TH76162A - ชุดอุปกรณ์และกรรมวิธีสำหรับปรับสภาพพื้นผิวของฐานรองโดยใช้ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงาน - Google Patents
ชุดอุปกรณ์และกรรมวิธีสำหรับปรับสภาพพื้นผิวของฐานรองโดยใช้ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานInfo
- Publication number
- TH76162A TH76162A TH501004403A TH0501004403A TH76162A TH 76162 A TH76162 A TH 76162A TH 501004403 A TH501004403 A TH 501004403A TH 0501004403 A TH0501004403 A TH 0501004403A TH 76162 A TH76162 A TH 76162A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- activated
- gas
- internal space
- gases
- under
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (19/12/48) เนื้อหาในที่นี้เป็นการอธิบายเกี่ยวกับชุดอุปกรณ์และกรรมวิธีสำหรับปรับสภาพบริเวณอย่างน้อย ส่วนหนึ่งของพื้นผิวของฐานรอง ในลักษณะอย่างหนึ่งนั้น ชุดอุปกรณ์ดังกล่าวจะมี ห้องดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยเนื้อที่ว่างภายใน, ฐานรองและท่อร่วมไอเสีย แหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยาโดยที่ก๊าซสำหรับดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยก๊าซทำปฏิกิริยา ตั้งแต่หนึ่งชนิดขึ้นไปและตัวเลือกที่ไม่บังคับคือก๊าซเติมแต่งจะถูกกระตุ้นให้ทำงาน โดยแหล่งพลังงาน ตั้งแต่หนึ่งแห่งขึ้นไปเพื่อให้ได้ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานและ ท่อแจกจ่ายซึ่งมีเส้นทางเชื่อมต่อของไหลเข้ากับและแหล่งจ่ายซึ่งประกอบด้วยช่องเปิดจำนวน มากกว่าหนึ่งช่องซึ่งส่งก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานเข้าไปในเนื้อที่ว่างภายในโดยที่ก๊าซทำ ปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานจะมีสัมผัสกับพื้นผิวและทำให้มีก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกระตุ้นให้ทำงานซึ่ง ผ่านการใช้งานและ/หรือผลิตผลที่ระเหยได้ซึ่งถูกดูดออกมาจากเนื้อที่ว่างภายในดังกล่าวโดยผ่านทางท่อ ร่วมไอเสีย เนื่อหาในที่นี้เป็นการอธิบายเกี่ยวกับชุดอุปกรณ์และกรรมวิธีสำหรับปรับสภาพบริเวณอย่างน้อย ส่วนหนึ่งของพื้นผิวของฐานรอง ในลักษณะอย่างหนึ่งนั้น ชุดอุปกรณ์ดังกล่าวจะมี ห้องดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยเนื้อที่วางภายใน, ฐานรองและท่อร่วมไอเสีย แหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยา โดยที่ก๊าซสำหรับดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยก๊าซทำปฏิกิริยา ตั้งแต่หนึ่งชนิดขึ้นไปและตัวเลือกที่ไม่บังคับคือก๊าซเติมแต่งจะถูกกระตุ้นให้ทำงาน โดยแหล่งพลังงาน ตั้งแต่หนึ่งแห่งขึ้นไปเพื่อให้ได้ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานและ ท่อแจกจ่ายซึ่งมีเส้นทางเชื่อมต่อของไหลเข้ากับและแหล่งจ่ายซึ่งประกอบด้วยช่องเปิดจำนวน มากกว่าหนึ่งช่องซึ่งส่งก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานเข้าไปในเนื้อที่ว่างภายในโดยที่ก๊าซทำ ปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานจะมีสัมผัสกับพื้นผิวและทำให้มีก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกระตุ้นให้ทำงานซึ่ง ผ่านการใช้งานและ/หรือผลิตผลที่ระเหยได้ซึ่งถูกดูดออกมาจากเนื้อที่ว่างภายในดังกล่าว โดยผ่านทางท่อ ร่วมไอเสีย
Claims (32)
1. ชุดอุปกรณ์สำหรับปรับสภาพบริเวณอย่างน้อยส่วนของพื้นผิดของฐานรองที่มีความ ยาวมากกว่า 2 ฟุตและมีความกว้างมากกว่า 1 ฟุตและ/หรือมีพื้นที่ผิว 2 ตารางฟุตหรือมากว่านี้โดยใช้ ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานโดยที่ชุดอุปกรณ์ดังกล่าวประกอบด้วย - ห้องดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยเนื้อที่ว่างภายในที่ได้รับการปรับแต่งเพื่อให้สามารถ รองรับพื้นผิวของฐานรองได้อย่างน้อยส่วนหนึ่งและท่อร่วมไอเสีย - แหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานโดยที่ก๊าซสำหรับดำเนินกรรมวิธีซึ่ง ประกอบด้วยก๊าชทำปฏิกิริยาและตัวเลือกที่ไม่บังคับคือก๊าซเติมแต่งจะถูกกระตุ้นให้ทำงานโดยแหล่ง พลังงานที่ประกอบด้วยแหล่งของพลาสมาสำหรับจัดเตรียมก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงาน ดังกล่าวและ - ท่อแจกจ่ายซึ่งมีเส้นทางเชื่อมต่อของไหลเข้ากับแหล่งจ่ายและเนื้อที่ว่างภายในดังกล่าว ได้โดยที่ท่อแจกจ่ายดังกล่าวประกอบด้วยช่องเปิดจำนวนมากกว่าหนึ่งช่องซึ่งส่งก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูก กระตุ้นให้ทำงานเข้าไปในเนื้อที่ว่างภายในและไปอยู่บนฐานรองโดยตรงและ โดยที่ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานจะมีเส้นทางเชื่อมต่อของไหลไปยังส่วนสัมผัส ของพื้นผิวเพื่อให้มีก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานซึ่งผ่านการใช้งานและ/หรือผลิตผลที่ระเหยได้ ซึ่งถูกดูดออกมาจากเนื้อที่ว่างภายในดังกล่าวโดยผ่านทางท่อร่วมไอเสีย
2. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่แหล่งของพลาสมาดังกล่าวจะถูกเลือกมาจากกลุ่มที่ ประกอบด้วยแหล่งของพลาสมาจากระยะไกล, แหล่งของพลาสมาที่อยู่ประจำตำแหน่งและการ ผสมผสานของสิ่งเหล่านี้และในลักษณะซึ่งเป็นทางเลือกที่ไม่บังคับก็จะได้รับการช่วยเหลือจากแหล่ง พลังงานความร้อนจากระยะไกล, แหล่งพลังงานเชิงเร่งปฏิกิริยา, แหล่งพลังงานความร้อนที่ อยู่ประจำ ตำแหน่ง, การยึดติดของอิเล็กตรอน, แหล่งพลังงานที่อาศัยโฟตอนและการผสมสานของสิ่งเหล่านี้
3. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ก๊าซทำปฏิกิริยาดังกล่าวประกอบด้วย (i) ก๊าซที่มีส่วนประกอบของออกซิเจนซึ่งเลือกมาจากออกซิเจน, โอโซน, กรดไนตริก, ไนตรัสออกไซด์, ไนโตรเจนไดออกไซด์, คาร์บอนมอนอกไซด์, คาร์บอนไดออกไซด์, น้ำและ ส่วนผสมของสิ่งเหล่านี้ (ii) ก๊าซที่มีส่วนประกอบของฟลูออรีน,เพอร์ฟลูออโรคาร์บอน, ไฮโดรฟลูออโรคาร์บอน, ออกซีฟลูออโรคาร์บอน, ไฮโดรฟลูออโรคาร์บอนที่มีการเพิ่มออกซิเจน, ไฮโดรฟลูออโรอีเทอร์, ไฮโป ฟลูออไรด์, ฟลูออโรเพอรอกไซด์, ฟลูออโรไตรออกไซด์, ฟลูออโรเมมีน, ฟลูออโรไนไตรล์, ซัลฟอกซี ฟลูออไรด์และส่วนผสมของสารประกอบเหล่านี้ (iii) ก๊าซที่มีส่วนประกอบของคลอรีนซึ่งเลือกมาจาก BCl3, COCl2, HCl, Cl2, ClF3, NFxCl3-x โดยที่ x เป็นจำนวนเต็มในช่วงตั้งแต่ 0 ถึง 2, คลอโรคาร์บอน, คลอโรไฮโดรคาร์บอนและ ส่วนผสมของสารประกอบเหล่านี้
4. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 3 โดยที่ก๊าซที่มีส่วนประกอบของฟลูออรีนถูกเลือกมาจาก F2, HF, NF3, SF6, SF4, COF2, NOF, NOF, C3F3N3 และส่วนผสมของก๊าซเหล่านี้
5. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ก๊าซสำหรับดำเนินกรรมวิธีดังกล่าวประกอบด้วยก๊าซ เติมแต่งซึ่งมักเป็นที่นิยมให้เลือกมาจาก H2, N2, He, Ne, Kr, Xe, Ar และส่วนผสมของสารประกอบ เหล่านี้
6. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ห้องดำเนินกรรมวิธีดังกล่าวมีส่วนประกอบเพิ่มเติม คือวิถีทางสำหรับปรับความดันเพื่อปรับความดันในการปฏิบัติงานของห้องให้มีค่าน้อยกว่า 760 ทอร์ (101.3 kPa)
7. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ท่อแจกจ่ายดังกล่าวมีจำนวน (N) ของช่องเปิดซึ่งมี พื้นที่ภาคตัดขวาง (Ao) และมีพื้นที่ภาคตัดขวาง ( Ac) และพื้นที่ภาคตัดขวางสูงสุดรวมทั้งหมดของช่อง เปิดก็จะถูกกำหนดโดย N * Ao < 0.49 * Ac
8. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ช่องเปิดแต่ละช่องมีผนังด้านข้างที่ปาดมุมเป็นมุม เธตา อย่างน้อย 20 ํ หรือมากว่านี้
9. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ช่องเปิดแต่ละช่องจากจำนวนมากกว่าหนึ่งช่องจะมี เส้นผ่าศูนย์กลาง (do) อย่างน้อย 0.1 มิลลิเมตร (4 มิล) ซึ่งในลักษณะที่พึงประสงค์ก็จะมีขนาดอย่างน้อย 0.5 มิลลิเมตร (20 มิล) ซึ่งในลักษณะที่พึงประสงค์ยิ่งขึ้นก็จะมีขนาดอย่างน้อย 1 มิลลิเมตร (0.04 นิ้ว) และอย่างมาก 50 มิลลิเมตร (1.95 นิ้ว) ซึ่งในลักษณะที่พึงประสงค์ก็จะมีขนาดอย่างมาก 20 มิลลิเมตร (0.78 นิ้ว) และในลักษณะที่พึงประสงค์มากที่สุดก็จะมีขนาด 5 มิลลิเมตร (0.2 นิ้ว)
10. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ท่อแจกจ่ายจะมีจำนวนช่องเปิดอยู่ในช่วงตั้งแต่ 2 ถึง 500 ซึ่งในลักษณะที่พึงประสงค์ก็จะมีจำนวนตั้งแต่ 5 ถึง 100 ช่องซึ่งในลักษณะที่พึงประสงค์มากที่สุด ก็จะมีจำนวนตั้งแต่ 10 ถึง 50 ช่อง
11. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ท่อแจกจ่ายดังกล่าวถูกจัดเรียงให้ขนานกับพื้นผิวที่จะ ได้รับการปรับสภาพ
12. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 11 โดยที่ช่องเปิดแต่ละช่องจะมีผนังด้านข้างที่มีการ ปาดมุมเป็นมุม อัลฟา ซึ่งช่องเปิดแต่ละช่องจะเว้นระยะห่างกันเป็นระยะทาง x และท่อแจกจ่ายก็จะถูกเว้น ระยะห่างจากพื้นผิวที่จะปรับสภาพเป็นระยะทาง y โดยที่ x/(2*tan อัลฟา) น้อยกว่าหรือเท่ากับ y
13. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 12 โดยที่ท่อแจกจ่ายดังกล่าวถูกเว้นระยะห่างจากพื้นผิวที่จะ ปรับสภาพเป็นระยะทาง y ซึ่งมีขนาดในช่องตั้งแต่ 1 ถึง 150 เซนติเมตร (0.4 ถึง 60 นิ้ว) ซึ่งในลักษณะ ที่พึงประสงค์ก็จะอยู่ในช่วงตั้งแต่ 1 ถึง 50 เซนติเมตร (0.4 ถึง 20 นิ้ว) และในลักษณะที่พึงประสงค์มาก ที่สุดก็จะอยู่ในช่วงตั้งแต่ 1 ถึง 20 เซนติเมตร (0.4 ถึง 8 นิ้ว)
14. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 12 โดยที่ช่องเปิดแต่ละช่องจะเว้นระยะห่างกันเป็นระยะทาง x ซึ่งมีขนาดในช่วงตั้งแต่ 0.1 ถึง 250 เซนติเมตร (0.04 -98) นิ้ว) ซึ่งในลักษณะที่พึงประสงค์ก็จะอยู่ ในช่วงตั้งแต่ 0.5 ถึง 85 เซนติเมตร (0.2 - 33 นิ้ว) และในลักษณะที่พึงประสงค์มากที่สุดก็จะอยู่ในช่วง ตั้งแต่ 5 ถึง 25 เซนติเมตร (2 - 10 นิ้ว)
15. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 13 โดยที่ช่องเปิดแต่ละช่องจะเว้นระยะห่างกันเป็นระยะทาง x ซึ่งมีขนาดในช่วงตั้งแต่ 0.1 ถึง 250 เซนติเมตร (0.04 -98) นิ้ว) ซึ่งในลักษณะที่พึงประสงค์ก็จะอยู่ ในช่วงตั้งแต่ 0.5 ถึง 85 เซนติเมตร (0.2 - 33 นิ้ว) และในลักษณะที่พึงประสงค์มากที่สุดก็จะอยู่ในช่วง ตั้งแต่ 5 ถึง 25 เซนติเมตร (2 - 10 นิ้ว)
16. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ช่องเปิดจำนวนมากกว่าหนึ่งช่องถูกกระจายออกไป เป็นระยะทางโดยประมาณที่สม่ำเสมอทั่วพื้นผิวของช่องแจกจ่ายที่อยู่ใกล้กับพื้นผิวที่จะปรับสภาพมาก ที่สุด
17. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 ห่รือ 16 โดยที่ช่องแจกจ่ายดังกล่าวเป็นท่อที่มีรูปทรงเป็น หลอดและมีการจัดทำช่องเปิดไว้ในแนวที่ขนานกับแกนหลอดบนด้านใดด้านหนึ่งของมันเป็นสำคัญ
18. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 ห่รือ 16 โดยจะมีการจัดเตรียมผนังด้านข้างของช่องแจกจ่าย ไว้ในรูปของแผ่นประกบและโดยมีการจัดทำช่องเปิดไว้ในแผ่นประกบดังกล่าวซึ่งมักเป็นที่นิยมให้มี ลักษณะที่สม่ำเสมอกันทั่วพื้นที่ของมัน
19. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่รูปทรงของช่องเปิดดังกล่าวจะเลือกมาจากรูปทรงที่ เป็นรูปวงกลม, รูปไข่, รูปสี่เหลี่ยมผืนผ้า, รูปสี่เหลี่ยมจัตุรัส, รูปหลายเหลี่ยม, รูปวงรีและรูปช่องแคบ ยาว
20. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งจากที่กล่าวไปแลัวยังประกอบด้วยวิถีทางสำหรับให้ ความร้อนเพื่อให้ความร้อนแก่ห้องทำปฏิกิริยาและ/หรือแหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยา
21. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ท่อร่วมไอเสียดังกล่าวประกอบด้วยช่องเปิดจำนวน มากกว่าหนึ่งช่องซึ่งมักเป็นที่นิยมให้มีขนาดและรูปทรงเรขาคณิตใกล้เคียงกันเป็นสำคัญและใน ลักษณะที่พึงประสงค์มากที่สุดก็จะถูกกำหนดตำแหน่งให้หันเข้าหาช่องเปิดที่อยู่ในท่อแจกจ่าย
22. กรรมวิธีสำหรับปรับสภาพบริเวณอย่างน้อยส่วนหนึ่งของพื้นผิวของฐานรองที่มีความ กว้างมากกว่า 1 ฟุตและมีความยาวมากกว่า 2 ฟุตและ/หรือมีพื้นที่ผิว 2 ตารางฟุตหรือมากกว่านี้โดยที่ กรรมวิธีดังกล่าวประกอบด้วย - การจัดเตรียมบริเวณอย่างน้อยส่วนหนึ่งของพื้นผิวของฐานรองไว้ภายในเนื้อที่ว่าง ภายในของห้องดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยเนื้อที่ว่างภายใน, ท่อร่วมไอเสียและท่อแจกจ่ายโดยที่ ท่อแจกจ่ายดังกล่าวประกอบด้วยช่องเปิดจำนวนมากกว่าหนึ่งช่องและมีเส้นทางเชื่อมต่อของไหลเข้า กับเนื้อที่ว่างภายในดังกล่าวโดยผ่านทางช่องเปิดดังกล่าวและแหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ ทำงาน - การจ่ายพลังงานพลาสมาไปยังก๊าซสำหรับดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยก๊าซทำ ปฏิกิริยาและตัวเลือกที่ไม่บังคับคือก๊าซเติมแต่งในแหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงาน - การส่งก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานจากแหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้น ให้ทำงานผ่านท่อแจกจ่ายโดยที่ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานดังกล่าวจะไหลผ่านช่องเปิดเข้า ไปในเนื้อที่ว่างภายในดังกล่าว - การนำบริเวณอย่างน้อยส่วนหนึ่งของพื้นผิวดังกล่าวมาสัมผัสกับก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูก กระตุ้นให้ทำงานเพื่อปรับสภาพพื้นผิวโดยที่ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานดังกล่าวจะไหล ต่อเนื่องโดยตรงจากท่อแจกจ่ายไปยังพื้นผิวดังกล่าวและ - การขจัดก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานซึ่งผ่านการใช้งานและ/หรือผลิตผลที่ ระเหยได้ออกจากเนื้อที่ว่างภายในโดยผ่านท่อร่วมไอเสีย
23. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 โดยที่ก๊าซทำปฏิกิริยาดังกล่าวประกอบด้วย (i) ก๊าซที่มีส่วนประกอบของออกซิเจนซึ่งเลือกมาจากออกซิเจน, โอโซน, กรดไนตริก, ไนตรัสออกไซด์, ไนโตรเจนไดออกไซด์, คาร์บอนมอนอกไซด์, คาร์บอนไดออกไซด์, น้ำและ ส่วนผสมของสิ่งเหล่านี้ (ii) ก๊าซที่มีส่วนประกอบของฟลูออรีน,เพอร์ฟลูออโรคาร์บอน, ไฮโดรฟลูออโรคาร์บอน, ออกซีฟลูออโรคาร์บอน, ไฮโดรฟลูออโรคาร์บอนที่มีการเพิ่มออกซิเจน, ไฮโดรฟลูออโรอีเทอร์, ไฮโป ฟลูออไรด์, ฟลูออโรเพอรอกไซด์, ฟลูออโรไตรออกไซด์, ฟลูออโรเมมีน, ฟลูออโรไนไตรล์, ซัลฟอกซี ฟลูออไรด์และส่วนผสมของสารประกอบเหล่านี้ (iii) ก๊าซที่มีส่วนประกอบของคลอรีนซึ่งเลือกมาจาก BCl3, COCl2, HCl, Cl2, ClF3, NFxCl3-x โดยที่ x เป็นจำนวนเต็มในช่วงตั้งแต่ 0 ถึง 2, คลอโรคาร์บอน, คลอโรไฮโดรคาร์บอนและ ส่วนผสมของสารประกอบเหล่านี้
24. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 23 โดยที่ก๊าซที่มีส่วนประกอบของฟลูออรีนถูกเลือกมาจาก F2, HF, NF3, SF6, SF4, COF2, NOF, NOF, C3F3N3 และส่วนผสมของก๊าซเหล่านี้
25. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 โดยที่ก๊าซสำหรับดำเนินกรรมวิธีดังกล่าวประกอบด้วยก๊าซ เติมแต่ง
26. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 25 โดยที่ก๊าซเติมแต่งดังกล่าวคือก๊าซที่เลือกมาจาก H2, N2, He, Ne, Kr, Xe, Ar และส่วนผสมของสารประกอบเหล่านี้
27. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 โดยที่ฐานรองดังกล่าวมีลักษณะที่ขนาดกับก๊าซทำปฏิกิริยาที่ ถูกกระตุ้นให้ทำงานในระหว่างขั้นตอนการสัมผัส
28. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 โดยที่ฐานรองดังกล่าวมีลักษณะที่ตั้งฉากกับก๊าซทำปฏิกิริยา ที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานในระหว่างขั้นตอนการสัมผัส
29. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 โดยที่ฐานรองดังกล่าวประกอบด้วยแก้ว
30. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 โดยที่การสัมผัสดังกล่าวจะดำเนินการด้วยความดันที่ต่ำกว่า 760 ทอร์ (101.3 kPa)
31. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 โดยที่การปรับสภาพของพื้นผิวดังกล่าวคือการปรับสภาพที่ เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วยการออกซิเดชัน, รีดักชัน, การเพิ่มไนโตรด์, การเพิ่มคาร์บอน, การเพิ่ม ฮาโลเจน, การทำให้ขรุขระ, การทำให้เรียบ, การทำความสะอาดหรือการกัดรอยซึ่งไม่รวมถึงการปรับ สภาพด้วยการเคลือบทับชั้นในลักษณะใดๆ
32. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 ถึง 31 ข้อใดข้อหนึ่งซึ่งถูกดำเนินการโดยใช้ชุดอุปกรณ์ตาม ข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 21 ข้อใดข้อหนึ่ง
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH76162A true TH76162A (th) | 2006-03-02 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2006034130B1 (en) | Apparatus and process for surface treatment of substrate using an activated reactive gas | |
| US20250166978A1 (en) | Plasma abatement technology utilizing water vapor and oxygen reagent | |
| US6962679B2 (en) | Processes and apparatuses for treating halogen-containing gases | |
| TWI374494B (th) | ||
| TWI726527B (zh) | 有害氣體分解用反應器 | |
| KR101527507B1 (ko) | 텐덤형 플라즈마소스를 이용한 과불화탄소 분해용 플라즈마 장치 | |
| TWI400354B (zh) | 處理氣流的方法 | |
| TW201008632A (en) | Plasma reactor for eliminating waste gases and gas scrubber using the same | |
| TWI332416B (en) | Method and apparatus for treating exhaust gas | |
| US10293305B2 (en) | Device of purifying hydrogen fluoride in semiconductor process waste gas | |
| KR20230116036A (ko) | 반도체 제조 배기가스 처리 장치 | |
| US7220396B2 (en) | Processes for treating halogen-containing gases | |
| JP2008253903A (ja) | ガス処理方法およびガス処理装置 | |
| TH88220A (th) | อุปกรณ์และกระบวนการสำหรับการปฏิบัติพื้นผิวของซับสเทรตโดยใช้ก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้น | |
| KR100347746B1 (ko) | 고온 플라즈마를 이용한 프레온가스 분해장치 | |
| CN111587477A (zh) | 气体处理设备 | |
| JP2004261718A (ja) | 乾式同時脱硫脱硝装置 | |
| JP4707262B2 (ja) | 薄膜形成残渣処理装置 | |
| JP2000354733A5 (th) | ||
| TWI487565B (zh) | 廢氣處理方法及廢氣處理裝置 | |
| TWI337891B (en) | Oxygen feeding device and gas scrubber using the same | |
| KR20250170504A (ko) | 온실 가스를 처리하는 방법 및 이를 적용하는 시스템 | |
| JP2010276307A (ja) | 熱分解装置 | |
| TW557346B (en) | Method and device for disposing of exhaust gas | |
| JP2006116424A (ja) | 有害成分含有ガスの処理方法 |