TH36196A - ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมีแบบใหม่ สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็นพวกอนุพันธ์ของซิลิกอน หรือซิลิกอน - Google Patents
ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมีแบบใหม่ สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็นพวกอนุพันธ์ของซิลิกอน หรือซิลิกอนInfo
- Publication number
- TH36196A TH36196A TH9701004222A TH9701004222A TH36196A TH 36196 A TH36196 A TH 36196A TH 9701004222 A TH9701004222 A TH 9701004222A TH 9701004222 A TH9701004222 A TH 9701004222A TH 36196 A TH36196 A TH 36196A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- silicon
- layer
- suspension
- abrasive
- colloidal silica
- Prior art date
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract 9
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title abstract 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title abstract 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 9
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims abstract 9
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims abstract 5
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims abstract 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 abstract 2
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 abstract 2
Abstract
DC60 (24/06/42) ขบวนการสำหรับการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมี ของชั้นของวัสดุที่แยกออก มาจำพวกซิลิกอน หรืออนุพันธ์ของซิลิกอน ในเรื่องนี้ การขัดถูชั้นของวัสดุที่แยก ออกมา ดำเนินไปโดยการขัดชั้นดังกล่าวด้วยเส้นใย ซึ่งจุ่มในสารขัดถูที่มีสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรด ของซิลิกาคอลลอยด์ ที่มีอนุภาคซิลิกาคอล ลอยด์ อยู่เดี่ยว ๆ ไม่จับกันด้วยพันธะซิโลเซน และน้ำเป็นสารตัวกลางของสาร แขวนลอย และสารขัดถูชนิดใหม่นี้อยู่ในสารแขวนลอยนี้ ขบวนการสำหรับการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมี ของชั้นของวัสดุที่แยกออกมาจำพวกซิลิกอน หรืออนุพันธ์ของซิลิกอน ในเรื่องนี้ การขัดถูชั้นของวัสดุที่แยกออกมา ดำเนินไปโดย การขัดชั้นดังกล่าวด้วยเส้นใย ซึ่งจุ่มในสารขัดถูที่มีสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรด ของซิลิกาคอลลอยด์ ที่มีอนุภาคซิลิกาคอลลอยด์ อยู่เดี่ยว ๆ ไม่จับกันด้วยพันธะ ซิโลเซน และน้ำเป็นสารตัวกลางของสารแขวนลอย และสารขัดถูชนิดใหม่นี้อยู่ในสารแขวนลอยนี้
Claims (2)
1. ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมี สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็น จำพวกซิลิกอน หรืออนุพันธ์ของซิลิกอน ในเรื่องนี้ การขัดถูของชั้นของวัสดุที่แยกออกมาดำเนินไป โดยการขัดถูชั้นดังกล่าวด้วยเส้นใยที่มีสารขัดถูคุณลักษณะของ สารขัดถู คือประกอบด้วย สารละลายเอเควียสแขวนลอย ที่เป็นกรดของซิลิกาคอลลอยด์ ที่มีอนุภาคซิลิกาคอลลอยด์ที่อยู่ เดี่ยว ๆ ไม่จับกับด้วยพันธะซิโลเซน และน้ำเป็นตัวกลาง ของสารแขวนลอย
2. ขบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 คุณลักษณะในเรื่องสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรดของซิลิกาคอลลอยดแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH36196A true TH36196A (th) | 1999-12-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103084148B (zh) | 混合模式的配体 | |
| MY121626A (en) | Chemical mechanical polishing process for layers of isolating materials based on silicon derivatives or silicon | |
| KR970701614A (ko) | 연마 용품 및 그 제조 방법(abrasive articles and method of making abrasive articles) | |
| BRPI0520844B1 (pt) | método para manter uma superfície dura compreendendo uma pedra ou material tipo pedra | |
| DE69905441D1 (de) | Schleifmittelzusammensetzung zur Verwendung in der Elektronikindustrie | |
| JPS5943520B2 (ja) | 乾式掃除剤 | |
| AU2005274509B2 (en) | Cleaning cloth | |
| MY119523A (en) | Chemical mechanical polishing process for layers of semiconductor or isolating materials | |
| FR2789998B1 (fr) | Nouvelle composition de polissage mecano-chimique d'une couche en un materiau conducteur d'aluminium ou d'alliage d'aluminium | |
| TH36196A (th) | ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมีแบบใหม่ สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็นพวกอนุพันธ์ของซิลิกอน หรือซิลิกอน | |
| US5811355A (en) | Enhanced chemical-mechanical polishing (E-CMP) method of forming a planar surface on a thin film magnetic head to avoid pole recession | |
| DK0982766T3 (da) | Fremgangsmåde til kemisk-mekanisk polering af et kobberbaseret materialelag | |
| DE60012399D1 (de) | Zusammensetzung zum mechanisch-chemischen Polieren von Schichten aus Isoliermaterial auf Basis eines Polymers mit niedriger Dielektrizitätskonstanz | |
| JP2001205554A5 (th) | ||
| JP2000351957A5 (th) | ||
| US8197307B1 (en) | Surface polishing system | |
| CA2001487A1 (en) | Gel producing pad and improved method for surfacing and polishing lenses | |
| RU2002338C1 (ru) | Способ химико-механического полировани полупроводниковых пластин и стекл нных заготовок | |
| JP2004113883A (ja) | 光触媒やその他の触媒機能を付与させる方法、およびそれらの触媒機能の付与性を有する洗浄、研磨溶液 | |
| WO1998045112A1 (en) | Polishing pads and methods relating thereto | |
| JPH09183055A5 (th) | ||
| JPH10334426A (ja) | 磁気ヘッドクリーナー | |
| TH635A (th) | กรรมวิธีผลิตและผลิตภัณฑ์สำหรับขัดผิวที่ประกอบด้วยวัตถุขัดที่กระจายภายในเนื้อยึดที่เป็นเส้นใยไขว้ไปมา | |
| KR930018477A (ko) | 자기 기록 매체용 유리 기판 | |
| JPH04223852A (ja) | 研磨方法及び窒化アルミニウム用研磨砥石 |