TH36667B - สารขจัดแพลเลเดียมและการขจัดแพเลเดียม - Google Patents

สารขจัดแพลเลเดียมและการขจัดแพเลเดียม

Info

Publication number
TH36667B
TH36667B TH101002952A TH0101002952A TH36667B TH 36667 B TH36667 B TH 36667B TH 101002952 A TH101002952 A TH 101002952A TH 0101002952 A TH0101002952 A TH 0101002952A TH 36667 B TH36667 B TH 36667B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
palladium
ether
nitrate
agent
remover
Prior art date
Application number
TH101002952A
Other languages
English (en)
Other versions
TH54478A (th
Inventor
อิมาอิ นายเทรุฮิโกะ
วาตานาเบะ นายโยชิฮิโร
คอนโดะ นายโอซามุ
อิชิฮาระ ฟูคูซาบูโร
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายบุญมา เตชะวณิช
มิตซูบิชิ แก๊ส เคมิคอล คัมปะนี
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายบุญมา เตชะวณิช, มิตซูบิชิ แก๊ส เคมิคอล คัมปะนี filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH54478A publication Critical patent/TH54478A/th
Publication of TH36667B publication Critical patent/TH36667B/th

Links

Abstract

DC60 (05/10/44) สารขจัดแพลเลเดียมของการประดิษฐ์นี้จะประกอบรวมด้วย (a) ไนเทรท (b) สารทำให้ ละลายน้ำสำหรับการทำให้แพลเลเดียมออกไซด์ละลายน้ำ และ (c) น้ำ นอกจากนี้สารขจัดแพลเลเดียม นี้อาจมี (d) ตัวกระทำให้เปียก และ/หรือ (e) ตัวกระทำให้เป็นคีเลท สารขจัดแพลเลเดียมนี้จะขจัด แพลเลเดียมซึ่งเหลืออยู่บนพื้นผิวของซับสเทรทที่เป็นฉนวนโดยปราศจากการกัดกร่อนสายทองแดง และปราศจากการทำให้พื้นผิวของซับสเทรทที่เป็นฉนวนนี้หยาบมากขึ้น ด้วยเหตุนี้จึงเป็นการเพิ่มพูน ความเป็นฉนวนของแบบรูปวงจรนี้ สารขจัดแพลเลเดียมของการประดิษฐ์นี้จะประกอบรวมด้วย (a) ไนเทรท (b) สารทำให้ ละลายน้ำสำหรับการทำให้แพลเลเดียมออกไซด์ละลายน้ำ และ (c) น้ำ นอกจากนี้สารขจัดแพลเลเดียม นี้อาจมี (d) ตัวกระทำให้เปียก และ/หรือ (e) ตัวกระทำให้เป็นคีเลท สารขจัดแพลเลเดียมนี้จะขจัด แพลเลเดียมซึ่งเหลืออยู่บนพื้นผิวของซับสเทรทที่เป็นฉนวนโดยปราศจากการกัดกร่อนสายทองแดง และปราศจากการทำให้พื้นผิวของซับสเทรทที่เป็นฉนวนนี้หยาบมากขึ้น ด้วยเหตุนี้จึงเป็นการเพิ่มพูน ความเป็นฉนวนของแบบรูปวงจรนี้

Claims (14)

1. สารขจัดแพลเลเดียมซึ่งประกอบรวมด้วย (a) ไนเทรท (b) สารทำให้ละลายน้ำสำหรับ การทำให้แพลเลเดียมออกไซด์ละลายน้ำ และ (c) น้ำ ที่ซึ่งไนเทรทนี้เป็นสารประกอบที่คัดเลือกจาก กลุ่มซึ่งประกอบด้วยเเอมโมเนียมไนเทรท ลิเธียมไนเทรท ซิงก์ไนเทรท เเมงกานิสไนเทรท นิกเกิล ไนเทรท โคบอลต์ไนเทรท โซเดียมไนเทรท เเละโปเตสเซียมไนเทรทอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด
2. สารขจัดแพลเลเดียมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยไนเทรทปริมาณ 0.001 ถึง 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารทำให้ละลายน้ำปริมาณ 0.01 ถึง 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และน้ำในปริมาณทำให้ได้ดุล
3. สารขจัดแพลเลเดียมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือ 2 ที่ซึ่งสารที่ทำให้ละลายน้ำนี้เป็น สารประกอบที่คัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยกรดไฮโดรคลอริก กรดไนทริก กรดซัลฟูริก เเอมโนเนียมคลอไรด์ อะลูมินัมคลอไรด์ เเอมโมเนียมซัลเฟท เเละอลูมินัมซัลเฟทอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิด
4. สารขจัดแพลเลเดียมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งประกอบรวมต่อไป ด้วย (d) ตัวกระทำให้เปียก
5. สารขจัดเเพลเลเดียมตามข้อถือสิทธิข้อ 4 ที่ซึ่งความเข้มข้นของตัวกระทำให้เปียกนี้ คือ 0.001 ถึง 10 ส่วนโดยน้ำหนัก
6. สารขจัดเเพลเลเดียมตามข้อถือสิทธิข้อ 4 หรือ 5 ที่ซึ่งตัวกระทำให้เปียกนี้คือ เซอร์เเฟกเทนต์ เเอลกอฮอล์ หรืออีเธอร์
7. สารขจัดเเพลเลเดียมตามข้อถือสิทธิข้อ 6 ที่ซึ่งเซอร์เเฟกเทนท์นี้เป็นชนิดเเคตไอออนิก นอนไอออนิก หรือเเอนไอออนิก
8. สารขจัดเเพลเลเดียมตามข้อถือสิทธิข้อ 6 ที่ซึ่งเเอลกอฮอล์นี้เป็นสารประกอบซึ่งคัดเลือก จากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยเอธิลเเอลกอฮอล์ ไอโซโพรพิลเเอลกอฮอล์ บิวทานอล เอธิลีนไกลคอล ไดเอธิลีนไกลคอล โพรพิลีนไกลคอล เเละไดโพรพิลีนไกลคอลอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด
9. สารขจัดเเพลเลเดียมตามข้อถือสิทธิข้อ 6 ที่ซึ่งอีเธอร์นี้เป็นสารประกอบซึ่งคัดเลือกจาก กลุ่มซึ่งประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอลโมโนเอธิลอีเธอร์ เอธิลีนไกลคอลโมโนบิวทิลอีเธอร์ ไดเอธิลีน ไกลคอลโมโนเมธิลอีเธอร์ ไดเอธิลีนไกลคอลโมโนเอธิลอีเธอร์ ไดเอธิลีนอีเธอร์ โพรพิลีนไกลคอล อีเธอร์ โพรพิลีนไกลคอลโมโนเมธิลอีเธอร์ โพรพิลีนไกลคอลโมโนเอธิลอีเธอร์ โพรพิลีนไกลคอล โมโนบิวทิลอีเธอร์ ไดโพรพิลีนไกลคอลโมโนเมธิลอีเธอร์ ไดโพรพิลีนไกลคอลโมโนเอธิลอีเธอร์ ไดโพรพิลีนไกลคอลโมโนบิวทิวอีเธอร์ ไดเอธิลีนไกลคอลไดเมธิลอีเธอร์ ไดโพรพิลีนไกลคอล ไดเมธิลอีเธอร์ โพลิออกซิเอธิลีนเมธิลฟีนิลอีเธอร์ พอลิออกซิเอธิลีนฟีนิลอีเธอร์ พอลิออกซิ เอธิลีนออกทิลฟีนิลอีเธอร์ เเละพอลิอกซิเอธิลีนโมนิลฟีนิลอีเธอร์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด
10. สารขจัดเเพลเลเดียมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 9 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งประกอบรวมต่อไปด้วย (e) ตัวกระทำให้เป็นคีเลท
11. สารขจัดเเพลเลเดียมตามข้อถือสิทธิข้อ 10 ซึ่งมีตัวกระทำให้เป็นคีเลท 0.01 ถึง 5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
12. สารขจัดเเพลเลเดียมตามข้อถือสิทธิข้อ 10 หรือ 11 ที่ซึ่งตัวกระทำให้เป็นคีเลทนี้เป็น สารประกอบที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลไกลออกวีม ไธโอยูเรีย ไธออกซีน (8-เมอร์เเคพโทดวิโนลีน) ไดไธโซน 2-ไนโตรโซ-1-เเนพธอล เเละพารา-ไนโตรโซไดเมธิลานิลีน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด
13. สารขจัดเเพลเลเดียมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 12 ข้อใดข้อหนึ่ง สำหรับใช้ในการผลิตเเผง วงจรโดบยวิธีการใช้สารเติมเเต่งซึ่งเเบบรูปวงจรถูกก่อรูปโดยขั้นชุบทองเเดงซึ่งตกสะสมบนพื้นผิว ของซับสเทรทที่เป็นฉนวน
14. วิธีการขจัดเเพลเลเดียมซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอน การก่อเกิดชั้นเเพลเลเดียมบนพื้นผิวของซับสเทรทที่เป็นฉนวน การก่อเกิดชั้นชุบทองเเดงบนชั้นเเพลเลเดียมนี้ การกัดรอยชั้นทองเเดงภายหลังการเคลือบทาสารต้านทานไปยังพื้นผิวของชั้นชุบทองเเดงนี้ การลอกสารต้านทานที่ตกค้างเพื่อก่อเกิดเเบบรูปวงจร เเละ การขจัดเเพลเลเดียมซึ่งเหลืออยู่บนซับสเทรทที่เป็นฉนวนนี้โดยสารขจัดเเพลเลเดียมตามที่ กำหนดในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 12 ข้อใดข้อหนึ่ง
TH101002952A 2001-07-25 สารขจัดแพลเลเดียมและการขจัดแพเลเดียม TH36667B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH54478A TH54478A (th) 2002-12-17
TH36667B true TH36667B (th) 2013-08-20

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0438535B1 (en) Inhibited composition and method for stripping tin, lead or tin-lead alloy from copper surfaces
JP5288144B2 (ja) フォトレジスト剥離剤組成物、積層金属配線基板のフォトレジスト剥離方法及び製造方法
JP2000239865A (ja) 金属表面に耐酸性を付与する水性溶液
EP0418333B1 (en) Composition and method for stripping tin or tin-lead alloy from copper surfaces
KR101050011B1 (ko) 박리제 조성물 및 이것을 사용한 박리 세정방법
AU718581B2 (en) Composition and method for stripping solder and tin from printed circuit boards
JP4649817B2 (ja) パラジウム除去液およびパジジウムの除去方法
JPWO1999031293A1 (ja) 無電解ニッケルめっき用前処理液および前処理方法
JPWO2002008491A1 (ja) パラジウム除去液およびパジジウムの除去方法
EP0397327B1 (en) Process for dissolving tin and tin alloys
JP4296320B2 (ja) レジスト剥離剤組成物及びその使用方法
TH54478A (th) สารขจัดแพลเลเดียมและการขจัดแพเลเดียม
US6174561B1 (en) Composition and method for priming substrate materials
CN100549840C (zh) 剥离剂组合物
CN101253258B (zh) 用于自工件表面去除离子污染物的水溶液及方法
JP3398125B2 (ja) ニッケルあるいは鉄ニッケル合金上の無鉛スズ合金剥離用の剥離液
JP4637010B2 (ja) 剥離剤組成物
JP4332701B2 (ja) プリント配線板の表面処理方法
JP7765673B1 (ja) 樹脂マスク剥離剤組成物
JP4189609B2 (ja) サブストレート材料をプライミングする組成物及び方法
JP2008144228A (ja) 金属用化学溶解制御剤、金属用化学溶解処理液および金属用化学溶解処理方法
JP4478908B2 (ja) レジスト剥離剤組成物
HK1017391A (en) Composition and method for stripping solder and tin from printed circuit boards
JPH09283481A (ja) 半導体回路用洗浄液及び半導体回路の製造方法