TH33886A

TH33886A - กระบวนการขัดทางกลเคมีแบบใหม่สำหรับชั้นต่างๆ ของสารกึ่งตัวนำไฟฟ้า หรือวัสดุในการแบ่งแยกอื่นๆ

Info

Publication number: TH33886A
Application number: TH9801001170A
Authority: TH
Inventors: เออฟราร์ด นางคาเธอรีน; รีวัวร์ นายโมริซ; ฌาคกีโนต์ นายเอริค
Original assignee: คลาเรียนท์ ไฟแนนซ์ (บีวีไอ) ลิมิเต็ด; นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์; นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์; นายต่อพงศ์ โทณะวณิก; นายบุญมา เตชะวณิช
Filing date: 1998-04-03
Publication date: 1999-07-16

Abstract

DC60 (17/06/41) กระบวนการขัดทางกลเคมี สำหรับชั้นของวัสดุสาร กึ่งตัวนำไฟฟ้า เช่น โพลีคริสตัลลีน ซิลิคอน เอพิทาเซียล ซิงเกิ้ล-คริสตัล ซิลิคอน, อะมอร์ฟัส ซิลิคอน เป็นต้น หรือ วัสดุแบ่งแยก เช่น ฟอสฟอซิลิเคท กลาส หรือ โบโรฟอสฟอซิลิเคท กลาส เป็นต้น ที่ถูกนำมาใช้ในอุตสาหกรรมสาร กึ่งตัวนำไฟฟ้าแบบไมโครอิเลกโทรนิคส์ ซึ่งไม่รวมถึงซิลิคอนประเภทแรกที่ถูกนำมาใช้ในการผลิต แผ่นบาง ๆ สำหรับวงจรไฟฟ้าแบบรวม โดยที่การขัดสีของขั้นของวัสดุสารกึ่งตัวนำไฟฟ้า หรือ วัสดุแบ่งแยก จะทำได้โดยการขัดถูสิ่งที่เรียกว่า ชั้นของวัสดุสารกึ่งตัวนำไฟฟ้า ด้วยแผ่นเส้นใยที่มี สารประกอบของการขัดสีเกาะติดอยู่ด้วย โดยตัวขัดสีนี้ จะประกอบด้วย สารละลายแขวนลอยที่ เป็นของเหลวที่มีค่า pH เป็นกลาง หรือใกล้เคียงความเป็นกลางของอนุภาคซิลิก้าแขวนลอยที่เป็น อิสระ ไม่เชื่อมต่อกันโดยแรงยึดเหนี่ยวแบบไซโลเซน และใช้น้ำเป็นตัวกลางของการแขวนลอย บทสรุปการประดิษฐ์ กระบวนการขัดทางกลเคมี สำหรับชั้นของวัสดุสาร กึ่งตัวนำไฟฟ้า เช่น โพลีคริสตัลลีน ซิลิคอน เอพิทาเชียล ซิงเกิ้ล-คริสตัล ซิลิคอน, อะมอร์ฟัส ซิลิคอน เป็นต้น หรือวัสดุแบ่งแยก เช่น ฟอสฟอซิลิเคท กลาส หรือโบโรฟอสฟอซิลิเคท กลาสเป็นต้น ที่ถูกนำมาใช้ในอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำไฟฟ้าแบบไมโครอิเลกโทรนิคส์ ซึ่งไม่รวมถึงซิลิคอนประเภทแรกที่ถูกนำมาใช้ในการผลิตแผ่นบาง ๆ สำหรับวงจรไฟฟ้าแบบรวม โดยที่การขัดสีของขั้นของวัสดุสารกึ่งตัวนำไฟฟ้า หรือ วัสดุแบ่งแยกจะทำได้โดยการขัดถูสิ่งที่เรียกว่า ชั้นของวัสดุสารกึ่งตัวนำไฟฟ้า ด้วยแผ่นเส้นใยที่มีสารประกอบของการขัดสีเกาะติดอยู่ด้วย โดยตัวขัดสีนี้ จะประกอบด้วย สารละลาย แขวนลอยที่เป็นของเหลวที่มีค่า pH เป็นกลาง หรือใกล้เคียงความเป็นกลางของอนุภาค ซิลิก้าแขวนลอยที่เป็นอิสระ ไม่เชื่อมต่อกันโดยแรงยึดเหนี่ยวแบบไซโลเซน และใช้น้ำเป็นตัวกลางของการแขวนลอย

Claims

1. กระบวนการขัดทางกลเคมี สำหรับชั้นของวัสดุสารกึ่งตัวนำไฟฟ้า เช่น โพลีคริสตัลลีน ซิลิคอน,เอพิทาเชียล ซิลเกิล-ค ริสตัล ซิลิคอน,อะมอร์ฟัส ซิลคอน เป็นต้น หรือวัสดุแบ่งแยก เช่น ฟอสฟอวิลิเคท กลาส หรือ โบโรฟอสฟอซิลิเคท กลาส เป็น ต้น ซึ่งถูกนำมาใช้ในอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำไฟฟ้าแบบ ไมโครอิเลกโทรนิคส์ - โดยไม่รวมถึงซิลิคอนประเภทแรกที่ถูก นำมาใช้ในการผลิตแผ่นบาง ๆ สำหรับวงจรไฟฟ้าแบบรวม โดยที่ การขัดสีของชั้นของวัสดุสารกึ่งตัวนำหรือวัสดุแบ่งแยก จะทำ ได้โดยการขัดถูสิ่งที่เรียกว่า ชั้น ด้วยแผ่นเส้นใยที่มี สารประกอบในการขัดสีติดอยู่ด้วย โดยมีคุณลักษณะที่ว่า ตัว ขัดสี จะต้องประกอบด้วย สารละลายแขวนลอยที่เป็นของ เหลวที่มีค่า pH เป็นกลางหรือใกล้เคียงความเป็นกลางของซิ ลิก้าแขวนลอย ซึ่งประกอบด้วย อนุภาคของซิลิก้าแขวนลอยที่ เป็นอิสระ ไม่เชื่อมต่อกันโดยแรงยึดเหนี่ยวแบบไซโลเซน และ น้ำ ที่ทำหน้าที่เป็นตัวกลางของการแขวนลอย

2. กระบวนการขัดทางกลเคมี ตามข้อถือสิทธิ 1 จะถูกทำให้มี คุณลักษณะที่ว่า ตัวขัดสี จำเป็นต้องประกอบด้วยสารละลาย แขวนลอยที่เป็นของเหลว ที่มีค่า pH เป็นกลาง หรือใกล้เคลี ยงความเป็นกลาง

3. กระบวนการขัดทางกลเคมี ตามข้อถือสิทธิ 1 หรือ 2 จะถูก ทำให้มี คุณลักษณะที่ว่า สารละลายแขวนลอยที่เป็นของเหลวของ ซิลิก้าแขวนลอย ที่มีค่า pH เป็นกลางหรือใกล้เคียงความเป็น กลาง จะมีค่า pH อยู่ระหว่าง 6 และ 8

4. กระบวนการขัดทางกลเคมี ตามข้อสิทธิ 3 จะถูกทำให้มีคุณ ลักษณะที่ว่า สารละลายแขวนลอยที่เป็นของเหลวของซิลิก้าแขวน ลอย ที่มีค่า pH เป็นกลางหรือใกล้เคียงความเป็นแลางจะมีค่า pH อยู่ระหว่าง 6.5 และ 7.5

5. กระบวนการขัดทางกลเคมี ตามข้อถือสิทธิ 1-4 จะถูกทำให้ มีคุณลักษณะที่ว่า สารละลายแขวนลอยที่เป็นของเหลวของซิ ลิก้าแขวนลอย ที่มีค่า pH เป็นกลางหรือใกล้เคียงความเป็น กลางจะประกอบด้วย อนุภาคของซิลิก้าแขวนลอยที่เป็นอิสระ ไม่ เชื่อมต่อกันด้วยแรงยึดเหนี่ยวแบบไซโลเซน มีขนาดเส้นผ่า ศูนย์กลางระหว่าง 3 และ 250 นาโนเมตร

6. กระบวนการขัดทางกลเคมี ตามข้อถือสิทธิ 5 จะถูกทำให้มี คุณลักษณะที่ว่า สารละลายแขวนลอยที่เป็นของเหลวของซิลิก้า แขวนลอย ที่มีค่า pH เป็นกลางหรือใกล้เคียงความเป็นกลางจะ ประกอบด้วย อนุภาคของซิลิก้าแบบแขวนลอยที่เป็นอิสระ ไม่ เชื่อมต่อกันด้วยแรงยึดเหนี่ยวแบบไซโลเซน มีขนาดเส้นผ่า ศูนย์กลางอยู่ระหว่าง 10 และ 100 นาโนเมตร

7. กระบวนการขัดทางกลเคมี ตามข้อถือสิทธิ 1 - 6 จะถูกทำ ให้มีคุณลักษณะที่ว่า สารละลายแขวนลอยที่เป็นของเหลวของซิ ลิก้าแขวนลอย ที่มีค่า pH เป็นกลางหรือใกล้เคียงความเป็น กลางจะถูกกำหนดให้ใช้ความเข้มข้นของซิลิก้าโดยน้ำหนักอยู่ ระหว่าง 5 และ 50 เปอร์เซ็นต์

8. กระบวนการขัดทางกลเคมี ตามข้อถือสิทธิ 7 จะถูกทำให้มี คุณลักษณะที่ว่า สารละลายแขวนลอยที่เป็นของเหลวของซิลิก้า แขวนลอย ที่มีค่า pH เป็นกลางหรือใกล้เคียงความเป็นกลางจะ ถูกกำหนดให้ใช้ความเข้มข้นของซิลิก้าโดยน้ำหนักอยู่ระหว่าง 15 และ 40 เปอร์เซ็นต์

9. กระบวนการขัดทางกลเคมี ตามข้อถือสิทธิ 1-8 จะถูกทำให้ มีคุณลักษณะที่ว่า วัสดุสารกึ่งตัวนำไฟฟ้า จะมีส่วนประกอบ ของ โพลีคริสตัลลีน ซิลิคอน,เอพิทาเชียล ซิลิคอน, อ ะมอร์ฟัส ซิลิคอน เป็นต้น หรือมีส่วนประกอบของ ซิลิคอน ออกไซด์ ที่ต้านการนำไฟฟ้า ที่เลือกมาระหว่างฟอสฟอซิลิเคท กลาส (PSG) หรือ โบโรฟอสฟอซิลิเคท กลาส (BPSG)

10. กระบวนการขัดทางกลเคมี ตามข้อถือสิทธิ 9 จะถูกทำให้มี คุณลักษณะที่ว่า ชั้นของวัสดุสารกึ่งตัวนำไฟฟ้าจะมีส่วน ประกอบของ โพลีคริสตัลลีน ซิลิคอน

11. ตัวขัดสีสำหรับการขัดทางกลเคมีของชั้นวัสดุสารกึ่งตัว นำไฟฟ้า ที่มีส่วนประกอบของซิลิคอน เช่น โพลีคริสตัลลีน ซิลิคอน, เอพิทาเชียล ซิลิคอน หรือ อะมอร์ฟัส ซิลิคอน เป็น ต้น หรือมีส่วนประกอบของ ซิลิคอน ออกไซด์ ที่ต้านการนำ ไฟฟ้า เช่น ฟอสฟอซิลิเคท กลาส (PSG) หรือ โบโรฟอสฟอซิลิเคท กลาส (BSPG) เป็นต้น จะประกอบด้วย แผ่นเส้นใยที่มีสาร ประกอบของการขัดสีที่เป็นของเหลวเกาะติดอยู่ โดยเป็นส่วน ผสมของสารละลายแขวนลอยที่เป็นของเหลวที่มีค่า pH เป็นกลาง หรือใกล้เคียงความเป็นกลาง ของซิลิก้าแขวนลอย ที่ประกอบ ด้วย อนุภาคที่เป็นอิสระไม่เชื่อมต่อกัน ด้วยแรงยึดเหนี่ยว แบบไซโลเซน มีขนาดเส้นผ่าศูนย์กลาง 3 และ 250 นาโนเมตร และมีค่า pH อยู่ระหว่าง 6 และ 8 (ข้อถือสิทธิ 11 ข้อ, 2 หน้า, 4 รูป)