TH36196A - ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมีแบบใหม่ สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็นพวกอนุพันธ์ของซิลิกอน หรือซิลิกอน - Google Patents
ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมีแบบใหม่ สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็นพวกอนุพันธ์ของซิลิกอน หรือซิลิกอนInfo
- Publication number
- TH36196A TH36196A TH9701004222A TH9701004222A TH36196A TH 36196 A TH36196 A TH 36196A TH 9701004222 A TH9701004222 A TH 9701004222A TH 9701004222 A TH9701004222 A TH 9701004222A TH 36196 A TH36196 A TH 36196A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- silicon
- colloidal silica
- suspension
- acidic aqueous
- aqueous suspension
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (24/06/42) ขบวนการสำหรับการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมี ของชั้นของวัสดุที่แยกออก มาจำพวกซิลิกอน หรืออนุพันธ์ของซิลิกอน ในเรื่องนี้ การขัดถูชั้นของวัสดุที่แยก ออกมา ดำเนินไปโดยการขัดชั้นดังกล่าวด้วยเส้นใย ซึ่งจุ่มในสารขัดถูที่มีสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรด ของซิลิกาคอลลอยด์ ที่มีอนุภาคซิลิกาคอล ลอยด์ อยู่เดี่ยว ๆ ไม่จับกันด้วยพันธะซิโลเซน และน้ำเป็นสารตัวกลางของสาร แขวนลอย และสารขัดถูชนิดใหม่นี้อยู่ในสารแขวนลอยนี้ ขบวนการสำหรับการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมี ของชั้นของวัสดุที่แยกออกมาจำพวกซิลิกอน หรืออนุพันธ์ของซิลิกอน ในเรื่องนี้ การขัดถูชั้นของวัสดุที่แยกออกมา ดำเนินไปโดย การขัดชั้นดังกล่าวด้วยเส้นใย ซึ่งจุ่มในสารขัดถูที่มีสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรด ของซิลิกาคอลลอยด์ ที่มีอนุภาคซิลิกาคอลลอยด์ อยู่เดี่ยว ๆ ไม่จับกันด้วยพันธะ ซิโลเซน และน้ำเป็นสารตัวกลางของสารแขวนลอย และสารขัดถูชนิดใหม่นี้อยู่ในสารแขวนลอยนี้
Claims (10)
1. ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมี สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็น จำพวกซิลิกอน หรืออนุพันธ์ของซิลิกอน ในเรื่องนี้ การขัดถูของชั้นของวัสดุที่แยกออกมาดำเนินไป โดยการขัดถูชั้นดังกล่าวด้วยเส้นใยที่มีสารขัดถูคุณลักษณะของ สารขัดถู คือประกอบด้วย สารละลายเอเควียสแขวนลอย ที่เป็นกรดของซิลิกาคอลลอยด์ ที่มีอนุภาคซิลิกาคอลลอยด์ที่อยู่ เดี่ยว ๆ ไม่จับกับด้วยพันธะซิโลเซน และน้ำเป็นตัวกลาง ของสารแขวนลอย
2. ขบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 คุณลักษณะในเรื่องสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรดของซิลิกาคอลลอยด์ มี pH ระหว่าง 2 ถึง 3
3. ขบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 2 คุณลักษณะในเรื่องสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรดของซิลิกา คอลลอยด์ มี pH ระหว่าง 2 ถึง 3
4. ขบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่ง คุณลักษณะในเรื่องสารละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็น กรดของซิลิกาคอลลอยด์ ที่ประกอบด้วยอนุภาคอยู่ เดี่ยว ๆ ไม่จับกันด้วยพันธะซิโลเซน ด้วยเส้นผ่านศูนย์กลางระหว่าง 3 ถึง 250 นาโนเมตร
5. ขบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 4 คุณลักษณะในเรื่องสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรดของซิลิกา คอลลอยด์ ประกอบด้วยอนุภาคอยู่เดี่ยว ๆ ไม่จับกันด้วยพันธะซิโลเซน ด้วยเส้นผ่านศูนย์กลางระหว่าง 10 ถึง 50 นาโนเมจร
6. ขบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 5 ข้อใดข้อหนึ่งคุณ ลักษณะในเรื่องสารละลายเอเควียสแขวนลอย ที่เป็นกรด ของซิลิกาคอลลอยด์ใช้ที่ความเข้มข้นโดยน้ำหนักของซิลิกา ระหว่าง 5 ถึง 50%
7. ขบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 6 คุณลักษณะในเรื่องสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรดของซิลิกาคอลลอยด์ ใช้ที่ความเข้มข้นโดยน้ำหนักของซิลิการะหว่าง 15 ถึง 30%
8. ขบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่ง คุณลักษณะในเรื่องชั้นของวัสดุที่แยกออกมาจำพวกซิลิกอน หรืออนุพันธ์ของซิลิกอน คือ จำพวกซิลิกอน ไดออกไซด, :ไนไทรด์,โพลีซิลิกอน หรืออะมอฟัส ซิลิกอน
9. ขบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 8 คุณลักษณะในเรื่อง ชั้นของวัสดที่แยกออกมาคือ จำพวก ซิลิกอน ไดออกไซด์
10. สารขัดถูสำหรับการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมี ของชั้นของวัสดุที่แยกออกมา จำพวกซิลิกอน หรืออนุพันธ์ ของซิลิกอน ประกอบด้วยเส้นใยที่เต็มไปด้วยสารละลาย เอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรด ของซิลิกาคอลลอยด์ซึ่ง ประกอบด้วยอนุภาคที่อยู่เดี่ยว ๆ ไม่จับกันด้วยพันธะ ซิโลเซน ด้วยเส้นผ่านศูนย์กลางระหว่าง 3 ถึง 250 นาโนเมตร ด้วย pH ระหว่าง 1.5 ถึง 4 (ข้อถือสิทธิ 10 ข้อ, 2 หน้า, - รูป)
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH36196A true TH36196A (th) | 1999-12-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE50103461D1 (de) | Saure Poliersuspension für das chemisch-mechanische Polieren von SiO2-Isolationsschichten | |
| DE69829329D1 (de) | Verfahren zum chemisch-mechanischen Polieren von halbleitenden oder isolierenden Schichten | |
| KR101195276B1 (ko) | 소수성 영역 및 종말점 검출구를 포함하는 연마 패드 | |
| CA2168677A1 (en) | Granules Based on Pyrogenically Prepared Silicon Dioxide, Method for Their Preparation and Use Thereof | |
| ATE242052T1 (de) | Amorphe mikroporöse mischoxidkatalysatoren mit kontrollierter oberflächenpolarität für die selektive heterogene katalyse, adsorption und stofftrennung | |
| ATE164618T1 (de) | Schleifmaterial | |
| ES487399A1 (es) | Perfeccionamientos en los procedimientos de fabricacion y aplicacion de geles de silice | |
| DE69824282D1 (de) | Planarisierungszusammensetzung zur entfernung von metallschichten | |
| RU2007138038A (ru) | Способ и устройство для ухода за твердыми поверхностями и способ получения такого устройства | |
| ES2184418T3 (es) | Abrasivo dental mejorado. | |
| US20050215179A1 (en) | Low surface energy CMP pad | |
| DE69941619D1 (de) | Siliciumdioxid-aluminiumoxid-verbund-sol, verfahren zu dessen herstellung, und aufnahme-medium | |
| FR2754937B1 (fr) | Nouveau procede de polissage mecano-chimique de couches de materiaux isolants a base de derives du silicium ou de silicium | |
| DK0982766T3 (da) | Fremgangsmåde til kemisk-mekanisk polering af et kobberbaseret materialelag | |
| JP2001205554A5 (th) | ||
| TW200516135A (en) | Diamond polishing particles and method of producing same | |
| TW200704760A (en) | Adjuvant for chemical mechanical polishing slurry | |
| PT1046690E (pt) | Composicao para polimento quimico-mecanico de camadas num material isolador a base de um polimero com constante dielectrica baixa | |
| KR960014405A (ko) | 귀금속 또는 주로 귀금속을 함유하는 합금의 표면을 연마하는 방법과, 그 연마 방법에 의하여 얻어진 자기헤드 및, 그 연마방법의 사용에 적합한 연마수단 | |
| ATE68269T1 (de) | Poroese mikrokuegelchen aus siliziumdioxyd mit silanol angereicherten und silanisierten oberflaechen. | |
| TW200728440A (en) | Adjuvant for controlling polishing selectivity and chemical mechanical polishing slurry comprising the same | |
| Izumitani et al. | Polishing mechanism of fused silica glass | |
| DE60108624D1 (de) | Verfahren zum polieren und reinigen von glas | |
| JPS6219363A (ja) | 細孔内周面の研摩加工方法 | |
| ATE495229T1 (de) | Cerbasierendes poliermittel und cerbasierende poliersuspension |