซึ่งเลือกจากพลวงและดีบุก, Y เป็นอย่างน้อยที่สุด หนึ่งธาตุซึ่งเลือกจากแมกนีเซียม, แคลเซียม, สทรอนเทียมและแบเรียม, Z เป็น อย่างน้อยที่สุดหนึ่งธาตุซึ่งเลือกจากไทเทเนียม, เซอร์โคเนียมและซีเรียม, O คือ ออกซิเจน a, b, c, d, e, f, g และ h เป็นเลขอะตอมของ Mo, V, W, Cu, X, Y และ Z ตามลำดับ ด้วยเงื่อนไขที่ว่าเมื่อ a คือ 12,2 (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) b (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 14,O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) C (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 12,O (น้อยกว่า) d (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 5,O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) e (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 5,O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) f (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 3 และ O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) g (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 10; และ h คือเลขที่โดยเลขออกซิเดชันของธาตุแต่ละชนิดนอกจาก O, ซึ่งก่อให้เกิดกรรมวิธี ตัวเร่งปฏิกิริยาออกไซด์ที่มีโมลิบเดนัม/วาเนเดียม เป็นพื้นฐานโดยการใช้สารต่อไปนี้ เป็นวัตถุดิบของวาเนเดียม, ทองแดง, พลวงและดีบุก : เมื่อตัวเร่งปฏิกิริยาออกไซด์ที่มี โมลิบ เดนัม/วาเนเดียมเป็นพื้นฐานไม่มีทั้งพลวงและดีบุก นั่นคือ เมื่อ e = O (A) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และอย่างน้อย ที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งวาเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า O แต่น้อยกว่า 5 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท, หรือ (B) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ไนเทรทและอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งวาเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 หรือ (C) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งวาเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2, และเมื่อตัวเร่ง ปฏิกิริยาออกไซด์ที่มีโมลิบเดนัม/วาเนเดียมเป็นพื้นฐานมีพลวงและ/หรือดีบุก นั่นคือ เมื่อ O (น้อยกว่า) e (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 5, (D) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และอย่างน้อย ที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียมมากว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคืออย่างน้อย ที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 หรือ (E) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดทและอย่างน้อย ที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุ ดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคืออย่างน้อยที่สุดทิน ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซี ของดีบุกมากกว่า 0 แต่ น้อยกว่า 4 หรือ (F) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดทและอย่างน้อย ที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ(อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคืออย่างน้อย ที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุก คืออย่างน้อยที่สุด ฟิน ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (G) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคืออย่างน้อย ที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 หรือ (H) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคืออย่างน้อย ที่สุดทิน ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (I) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคืออย่างน้อยที่สุด แอนทิโมนี ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ(อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคืออย่างน้อยที่สุด ทิน ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (J) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และอย่างน้อย ที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียม มากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2, และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ(อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคืออย่างน้อยที่สุด แอนทิโมนี ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 หรือ (K) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และอย่างน้อย ที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียม มากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุด คอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งวาเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคืออย่างน้อย ที่สุดทิน ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (L) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และอย่าง น้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่ น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งวาเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคืออย่างน้อย ที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคืออย่างน้อยที่สุด ทิน ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (M) ใช้วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และส่วน ของมันในรูปแบบของสารเชิงซ้อนกับสารประกอบพลวง ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อย กว่า 5 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท หรือ (N) ใช้วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และส่วน ของมันในรูปแบบของสารเชิงซ้อนกับสารประกอบดีบุกซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อย กว่า 4 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท หรือ (O) ใช้วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และส่วนของ มันในรูปแบบของสารเชิงซ้อนกับ (1) สารประกอบพลวง ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ (2) สารประกอบดีบุกซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อย กว่า 4 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท
2. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งตัวเร่งปฏิกิริยาถูกรองรับบนพาหะ ที่ไม่ว่องไว
3. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 1 หรือ 2 ซึ่งดำเนินปฏิกิริยาออกซิเดชัน โดยสัมผัส ด้วยตัวเร่งปฏิกิริยา แก๊สผสมซึ่งประกอบ รวมด้วย 1-15% โดยปริมาตรของ แอโครเลอิน, 0.5-25% โดยปริมาตรของออกซิเจน, 0-30% โดยปริมาตรของไอน้ำ และ 20-80% โดยปริมาตรของแก๊สเฉื่อยที่อุณหภูมิ 180-350 ํซ. ที่ความดันของความดัน ปกติถึง 10 บรรยากาศ ที่ความเร็วสเปซ (STP) มีค่า 500-20,000 hr-1
4. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 1 หรือ 2 ซึ่งดำเนินปฏิกิริยาออกซิเดชันโดย สัมผัส ด้วยตัวเร่งปฏิกิริยา แก๊สผสมซึ่งประกอบรวมด้วย 4-12% โดยปริมาตรของ แอโคร- เลอิน 2-20% โดยปริมาตรของออกซิเจน, 3-25% โดยปริมาตรของไอน้ำ และ 50- 70% โดยปริมาตรของแก๊สเฉื่อยที่อุณหภูมิ 200-330 ํซ ที่ความดันของความดันปกติถึง 10 บรรยากาศที่ความเร็วสเปซ (STP) มีค่า 1,000-10,000 hr-1
5. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งตัวเร่งปฏิกิริยา เมื่อนำมาทำเอ็กซ์เรย์ ดิฟแฟรคโทมิตรี ให้อัตราส่วนของความเข้มพีคที่ d=1.38 ํA ถึงความเข้มพีค ที่ d=4.00 ํA มีค่าน้อยกว่า 0.07
6. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งตัวเร่งปฏิกิริยามีการคงไว้ความเข้มพีค อย่างน้อยที่สุด 80% เมื่อระบุการคงไว้ความเข้มพีคเป็นเปอร์เซ็นต์ของความเข้มพีค ที่ d = 4.00 ํA ของตัวเร่งปฏิกิริยาที่ใช้ภายหลังการดำเนินการ 4,000 ชั่วโมง ต่อความเข้มพีค ที่ d = 4.00 ํA ของตัวเร่งปฏิกิริยาที่ไม่ได้ใช้เมื่อนำตัวเร่งปฏิกิริยา ทั้งสองมาทำเอกซ์เรย์ ดิฟแฟรคโทมิตรี
7. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่ง d ใน Cud คือ 0.01 ถึง 6 และ e ใน Xe คือ 0.01 ถึง 5, อย่างไรก็ตาม มีเงื่อนไขที่ว่าไม่ใช้ Sb และ Sn เฮไลด์ ในการเตรียมของตัวเร่งปฏิกิริยา ยกเว้นเมื่อใช้ สารนี้ในการทำให้เกิดสารเชิงซ้อน V-Sb และ V-Sn เพื่อเตรียมตัวเร่งปฏิกิริยานี้
8. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 5 ซึ่ง d ใน Cud คือ 0.01 ถึง 6 และ e ใน Xe คือ 0.01 ถึง 5, อย่างไรก็ตาม มีเงื่อนไขที่ว่าไม่ใช้ Sb และ Sn เฮไลด์ ในการเตรียมของตัวเร่งปฏิกิริยา ยกเว้นเมื่อใช้ สารนี้ในการทำให้เกิดสารเชิงซ้อน V-Sb และ V-Sn เพื่อเตรียมตัวเร่งปฏิกิริยานี้
9. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่ง d ใน Cud คือ 0.01 ถึง 6 และ e ใน Xe คือ 0.01 ถึง 5 และ g ใน Zg คือ 0, อย่างไรก็ตาม มีเงื่อนไขที่ว่าไม่ใช้ Sb และ Sn เฮไลด์ ในการเตรียมของตัวเร่ง ปฏิกิริยา ยกเว้นเมื่อใช้สารนี้ในการทำให้เกิดสารเชิงซ้อน V-Sb และ V-sn เพื่อเตรียมตัวเร่งปฏิกิริยานี้
10. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 5 ซึ่ง d ใน Cud คือ 0.01 ถึง 6 และ e ใน Xe คือ 0.01 ถึง 5 และ g ใน Zg คือ 0, อย่างไรก็ตาม มีเงื่อนไขที่ว่าไม่ใช้ Sb และ Sn เฮไลด์ ในการเตรียมของตัวเร่ง ปฏิกิริยา ยกเว้นเมื่อใช้สารนี้ในการทำให้เกิดสารเชิงซ้อน V-Sb และ V-sn เพื่อเตรียมตัวเร่งปฏิกิริยานี้
11. กรรมวิธีการผลิตกรดแอคริลิคโดยการนำแอโครเลอินหรือแก๊ส ที่มีแอโครเลอินมาออกซิเดชันวัฏภาคแก๊สด้วยออกซิเจนที่เป็นโมเลกุลหรือแก๊สที่มีออกซิเจนที่เป็น โมเลกุลในที่ปรากฏอยู่ของเร่งปฏิกิริยาออกไซด์ที่มีโมลิบเดนัม/วาเนเดียม เป็นพื้น ฐานแทนโดยสูตรทั่วไป (I) ต่อไปนี้ : MoaVbWcCudXeYfZgOh (I) ซึ่ง Mo คือโมลิบเดนัม, V คือวาเนเดียม, W คือทังเตน, Cu คือทองแดง, X เป็นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งธาตุซึ่งเลือกจากพลวงและดีบุก, Y เป็นอย่างน้อยที่สุด หนึ่งธาตุซึ่งเลือกจากแมกนีเซียม, แคลเซียม, สทรอนเทียมและแบเรียม, Z เป็น อย่างน้อยที่สุดหนึ่งธาตุซึ่งเลือกจากไทเทเนียม, เซอร์โคเนียมและซีเรียม, O คือ ออกซิเจน, a, b, c, d, e, f, g และ h เป็นเลขอะตอมของ Mo, V, W, Cu, X,Y และ Z ตามลำดับ ด้วยเงื่อนไขที่ว่าเมื่อ a คือ 12,2 (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) b (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 14,O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) C (น้อยกว่าหรือเท่ากับ)12,O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) d (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 6,O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) e (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 5,O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) f (น้อยกว่าหรือเท่ากับ)3 และ O (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) g (น้อยกว่าหรือเท่ากับ) 10; และ h คือเลขที่หา โดยเลขออกซิเดชันของธาตุแต่ละชนิดนอกจาก O, ซึ่งก่อให้เกิดกรรมวิธี ตัวเร่งปฏิกิริยาออกไซด์ที่มีโมลิบเดนัม/วาเนเดียม เป็นพื้นฐานโดยการใช้สารต่อไปนี้ เป็นวัตถุดิบของวาเนเดียม, ทองแดง, พลวงและดีบุก: เมื่อตัวเร่งปฏิกิริยาออกไซด์ที่มี โมลิบเดนัม/วาเนเดียมเป็นพื้นฐานไม่มีทั้งพลวงและดีบุก นั่นคือ เมื่อ e=O, อย่างไรก็ตาม มีเงื่อนไขที่ว่าไม่ใช้ Sb และ Sn เฮไลด์ในการเตรียมของตัวเร่งปฏิกิริยายกเว้นเมื่อใช้สารนี้ ในสารเชิงซ้อน V-Sb และ V-Sn (A) วัตถุดิบของวาเนเดียม คือ แอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่ง วาเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท, หรือ (B) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ไนเทรทและปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งวาเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 หรือ (C) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งวาเลนซีของวาเนเดียมมากว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2, และเมื่อตัวเร่ง ปฏิกิริยาออกไซด์ที่มีโมลิบเดนัม/วาเนเดียมเป็นพื้นฐานมีพลวงและ/หรือดีบุก นั่นคือ เมื่อ 0 น้อยกว่า e น้อยกว่าหรือเท่ากับ 5, (D) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคือปริมาณที่ได้ผลของอย่าง น้อยที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 หรือ (E) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดทและปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดของวัตถุ ดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคือ ปริมาณที่ได้ผลอย่างน้อยที่สุด ทิน ออกไซด์หนึ่งชนิดซึ่ง เวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (F) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดทและปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งวาเลนซีของวาเนเดียมมากว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ(อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคือปริมาณที่ได้ผลของอย่าง น้อยที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งวาเลนซีของพลวงมากว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ(อาจจะหลายชนิด)ของดีบุก คือปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุด ทิน ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (G) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุด คอพเพอร์ ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคือ ปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 หรือ (H) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และ ปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุด คอพเพอร์ ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคือ ปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุด ทิน ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (I) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และอย่างน้อยที่สุดคอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคือ ปริมาณที่ได้ผลของอย่าง น้อยที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคือปริมาณที่ได้ผลของอย่าง น้อยที่สุดทิน ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (J) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของวาเนเดียมมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และ ปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุด คอพเพอร์ ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2, และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคือ ปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 หรือ (K) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และ ปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งวาเลนซีของวาเนเดียม มากว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุด คอพเพอร์ ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 และ อย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคือปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดทิน ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (L) วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และปริมาณที่ได้ผลของ อย่างน้อยที่สุดวาเนเดียม ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งวาเลนซีของวาเนเดียมมากว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท และปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุด คอพเพอร์ ออกไซด์หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของทองแดงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 2 ปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของพลวงคือ อย่างน้อย ที่สุดแอนทิโมนี ออกไซด์ หนึ่งชนิดซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ ปริมาณที่ได้ผลของอย่างน้อยที่สุดส่วนของวัตถุดิบ (อาจจะหลายชนิด) ของดีบุกคือ อย่างน้อยที่สุด ทิน ออกไซด์ หนึ่งชนิด ซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 หรือ (M) ใช้วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเคท และส่วน ของมันในรูปแบบของปริมาณที่ได้ผลของสารเชิงซ้อนกับสารประกอบพลวง ซึ่งเวเลนซีของพลวง มากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ วัตถุดิบของทองแดงหรือคอพเพอร์ ไนเทรท หรือ (N) ใช้วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเคท และส่วน ของมันในรูปแบบของปริมาณที่ได้ผลของสารเชิงซ้อนกับสารประกอบดีบุก ซึ่งเวเลนซีของดีบุก มากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 4 และ วัตถุดิบของทองแดงคือคอพเพอร์ ไนเทรท หรือ (O) ใช้วัตถุดิบของวาเนเดียมคือแอมโมเนียม เมทาวาเนเดท และส่วนของมัน ในรูปแบบของปริมาณที่ได้ผลของสารเชิงซ้อนกับ (1) สารประกอบพลวง ซึ่งเวเลนซีของพลวงมากกว่า 0 แต่น้อยกว่า 5 และ (2) สารประกอบดีบุกซึ่งเวเลนซีของดีบุกมากกว่า 0 แต่น้อย กว่า 4 และ วัตถุดิบของทองแดง คือ คอพเพอร์ ไนเทรท
12. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 11 ซึ่ง d ใน Cud คือ 0.01 ถึง 6 และ e ใน Xe คือ 0.01 ถึง 5
13. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 11 ซึ่ง d ใน Cud คือ 0.01 ถึง 6 และ e ใน Xe คือ 0.01 ถึง 5 และ g ใน Zg คือ 0
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH20045A TH20045A (th) | 1996-08-20 |
| TH20107B true TH20107B (th) | 2006-06-30 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Thorsteinson et al. | The oxidative dehydrogenation of ethane over catalysts containing mixed oxides of molybdenum and vanadium | |
| KR100284061B1 (ko) | 아크릴산의 제조방법 | |
| DE69028843T2 (de) | Verfahren zur herstellung von methacrolein und methacrylsäure | |
| US4320227A (en) | Process for producing methacrolein and methacrylic acid | |
| KR950000639A (ko) | 불포화 알데하이드 및 불포화 카복실산의 제조방법 | |
| US20090043127A1 (en) | Complex metal oxide catalyst with high (meth) acrylic acid selectivity | |
| EP0267556B1 (en) | Process for production of methacrolein and methacrylic acid | |
| US4354044A (en) | Method for preparing methacrolein | |
| JP2011178719A (ja) | ブタジエンの製造方法 | |
| JP3139285B2 (ja) | アクロレインおよびアクリル酸の製造方法 | |
| KR100986898B1 (ko) | 복합 금속 산화물 촉매 및 상기 촉매를 사용한(메타)아크릴산 제조 방법 | |
| US5208371A (en) | Process for production of methacrolein and methacrylic acid | |
| DE69800312T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Acrylsäuren aus Acrolein durch Redox-Reaktion | |
| EP0350862B1 (en) | Process for producing methacrylic acid | |
| US7217836B2 (en) | Process for producing (meth)acrolein and/or (meth)acrylic acid | |
| US4446328A (en) | Process for producing methacrolein | |
| JP3321300B2 (ja) | モリブデン、ビスマス及び鉄含有酸化物触媒の製造法 | |
| JPS6230177B2 (th) | ||
| TH20045A (th) | กรรมวิธีการผลิตกรดแอคริลิค | |
| CN1647853A (zh) | 叔丁醇或异丁烯选择氧化合成甲基丙烯醛的催化剂及其应用 | |
| JPH0716464A (ja) | 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸合成用触媒の製造法 | |
| JP3268900B2 (ja) | 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸合成用触媒の製造法 | |
| JP2657693B2 (ja) | メタクロレイン及びメタクリル酸の製造用触媒の調製法 | |
| JPH10114689A (ja) | メタクロレイン、メタクリル酸及び1,3−ブタジエンの製造法 | |
| JPS6032608B2 (ja) | 不飽和化合物の製造方法 |