TH37151A - วิธีสำหรับบำบัดวัสดุละเอียดในวิธีชั้นฟลูอิไดด์และเวสเซลและโรงงานสำหรับทำตามวิธีนี้ - Google Patents

วิธีสำหรับบำบัดวัสดุละเอียดในวิธีชั้นฟลูอิไดด์และเวสเซลและโรงงานสำหรับทำตามวิธีนี้

Info

Publication number
TH37151A
TH37151A TH9701001741A TH9701001741A TH37151A TH 37151 A TH37151 A TH 37151A TH 9701001741 A TH9701001741 A TH 9701001741A TH 9701001741 A TH9701001741 A TH 9701001741A TH 37151 A TH37151 A TH 37151A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
treatment
fine
gas
fluidide
layer
Prior art date
Application number
TH9701001741A
Other languages
English (en)
Inventor
เคปป์ลิงเกอร์ นายเวอร์เนอร์-เลียวโพลด์
วอลล์เนอร์ นายเฟลิกซ์
เช็งค์ นายโยฮันเนส-เลียวโพลด์
เฮาเซ่นเบอร์เกอร์ นายฟรานซ์
ฮูเบิร์ต วิปป์ จูเนียร์ นายรอย
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายวิรัช ศรีเอนกราธา, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH37151A publication Critical patent/TH37151A/th

Links

Abstract

DC60 (17/08/42) ในวิธีสำหรับบำบัด วัสดุละเอียดในวิธีชั้นฟลูอิไดด์ วัสดุละเอียดจะถูกรักษาในชั้นฟลูอิ ไดด์ (2) โดยแก๊สบำบัดที่ไหล จากฐานขึ้นสู่ด้านบนและที่ซึ่งจะถูกบำบัดในนั้น เพื่อที่จะลดการใช้แก๊สบำบัดให้ต่ำที่สุด และเพื่อที่จะลด การหลุดออกไปของอนุภาค ละเอียดโดยแก๊สบำบัด วัสดุละเอียดที่ มีการกระจายอนุภาคใหญ่และสัดส่วนค่อนข้างสูง ของอนุภาค ละเอียดจะถูกนำมาใช้สำหรับบำบัดและความเร็วผิวหน้าของแก๊ส บำบัดในชั้น ฟลูอิไดด์ (2) จะถูกรักษาให้น้อยกว่าความเร็ว ที่ต้องการสำหรับฟลูอิไดด์อนุภาคที่ใหญ่ที่สุด ของวัสดุ ละเอียดที่ได้กล่าวมาแล้ว (รูปที่ 1) ในวิธีสำหรับบำบัด วัสดุละเอียดในวิธีชั้นฟลูอิไดด์ วัสดุละเอียดจะถูกรักษาในชั้นฟลูอิไดด์ (2) โดยแก๊สบำบัดที่ไหล จากฐานขึ้นสู่ด้านบนและที่ซึ่งจะถูกบำบัดในนั้น เพื่อที่จะลดการใช้แก๊สบำบัดให้ต่ำที่สุด และเพื่อที่จะลด การหลุดออกไปของอนุภาคละเอียดโดยแก๊สบำบัด วัสดุละเอียดที่ มีการกระจายอนุภาคใหญ่และสัดส่วนค่อนข้างสูงของอนุภาค ละเอียดจะถูกนำมาใช้สำหรับบำบัดและความเร็วผิวหน้าของแก๊ส บำบัดในชั้นฟลุอิไดด์ (2) จะถูกรักษาให้น้อยกว่าความเร็ว ที่ต้องการสำหรับฟลูอิไดด์อนุภาคที่ใหญ่ที่สุดของวัสดุ ละเอียดที่ได้กล่าวมาแล้ว (รูปที่ 1)

Claims (1)

1. วิธีสำหรับบำบัด ที่นิยมรีดิวส์ วัสดุละเอียดในวิธีชั้นฟลูอิไดด์ โดยเฉพาะสำหรับรีดิวส์สินแร่ละเอียด ที่ซึ่ง วัสดุละเอียดที่ได้กล่าวมาแล้วจะถูกรักษาในชั้นฟลูอิไดด์ (2) โดยแก๊สบำบัดที่ไหลจากฐานขึ้นสู่ด้านบน และที่ซึ่งจะ ถูกบำบัดในนั้นบรรยายลักษณะที่ว่า วัสดุละเอียดที่มีการ กระจายอนุภาคกว้างที่มีสัดส่วนค่อนข้างสูงของอนุภาคละเอียด และสัดส่วนของอนุภาคที่ใหญ่กว่าจะถูกใช้สำหรับบำบัดและ ความเร็วผิวหน้าของแก๊สบำบัดในชั้นฟลูอิไดด์(2) จะถูกรักษา ให้น้อยกว่าความเร็วที่ต้องการสำหรับฟลูอิไดด์สัดส่วนของ อนุภาแท็ก :
TH9701001741A 1997-05-08 วิธีสำหรับบำบัดวัสดุละเอียดในวิธีชั้นฟลูอิไดด์และเวสเซลและโรงงานสำหรับทำตามวิธีนี้ TH37151A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH37151A true TH37151A (th) 2000-02-14

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2103683A1 (en) Methods of Controlling Dust and Compositions Produced Thereby
JPS54108464A (en) Method of biologically treating drainage by downward flow
DE3786119D1 (de) Verfahren zum bearbeiten von diamantkoernern.
EP0152204A3 (en) Coating process
GR3005939T3 (th)
NZ235950A (en) Method of treating or coating a substrate with an aqueous dispersion of copolymer particles
JPS5969265A (ja) 精密湿式ブラスト用投射材及びその製法
CA2187092A1 (en) Structure forming method, apparatus and the resulting product
BR9709591A (pt) Método para tratar material em partìculas no método de camada fluidificada e recipiente e instalação para executar o método
TH37151A (th) วิธีสำหรับบำบัดวัสดุละเอียดในวิธีชั้นฟลูอิไดด์และเวสเซลและโรงงานสำหรับทำตามวิธีนี้
EP0982379A3 (en) Particle surface-modifying method and particle surface-modifying device
ES8607745A1 (es) Procedimiento y dispositivo para la concentracion de una superficie de particulas microscopicas
ATE454224T1 (de) Verfahren und vorrichtung zur trennung von teilchenmaterial
ATE49146T1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung von kugelfoermigen metallischen partikeln.
CN86100414A (zh) 磁力植砂工艺及其设备
JPS5721267A (en) Wet-blast process
JPS57198545A (en) Manufacture of magnetic recording medium
Gimbel Dynamic Particle Adhesion Process and Its Effect on Particle Aggregation
IL150052A0 (en) A fluidized bed processor having a hydro dynamically active layer and a method for use thereof
von Berg et al. Process modelling for gas atomization of liquid metal jets
JPS57117371A (en) Method for finishing surface pattern on painting material
JPS5733438A (en) Vanishing method of magnetic disk
JPS5366060A (en) Magnetic force dressing method
Karoly et al. Hydrodynamic Modelling of Powder Injection Into Melts
JPS5621689A (en) Water treating apparatus