TH76162A - ชุดอุปกรณ์และกรรมวิธีสำหรับปรับสภาพพื้นผิวของฐานรองโดยใช้ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงาน - Google Patents

ชุดอุปกรณ์และกรรมวิธีสำหรับปรับสภาพพื้นผิวของฐานรองโดยใช้ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงาน

Info

Publication number
TH76162A
TH76162A TH501004403A TH0501004403A TH76162A TH 76162 A TH76162 A TH 76162A TH 501004403 A TH501004403 A TH 501004403A TH 0501004403 A TH0501004403 A TH 0501004403A TH 76162 A TH76162 A TH 76162A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
activated
gas
internal space
gases
under
Prior art date
Application number
TH501004403A
Other languages
English (en)
Inventor
ที่สาม
การ์จ นายไดวาการ์
อาร์โนลด์ ครูส นายสตีเวน
แอนโธนี่ย์ โรเบิร์ตสัน นายอีริค
Original Assignee
นายธเนศ เปเรร่า
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า
แอร์ โพรดัคส์ แอนด์ เคมีคอลส์
Filing date
Publication date
Application filed by นายธเนศ เปเรร่า, นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า, แอร์ โพรดัคส์ แอนด์ เคมีคอลส์ filed Critical นายธเนศ เปเรร่า
Publication of TH76162A publication Critical patent/TH76162A/th

Links

Abstract

DC60 (19/12/48) เนื้อหาในที่นี้เป็นการอธิบายเกี่ยวกับชุดอุปกรณ์และกรรมวิธีสำหรับปรับสภาพบริเวณอย่างน้อย ส่วนหนึ่งของพื้นผิวของฐานรอง ในลักษณะอย่างหนึ่งนั้น ชุดอุปกรณ์ดังกล่าวจะมี ห้องดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยเนื้อที่ว่างภายใน, ฐานรองและท่อร่วมไอเสีย แหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยาโดยที่ก๊าซสำหรับดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยก๊าซทำปฏิกิริยา ตั้งแต่หนึ่งชนิดขึ้นไปและตัวเลือกที่ไม่บังคับคือก๊าซเติมแต่งจะถูกกระตุ้นให้ทำงาน โดยแหล่งพลังงาน ตั้งแต่หนึ่งแห่งขึ้นไปเพื่อให้ได้ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานและ ท่อแจกจ่ายซึ่งมีเส้นทางเชื่อมต่อของไหลเข้ากับและแหล่งจ่ายซึ่งประกอบด้วยช่องเปิดจำนวน มากกว่าหนึ่งช่องซึ่งส่งก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานเข้าไปในเนื้อที่ว่างภายในโดยที่ก๊าซทำ ปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานจะมีสัมผัสกับพื้นผิวและทำให้มีก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกระตุ้นให้ทำงานซึ่ง ผ่านการใช้งานและ/หรือผลิตผลที่ระเหยได้ซึ่งถูกดูดออกมาจากเนื้อที่ว่างภายในดังกล่าวโดยผ่านทางท่อ ร่วมไอเสีย เนื่อหาในที่นี้เป็นการอธิบายเกี่ยวกับชุดอุปกรณ์และกรรมวิธีสำหรับปรับสภาพบริเวณอย่างน้อย ส่วนหนึ่งของพื้นผิวของฐานรอง ในลักษณะอย่างหนึ่งนั้น ชุดอุปกรณ์ดังกล่าวจะมี ห้องดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยเนื้อที่วางภายใน, ฐานรองและท่อร่วมไอเสีย แหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยา โดยที่ก๊าซสำหรับดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยก๊าซทำปฏิกิริยา ตั้งแต่หนึ่งชนิดขึ้นไปและตัวเลือกที่ไม่บังคับคือก๊าซเติมแต่งจะถูกกระตุ้นให้ทำงาน โดยแหล่งพลังงาน ตั้งแต่หนึ่งแห่งขึ้นไปเพื่อให้ได้ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานและ ท่อแจกจ่ายซึ่งมีเส้นทางเชื่อมต่อของไหลเข้ากับและแหล่งจ่ายซึ่งประกอบด้วยช่องเปิดจำนวน มากกว่าหนึ่งช่องซึ่งส่งก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานเข้าไปในเนื้อที่ว่างภายในโดยที่ก๊าซทำ ปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานจะมีสัมผัสกับพื้นผิวและทำให้มีก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกระตุ้นให้ทำงานซึ่ง ผ่านการใช้งานและ/หรือผลิตผลที่ระเหยได้ซึ่งถูกดูดออกมาจากเนื้อที่ว่างภายในดังกล่าว โดยผ่านทางท่อ ร่วมไอเสีย

Claims (32)

1. ชุดอุปกรณ์สำหรับปรับสภาพบริเวณอย่างน้อยส่วนของพื้นผิดของฐานรองที่มีความ ยาวมากกว่า 2 ฟุตและมีความกว้างมากกว่า 1 ฟุตและ/หรือมีพื้นที่ผิว 2 ตารางฟุตหรือมากว่านี้โดยใช้ ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานโดยที่ชุดอุปกรณ์ดังกล่าวประกอบด้วย - ห้องดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยเนื้อที่ว่างภายในที่ได้รับการปรับแต่งเพื่อให้สามารถ รองรับพื้นผิวของฐานรองได้อย่างน้อยส่วนหนึ่งและท่อร่วมไอเสีย - แหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานโดยที่ก๊าซสำหรับดำเนินกรรมวิธีซึ่ง ประกอบด้วยก๊าชทำปฏิกิริยาและตัวเลือกที่ไม่บังคับคือก๊าซเติมแต่งจะถูกกระตุ้นให้ทำงานโดยแหล่ง พลังงานที่ประกอบด้วยแหล่งของพลาสมาสำหรับจัดเตรียมก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงาน ดังกล่าวและ - ท่อแจกจ่ายซึ่งมีเส้นทางเชื่อมต่อของไหลเข้ากับแหล่งจ่ายและเนื้อที่ว่างภายในดังกล่าว ได้โดยที่ท่อแจกจ่ายดังกล่าวประกอบด้วยช่องเปิดจำนวนมากกว่าหนึ่งช่องซึ่งส่งก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูก กระตุ้นให้ทำงานเข้าไปในเนื้อที่ว่างภายในและไปอยู่บนฐานรองโดยตรงและ โดยที่ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานจะมีเส้นทางเชื่อมต่อของไหลไปยังส่วนสัมผัส ของพื้นผิวเพื่อให้มีก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานซึ่งผ่านการใช้งานและ/หรือผลิตผลที่ระเหยได้ ซึ่งถูกดูดออกมาจากเนื้อที่ว่างภายในดังกล่าวโดยผ่านทางท่อร่วมไอเสีย
2. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่แหล่งของพลาสมาดังกล่าวจะถูกเลือกมาจากกลุ่มที่ ประกอบด้วยแหล่งของพลาสมาจากระยะไกล, แหล่งของพลาสมาที่อยู่ประจำตำแหน่งและการ ผสมผสานของสิ่งเหล่านี้และในลักษณะซึ่งเป็นทางเลือกที่ไม่บังคับก็จะได้รับการช่วยเหลือจากแหล่ง พลังงานความร้อนจากระยะไกล, แหล่งพลังงานเชิงเร่งปฏิกิริยา, แหล่งพลังงานความร้อนที่ อยู่ประจำ ตำแหน่ง, การยึดติดของอิเล็กตรอน, แหล่งพลังงานที่อาศัยโฟตอนและการผสมสานของสิ่งเหล่านี้
3. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ก๊าซทำปฏิกิริยาดังกล่าวประกอบด้วย (i) ก๊าซที่มีส่วนประกอบของออกซิเจนซึ่งเลือกมาจากออกซิเจน, โอโซน, กรดไนตริก, ไนตรัสออกไซด์, ไนโตรเจนไดออกไซด์, คาร์บอนมอนอกไซด์, คาร์บอนไดออกไซด์, น้ำและ ส่วนผสมของสิ่งเหล่านี้ (ii) ก๊าซที่มีส่วนประกอบของฟลูออรีน,เพอร์ฟลูออโรคาร์บอน, ไฮโดรฟลูออโรคาร์บอน, ออกซีฟลูออโรคาร์บอน, ไฮโดรฟลูออโรคาร์บอนที่มีการเพิ่มออกซิเจน, ไฮโดรฟลูออโรอีเทอร์, ไฮโป ฟลูออไรด์, ฟลูออโรเพอรอกไซด์, ฟลูออโรไตรออกไซด์, ฟลูออโรเมมีน, ฟลูออโรไนไตรล์, ซัลฟอกซี ฟลูออไรด์และส่วนผสมของสารประกอบเหล่านี้ (iii) ก๊าซที่มีส่วนประกอบของคลอรีนซึ่งเลือกมาจาก BCl3, COCl2, HCl, Cl2, ClF3, NFxCl3-x โดยที่ x เป็นจำนวนเต็มในช่วงตั้งแต่ 0 ถึง 2, คลอโรคาร์บอน, คลอโรไฮโดรคาร์บอนและ ส่วนผสมของสารประกอบเหล่านี้
4. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 3 โดยที่ก๊าซที่มีส่วนประกอบของฟลูออรีนถูกเลือกมาจาก F2, HF, NF3, SF6, SF4, COF2, NOF, NOF, C3F3N3 และส่วนผสมของก๊าซเหล่านี้
5. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ก๊าซสำหรับดำเนินกรรมวิธีดังกล่าวประกอบด้วยก๊าซ เติมแต่งซึ่งมักเป็นที่นิยมให้เลือกมาจาก H2, N2, He, Ne, Kr, Xe, Ar และส่วนผสมของสารประกอบ เหล่านี้
6. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ห้องดำเนินกรรมวิธีดังกล่าวมีส่วนประกอบเพิ่มเติม คือวิถีทางสำหรับปรับความดันเพื่อปรับความดันในการปฏิบัติงานของห้องให้มีค่าน้อยกว่า 760 ทอร์ (101.3 kPa)
7. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ท่อแจกจ่ายดังกล่าวมีจำนวน (N) ของช่องเปิดซึ่งมี พื้นที่ภาคตัดขวาง (Ao) และมีพื้นที่ภาคตัดขวาง ( Ac) และพื้นที่ภาคตัดขวางสูงสุดรวมทั้งหมดของช่อง เปิดก็จะถูกกำหนดโดย N * Ao < 0.49 * Ac
8. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ช่องเปิดแต่ละช่องมีผนังด้านข้างที่ปาดมุมเป็นมุม เธตา อย่างน้อย 20 ํ หรือมากว่านี้
9. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ช่องเปิดแต่ละช่องจากจำนวนมากกว่าหนึ่งช่องจะมี เส้นผ่าศูนย์กลาง (do) อย่างน้อย 0.1 มิลลิเมตร (4 มิล) ซึ่งในลักษณะที่พึงประสงค์ก็จะมีขนาดอย่างน้อย 0.5 มิลลิเมตร (20 มิล) ซึ่งในลักษณะที่พึงประสงค์ยิ่งขึ้นก็จะมีขนาดอย่างน้อย 1 มิลลิเมตร (0.04 นิ้ว) และอย่างมาก 50 มิลลิเมตร (1.95 นิ้ว) ซึ่งในลักษณะที่พึงประสงค์ก็จะมีขนาดอย่างมาก 20 มิลลิเมตร (0.78 นิ้ว) และในลักษณะที่พึงประสงค์มากที่สุดก็จะมีขนาด 5 มิลลิเมตร (0.2 นิ้ว)
10. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ท่อแจกจ่ายจะมีจำนวนช่องเปิดอยู่ในช่วงตั้งแต่ 2 ถึง 500 ซึ่งในลักษณะที่พึงประสงค์ก็จะมีจำนวนตั้งแต่ 5 ถึง 100 ช่องซึ่งในลักษณะที่พึงประสงค์มากที่สุด ก็จะมีจำนวนตั้งแต่ 10 ถึง 50 ช่อง
11. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ท่อแจกจ่ายดังกล่าวถูกจัดเรียงให้ขนานกับพื้นผิวที่จะ ได้รับการปรับสภาพ
12. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 11 โดยที่ช่องเปิดแต่ละช่องจะมีผนังด้านข้างที่มีการ ปาดมุมเป็นมุม อัลฟา ซึ่งช่องเปิดแต่ละช่องจะเว้นระยะห่างกันเป็นระยะทาง x และท่อแจกจ่ายก็จะถูกเว้น ระยะห่างจากพื้นผิวที่จะปรับสภาพเป็นระยะทาง y โดยที่ x/(2*tan อัลฟา) น้อยกว่าหรือเท่ากับ y
13. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 12 โดยที่ท่อแจกจ่ายดังกล่าวถูกเว้นระยะห่างจากพื้นผิวที่จะ ปรับสภาพเป็นระยะทาง y ซึ่งมีขนาดในช่องตั้งแต่ 1 ถึง 150 เซนติเมตร (0.4 ถึง 60 นิ้ว) ซึ่งในลักษณะ ที่พึงประสงค์ก็จะอยู่ในช่วงตั้งแต่ 1 ถึง 50 เซนติเมตร (0.4 ถึง 20 นิ้ว) และในลักษณะที่พึงประสงค์มาก ที่สุดก็จะอยู่ในช่วงตั้งแต่ 1 ถึง 20 เซนติเมตร (0.4 ถึง 8 นิ้ว)
14. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 12 โดยที่ช่องเปิดแต่ละช่องจะเว้นระยะห่างกันเป็นระยะทาง x ซึ่งมีขนาดในช่วงตั้งแต่ 0.1 ถึง 250 เซนติเมตร (0.04 -98) นิ้ว) ซึ่งในลักษณะที่พึงประสงค์ก็จะอยู่ ในช่วงตั้งแต่ 0.5 ถึง 85 เซนติเมตร (0.2 - 33 นิ้ว) และในลักษณะที่พึงประสงค์มากที่สุดก็จะอยู่ในช่วง ตั้งแต่ 5 ถึง 25 เซนติเมตร (2 - 10 นิ้ว)
15. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 13 โดยที่ช่องเปิดแต่ละช่องจะเว้นระยะห่างกันเป็นระยะทาง x ซึ่งมีขนาดในช่วงตั้งแต่ 0.1 ถึง 250 เซนติเมตร (0.04 -98) นิ้ว) ซึ่งในลักษณะที่พึงประสงค์ก็จะอยู่ ในช่วงตั้งแต่ 0.5 ถึง 85 เซนติเมตร (0.2 - 33 นิ้ว) และในลักษณะที่พึงประสงค์มากที่สุดก็จะอยู่ในช่วง ตั้งแต่ 5 ถึง 25 เซนติเมตร (2 - 10 นิ้ว)
16. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ช่องเปิดจำนวนมากกว่าหนึ่งช่องถูกกระจายออกไป เป็นระยะทางโดยประมาณที่สม่ำเสมอทั่วพื้นผิวของช่องแจกจ่ายที่อยู่ใกล้กับพื้นผิวที่จะปรับสภาพมาก ที่สุด
17. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 ห่รือ 16 โดยที่ช่องแจกจ่ายดังกล่าวเป็นท่อที่มีรูปทรงเป็น หลอดและมีการจัดทำช่องเปิดไว้ในแนวที่ขนานกับแกนหลอดบนด้านใดด้านหนึ่งของมันเป็นสำคัญ
18. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 ห่รือ 16 โดยจะมีการจัดเตรียมผนังด้านข้างของช่องแจกจ่าย ไว้ในรูปของแผ่นประกบและโดยมีการจัดทำช่องเปิดไว้ในแผ่นประกบดังกล่าวซึ่งมักเป็นที่นิยมให้มี ลักษณะที่สม่ำเสมอกันทั่วพื้นที่ของมัน
19. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่รูปทรงของช่องเปิดดังกล่าวจะเลือกมาจากรูปทรงที่ เป็นรูปวงกลม, รูปไข่, รูปสี่เหลี่ยมผืนผ้า, รูปสี่เหลี่ยมจัตุรัส, รูปหลายเหลี่ยม, รูปวงรีและรูปช่องแคบ ยาว
20. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งจากที่กล่าวไปแลัวยังประกอบด้วยวิถีทางสำหรับให้ ความร้อนเพื่อให้ความร้อนแก่ห้องทำปฏิกิริยาและ/หรือแหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยา
21. ชุดอุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ท่อร่วมไอเสียดังกล่าวประกอบด้วยช่องเปิดจำนวน มากกว่าหนึ่งช่องซึ่งมักเป็นที่นิยมให้มีขนาดและรูปทรงเรขาคณิตใกล้เคียงกันเป็นสำคัญและใน ลักษณะที่พึงประสงค์มากที่สุดก็จะถูกกำหนดตำแหน่งให้หันเข้าหาช่องเปิดที่อยู่ในท่อแจกจ่าย
22. กรรมวิธีสำหรับปรับสภาพบริเวณอย่างน้อยส่วนหนึ่งของพื้นผิวของฐานรองที่มีความ กว้างมากกว่า 1 ฟุตและมีความยาวมากกว่า 2 ฟุตและ/หรือมีพื้นที่ผิว 2 ตารางฟุตหรือมากกว่านี้โดยที่ กรรมวิธีดังกล่าวประกอบด้วย - การจัดเตรียมบริเวณอย่างน้อยส่วนหนึ่งของพื้นผิวของฐานรองไว้ภายในเนื้อที่ว่าง ภายในของห้องดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยเนื้อที่ว่างภายใน, ท่อร่วมไอเสียและท่อแจกจ่ายโดยที่ ท่อแจกจ่ายดังกล่าวประกอบด้วยช่องเปิดจำนวนมากกว่าหนึ่งช่องและมีเส้นทางเชื่อมต่อของไหลเข้า กับเนื้อที่ว่างภายในดังกล่าวโดยผ่านทางช่องเปิดดังกล่าวและแหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ ทำงาน - การจ่ายพลังงานพลาสมาไปยังก๊าซสำหรับดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยก๊าซทำ ปฏิกิริยาและตัวเลือกที่ไม่บังคับคือก๊าซเติมแต่งในแหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงาน - การส่งก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานจากแหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้น ให้ทำงานผ่านท่อแจกจ่ายโดยที่ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานดังกล่าวจะไหลผ่านช่องเปิดเข้า ไปในเนื้อที่ว่างภายในดังกล่าว - การนำบริเวณอย่างน้อยส่วนหนึ่งของพื้นผิวดังกล่าวมาสัมผัสกับก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูก กระตุ้นให้ทำงานเพื่อปรับสภาพพื้นผิวโดยที่ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานดังกล่าวจะไหล ต่อเนื่องโดยตรงจากท่อแจกจ่ายไปยังพื้นผิวดังกล่าวและ - การขจัดก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานซึ่งผ่านการใช้งานและ/หรือผลิตผลที่ ระเหยได้ออกจากเนื้อที่ว่างภายในโดยผ่านท่อร่วมไอเสีย
23. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 โดยที่ก๊าซทำปฏิกิริยาดังกล่าวประกอบด้วย (i) ก๊าซที่มีส่วนประกอบของออกซิเจนซึ่งเลือกมาจากออกซิเจน, โอโซน, กรดไนตริก, ไนตรัสออกไซด์, ไนโตรเจนไดออกไซด์, คาร์บอนมอนอกไซด์, คาร์บอนไดออกไซด์, น้ำและ ส่วนผสมของสิ่งเหล่านี้ (ii) ก๊าซที่มีส่วนประกอบของฟลูออรีน,เพอร์ฟลูออโรคาร์บอน, ไฮโดรฟลูออโรคาร์บอน, ออกซีฟลูออโรคาร์บอน, ไฮโดรฟลูออโรคาร์บอนที่มีการเพิ่มออกซิเจน, ไฮโดรฟลูออโรอีเทอร์, ไฮโป ฟลูออไรด์, ฟลูออโรเพอรอกไซด์, ฟลูออโรไตรออกไซด์, ฟลูออโรเมมีน, ฟลูออโรไนไตรล์, ซัลฟอกซี ฟลูออไรด์และส่วนผสมของสารประกอบเหล่านี้ (iii) ก๊าซที่มีส่วนประกอบของคลอรีนซึ่งเลือกมาจาก BCl3, COCl2, HCl, Cl2, ClF3, NFxCl3-x โดยที่ x เป็นจำนวนเต็มในช่วงตั้งแต่ 0 ถึง 2, คลอโรคาร์บอน, คลอโรไฮโดรคาร์บอนและ ส่วนผสมของสารประกอบเหล่านี้
24. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 23 โดยที่ก๊าซที่มีส่วนประกอบของฟลูออรีนถูกเลือกมาจาก F2, HF, NF3, SF6, SF4, COF2, NOF, NOF, C3F3N3 และส่วนผสมของก๊าซเหล่านี้
25. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 โดยที่ก๊าซสำหรับดำเนินกรรมวิธีดังกล่าวประกอบด้วยก๊าซ เติมแต่ง
26. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 25 โดยที่ก๊าซเติมแต่งดังกล่าวคือก๊าซที่เลือกมาจาก H2, N2, He, Ne, Kr, Xe, Ar และส่วนผสมของสารประกอบเหล่านี้
27. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 โดยที่ฐานรองดังกล่าวมีลักษณะที่ขนาดกับก๊าซทำปฏิกิริยาที่ ถูกกระตุ้นให้ทำงานในระหว่างขั้นตอนการสัมผัส
28. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 โดยที่ฐานรองดังกล่าวมีลักษณะที่ตั้งฉากกับก๊าซทำปฏิกิริยา ที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานในระหว่างขั้นตอนการสัมผัส
29. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 โดยที่ฐานรองดังกล่าวประกอบด้วยแก้ว
30. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 โดยที่การสัมผัสดังกล่าวจะดำเนินการด้วยความดันที่ต่ำกว่า 760 ทอร์ (101.3 kPa)
31. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 โดยที่การปรับสภาพของพื้นผิวดังกล่าวคือการปรับสภาพที่ เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วยการออกซิเดชัน, รีดักชัน, การเพิ่มไนโตรด์, การเพิ่มคาร์บอน, การเพิ่ม ฮาโลเจน, การทำให้ขรุขระ, การทำให้เรียบ, การทำความสะอาดหรือการกัดรอยซึ่งไม่รวมถึงการปรับ สภาพด้วยการเคลือบทับชั้นในลักษณะใดๆ
32. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 22 ถึง 31 ข้อใดข้อหนึ่งซึ่งถูกดำเนินการโดยใช้ชุดอุปกรณ์ตาม ข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 21 ข้อใดข้อหนึ่ง
TH501004403A 2005-09-20 ชุดอุปกรณ์และกรรมวิธีสำหรับปรับสภาพพื้นผิวของฐานรองโดยใช้ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงาน TH76162A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH76162A true TH76162A (th) 2006-03-02

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2006034130B1 (en) Apparatus and process for surface treatment of substrate using an activated reactive gas
US20250166978A1 (en) Plasma abatement technology utilizing water vapor and oxygen reagent
US6962679B2 (en) Processes and apparatuses for treating halogen-containing gases
TWI374494B (th)
TWI726527B (zh) 有害氣體分解用反應器
KR101527507B1 (ko) 텐덤형 플라즈마소스를 이용한 과불화탄소 분해용 플라즈마 장치
TWI400354B (zh) 處理氣流的方法
TW201008632A (en) Plasma reactor for eliminating waste gases and gas scrubber using the same
TWI332416B (en) Method and apparatus for treating exhaust gas
US10293305B2 (en) Device of purifying hydrogen fluoride in semiconductor process waste gas
KR20230116036A (ko) 반도체 제조 배기가스 처리 장치
US7220396B2 (en) Processes for treating halogen-containing gases
JP2008253903A (ja) ガス処理方法およびガス処理装置
TH88220A (th) อุปกรณ์และกระบวนการสำหรับการปฏิบัติพื้นผิวของซับสเทรตโดยใช้ก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้น
KR100347746B1 (ko) 고온 플라즈마를 이용한 프레온가스 분해장치
CN111587477A (zh) 气体处理设备
JP2004261718A (ja) 乾式同時脱硫脱硝装置
JP4707262B2 (ja) 薄膜形成残渣処理装置
JP2000354733A5 (th)
TWI487565B (zh) 廢氣處理方法及廢氣處理裝置
TWI337891B (en) Oxygen feeding device and gas scrubber using the same
KR20250170504A (ko) 온실 가스를 처리하는 방법 및 이를 적용하는 시스템
JP2010276307A (ja) 熱分解装置
TW557346B (en) Method and device for disposing of exhaust gas
JP2006116424A (ja) 有害成分含有ガスの処理方法