TH48175B - วิธีการขัดผิว อุปกรณ์การขัดผิว, ชั้นฐานแก้วสำหรับสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก และสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก - Google Patents
วิธีการขัดผิว อุปกรณ์การขัดผิว, ชั้นฐานแก้วสำหรับสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก และสื่อบันทึกทางแม่เหล็กInfo
- Publication number
- TH48175B TH48175B TH1001001118A TH1001001118A TH48175B TH 48175 B TH48175 B TH 48175B TH 1001001118 A TH1001001118 A TH 1001001118A TH 1001001118 A TH1001001118 A TH 1001001118A TH 48175 B TH48175 B TH 48175B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- glass substrate
- polishing
- free abrasive
- abrasive grains
- inner peripheral
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (02/10/58) จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิวและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับที่สูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการจุ่มลงในของเหลวขัดถู 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบนอกด้านใน แก้ไขบทสรุปการประดิษฐ์ 2/10/2558 จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิวและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับที่สูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการขัดถูกในของเหลวขัดถูก 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูกอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบด้านใน ----------------------------------------------------- วันที่แก้ไข 02/10/58 จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิดและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับสูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1 ) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการขัดถูในของเหลวขัดถู 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบนอกด้านใน ........................................................................................................................ จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิวและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับที่สูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการจุ่มลงในของเหลวขัดถู 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบนอกด้านใน
Claims (2)
1. องค์ประกอบเครื่องสำอางสำหรับเส้นผม ซึ่งประกอบด้วย (A)ไกลซีน หรือ อะลานิน, (B) กรด X-ไฮดรอกซี, กรด B-ไฮดรอกซี, กรด 1.2-ไดคาร์บอกซิลิก, กรด 1.3- ไดคาร์บอกซิลิก หรือกรดอะ โรมาติกคาร์บอกซิลิก และ (C) สารลดแรงตึงผิว แคทไอออนิก
2. องค์ประกอบเครื่องสำอางสำหรับเส้นผม ตามข้อถือสิทธิข้อ ที่ 1 ซึ่งสารลดแรง ตึงผิว แคทไอออนิก (C) คือเกลือควอร์เทอ นารี แอมโมเนียม ที่แสดงโดยสูตร (1) ต่อไปนี้ (สูตรเคมี) ซึ่ง R1, R2, R3 และ R4 อย่างน้อยที่สุดหนึ่งตัว แสดงถึง หม
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH111024A TH111024A (th) | 2011-11-21 |
| TH48175B true TH48175B (th) | 2016-02-23 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW446601B (en) | Selective damascene chemical mechanical polishing | |
| KR930008983A (ko) | 반도체 웨이퍼의 기계적인 평탄화 작용후 폴리싱 슬러리를 제거하는 방법 | |
| DE69503408D1 (de) | Vorrichtung zum chemisch-mechanischen Polieren mit verbesserter Verteilung der Polierzusammensetzung | |
| JP2002538284A5 (th) | ||
| KR970061445A (ko) | 웨이퍼 및 기판의 재생방법 및 장치 | |
| JP2011205096A5 (th) | ||
| JP2001070896A5 (th) | ||
| JP2011216873A5 (th) | ||
| JP2004506337A5 (th) | ||
| TW393378B (en) | Apparatus and methods for slurry removal in chemical mechanical polishing | |
| KR20010114145A (ko) | 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법 | |
| JP3575349B2 (ja) | アルミノシリケートガラス基板の洗浄液及び洗浄方法 | |
| JP2000140778A (ja) | ガラス基板の洗浄液及び洗浄方法 | |
| TH48175B (th) | วิธีการขัดผิว อุปกรณ์การขัดผิว, ชั้นฐานแก้วสำหรับสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก และสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก | |
| JP2001205554A5 (th) | ||
| JP2002079190A (ja) | 基板洗浄部材、ならびにこれを用いた基板洗浄装置および基板洗浄方法 | |
| US20020173254A1 (en) | Chemical Mechanical polishing apparatus | |
| JPH11285967A (ja) | ウエハの化学的機械的研磨装置およびそれを用いてウエハを研磨する方法 | |
| JP5533355B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板、両面研磨装置、ガラス基板の研磨方法及びガラス基板の製造方法 | |
| JPS60240129A (ja) | スクラブ洗浄装置 | |
| JP2011155095A (ja) | 半導体基板の平坦化加工装置およびそれに用いる仮置台定盤 | |
| JP2001308042A (ja) | 基板用研磨剤スラリ− | |
| JP2007022866A (ja) | 円盤状ガラス基板の洗浄方法および磁気ディスク | |
| TH111024A (th) | วิธีการขัดผิว อุปกรณ์การขัดผิว, ชั้นฐานแก้วสำหรับสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก และสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก | |
| JP2001009710A (ja) | ウエーハ研磨装置 |