TH27512A - สารผสมแชมพูปรับสภาพผม - Google Patents

Abstract

DC60 (16/07/40) สารละลายสารผสมแชมพูปรับสภาพผมได้ถูกเปิดเผยด้วยถูกก่อให้เกิดความคงทน และปรับสภาพผม ซึ่งประกอบด้วยสารเคลือบทำความสะอาดที่มีประจุลบและสารอินทรีย์ โครงสร้างร่างแห, ส่วนประกอบโพลีเมอร์ปรับสภาพผมที่มีประจุบวกที่มีความหนาแน่น ของประจุบวกค่อนข้างสูง จากประมาณ 4 meq/gm ถึงประมาณ 7 meq/gm โพลีเมอร์ทาง ร่างแหที่จำเป็นประกอบด้วยสารที่มีโครงร่างแบบร่างแห และหน่วยโมโนเมอร์ที่ถูกคัดเลือก จากลุ่มที่ประกอบด้วย อัลคิลอะมิโนอิลคิล อะคิลเอไมด์ ไดอิลคิลอะมิโนอัลคิล เมธาอะคริลเอไมด์, ไดอัลคิลอะมิโนอัลคิล อะคิลเลท, ไดอัลคิลอะมิโนอัลคิล เมทาอะคิลเลท และส่วนประกอบดังกล่าวที่ซึ่งทุก ๆ ตัวของหน่วยโมโนเมอร์ในโพลีเมอร์ที่ถูกทำให้เป็น โครงสร้างแบบร่างแหดังประจุบวกที่สารผสมแชมพูของ pH สารละลายสารผสมแชมพูปรับสภาพผมได้ถูกเปิดเผยด้วยถูกก่อให้เกิดความคงทนและปรับสภาพผม ซึ่งประกอบด้วยสารเคลือบทำความสะอาด ที่มีประจุลบและสารอินทรีย์โครงสร้างร่างแห, ส่วนประกอบโพลีเมอ ร์ปรับสภาพผมที่มีประจุบวกที่มีความหนาแน่นของประจุบวกค่อนข้าง สูง จากประมาณ 4 meq/gm ถึงประมาณ 7 meq/gm โพลีเมอร์ทางร่างแห ที่จำเป็นประกอบด้วยสารที่มีโครงร่างแบบร่างแห และหน่วยโมโนเมอ ร์ที่ถูกคัดเลือกจากลุ่มที่ประกอบด้วย อัลคิลอะมิโนอิลคิล อะคิลเอไมด์ ไดอิลคิลอะมิโนอัลคิล เมธาอะคริลเอไมด์, ไดอัลคิลอะมิโนอัลคิล อะคิลเลท, ไดอัลคิลอะมิโนอัลคิล เมทาอะคิ ลเลท และส่วนประกอบดังกล่าวที่ซึ่งทุก ๆ ตัวของหน่วยโมโนเมอร์ ในโพลีเมอร์ที่ถูกทำให้เป็นโครงสร้างแบบร่างแหดังประจุบวก ที่สารผสมแชมพูของ pH

Claims (20)

1. ส่วนผสมของสารผสมแชมพูปรับสภาพผม (A) ตั้งแต่ประมาณ 5% ถึงแระมาณ 50% โดยน้ำหนักของ ส่วนประกอบเคลือบผิวประจุลบจากกลุ่มของสารเคลือบประจุลบ zwitterionic หรือ amphoteric surfactants จะมี ประจุลบติดอยู่ที่สารผสมของ pH และเกี่ยวกับส่วนประกอบ (B) ตั้งแต่ประมาณ 0.025% ถึงประมาณ 5% โดยน้ำหนักของ สารอินทรีย์โครงสร้างร่างแห โพลิเมอร์ประจุบวกได้มีความหนา แน่นของประจุบวกของตั้งแต่ประมาณ 4 meq/gm ถึงประมาณ 7 meq/gm และที่ซึ่งพอลิเมอร์ประจุบวกทีเป็นประโยชน์ประกอบ ด้วย สารที่มีโครงสร้างร่างแหและหน่วยโมโนเมอร์ที่ถูกล็อก จากลกุ่มที่ประกอบขึ้นของไดอัลคิลอะมิโน อัลคิล เมทาคิลเลต และส่วนประกอบดังกล่าว ที่ซึ่งหน่วยโมโนเมอร์ทุก ๆ ตัว เป็นประจุบวกของฝสารผสมของ pH; และ (C) ตั้งแต่ประมาณ 20% ถึงประมาณ 94% โดยน้ำหนัก ของนั้น

2. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งเป็นส่วนประกอบ สารเคลือบผิวประจุลบคือสารเคลือบอัลคิล สารเคลือบผิว อัลคิลนั้น หรือส่วนประกอบดังกล่าว

3. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 2 ที่ซึ่งประกอบจากสาร ผสมประมาณ 8% ภึงประมาณ 30% โดยน้ำหนักของส่วนประกอบ สารเคลือบผิวประจุลบ

4. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งพอลิเมอร์ประจุบวกที่ มีหน่วยความหนาแน่นของประจุบวกตั้งแต่ประมาณ 4 meq/mg ถึงประมาณ 6meq/gm

5. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 4 ที่ซึ่งพอลิเมอร์ประจุบวกมีค ความหนาแน่นของประจุบวกตั้งแต่ประมาณ 4.2 meq/mg ถึงประมาณ 5.5 meq/gm

6. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 4 ที่ซึ่งหน่วยโมโนเมอร์ ได้ถูกเลือกจากส่วนประกอบของกลุ่มหมู่แทนที่ไดอัลคิลอะมิโนอัลค คิล อะคิลเรท ที่มีประจุบวก ไดอัลคิลอะมิโนอัลคิล เมทาคิลเลท ของส่วนประกอบนั้นด้วย

7. สารผสมแชมพู ของข้อถือสิทธิ 6 ที่ซึ่งปฏิบัติตามหน่วย โมโนเมอร์ตามสูตร (สูตรเคมี) ที่ซึ่ง R1 คือ ไฮโดรเจน เมทิล หรือเอทิล ทุกตัวของ R2,R3 และ R4 เป็นไฮโดรเจนอิสระ หรือ อัลคิลที่มีรางโซ่สั้น ๆ ตั้งแต่ประมาณคาร์บอน 1 ถึงประมาณ 8 อะตอม; n คือ จำนวนเต็มบวกที่มีค่าตั้งแต่ประมาณ 1 ถึงประมาณ 8 และ X คือ ประจุลบ

8. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 7 ที่ R1 คือ ไฮโดรเจน หรือเมทิลทุก ๆ ตัวของ R2,R3 และ R4 เป็นอัลคิลที่มีการใช้สารท ที่เป็นอิสระตั้งแต่ประมาณ 1 ถึงประมาณ 5 คาร์บอนอะตอม,N คือ จำนวนเต็มจากที่มีค่าตั้งแต่ประมาณ 1 ถึงประมาณ 4

9. สารผสมแชมพูของข้อถือสทธิ 7 ที่ซึ่ง R2,R3 และ R4 คือ อัลคิลที่มีสายโซ่ที่สั้นเป็นอิสระคือตั้งแต่ประมาณ 1 ถึงป ประมาณ 2 คาร์บอนอะตอม

10. ส่วนประกอบสารผสมแชมพูปรับสภาพผม (A) จากประมาณ 5% ถึงประมาณ 50% โดยน้ำหนักของ สารเคลือบผิวที่มีประจุลบได้ถูกคัดเลือกจากกลุ่มดังกล่าวนั้น คือประจุลบที่สารผสมของ pH และส่วนประกอบดังนี้ (B) ตั้งแต่ประมาณ 0.025% ถึงประมาณ 5% โดยน้ำหนัก ของสารอินทรีย์โครงสร้างที่ถูร่างแห,โพลีเมอร์ประจุบวกที่มี ความหนาแน่นของประจุบวกตั้งแต่ประมาณ 4meq/gm และที่ซึ่ง โพลิเมอร์ที่มีประจุบวกที่จำเป็นประกอบด้วยสารโครงสร้างร่างแห และหน่วยโมโนที่ถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบขึ้นของไดอัลคิล อะมิโนอัลคิล อะคิลเลไม,ไดอัลคิลอะมิโนอัลคิล เมทาอะคิลเล ไมด์ ไดอัลคิลอะมิโนอัลคิล อะคิลเลทไดอัลคิลอะมิโนอัลคิล เมทาคิลเลท และส่วนประกอบดังกล่าวที่ซึ่งทุก ๆ ตัวของหน่วย โพลิเมอร์ คือ ประจุบวกที่สารผสมของ pH (C) ประมาณ 20% ถึงประมาณ 10% โดยน้ำหนักของสาร ซิลิโคนปรับสภาพผม ,และ (D) ประมาณ 20% ถึง 94% โดยน้ำหนักของน้ำ

11. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 10 ที่ซึ่งประกอบด้วยสาร ซิลิโคนปรับสภาพผมซึ่งไม่ละลาย,ไม่ระเหย,โพลีอัลคิลโลเซน ที่เป็นของเหลว

12. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 11 ที่ซึ่งโพลิอัลคิลซิโลเซนที่เป็นของเหลว คือ โพลีไดเมทิล ซิโลเซนที่เป็นของเหลว

13. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 11 ที่ซึ่งประกอบด้วยสาร เคลือบผิวประจุลบ คือ อัลคิลอัลเฟต หรือหน่วยประกอบดังกล่าว

14. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 13 ที่ซึ่งประกอบด้วย สารผสมคีโทสประมาณ 8% ถึงประมาณ 30% โดยน้ำหนัก ของส่วนประกอบสารเคลือบผิวประจุลบ

15. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 10 ที่ซึ่งโพลิเมอร์ ประจุบวกมีความหนาแน่นของประจุบวกตั้งแต่ประมาณ 4 meq/gm ถึงประมาณ 6 meq/gm

16. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 14 ที่ซึ่งพอลิเมอร์ประจุ บวกมีความหนาแน่นของประจุบวกประมาณ 4.2 meq/gm ถึงประมาณ 5.5 meq/gm

17. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 14 ที่ซึ่งหน่วยโมโนเมอร์ได้ถ ถูกคัดเลือกจากกลุ่มที่ประกอบของหมู่แทนที่ประจุบวกไดอัลคิล อะมิโนอัลคิล อะดิลอก ไดอัลคิลอะโนอัลคิล เมทธาคิลเลท และส่วนประกอบดังกล่าว

18. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 17 ที่ซึ่งหน่วยโมโนเมอร์ ที่แนวนอนตามสูตร (สูตรเคมี) ที่ซึ่ง R1 คือ ไฮโดรเจน,เมทิล หรือเอทิล,ทุกตัวของ R2,R3,R4 คือ ไฮโดรเจนอิสระหรืออัลคิลที่มีสายโซ่ ที่สั้นได้จากประมาณ 1 ถึงประมาณ 8 คาร์บอนอะตอม n คือ จำนวนเต็มบวกที่มีค่าประมาณ 1 ถึงประมาณ 8 และ x คือ ประจุลบ

19. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 18 ที่ซึ่ง R1 คือ ไฮโดรเจน ที่มีสายโซ่ที่สั้นที่เป็นอิสระ,ได้จากประมาณ 1 ถึงประมาณ 5 คารบอนอะตอม; n คือ จำนวนเต็ม บวกทีมีค่าของประมาณ 1 ถึงประมาณ 4

20. สารผสมแชมพูของข้อถือสิทธิ 18 ที่ซึ่ง R1,R3 และ R4 คือ สายโซ่อัลคิลที่สั้นเป็นอิสระจากประมาณ 1 ถึงประมาณ 2 คาร์บอนอะตอม (ข้อถือสิทธิ 20 ข้อ , 4 หน้า , 0 รูป)