TH87938A - วิธีสำหรับการยึดติดที่ปรับปรุงดีขึ้นของวัสดุพอลิเมอร์กับพื้นผิวหน้าของทองแดงหรือโลหะผสมของทองแดง - Google Patents
วิธีสำหรับการยึดติดที่ปรับปรุงดีขึ้นของวัสดุพอลิเมอร์กับพื้นผิวหน้าของทองแดงหรือโลหะผสมของทองแดงInfo
- Publication number
- TH87938A TH87938A TH601004322A TH0601004322A TH87938A TH 87938 A TH87938 A TH 87938A TH 601004322 A TH601004322 A TH 601004322A TH 0601004322 A TH0601004322 A TH 0601004322A TH 87938 A TH87938 A TH 87938A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- copper
- solution
- ferric
- concentration
- acid
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (02/11/49) สิ่งประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับวิธีการบำบัดพื้นผิวหน้าของทองแดงหรือโลหะผสมของทองแดง สำหรับการเกิดพันธะแน่นหนากับซับสเทรทที่เป็นพอลิเมอร์ ตัวอย่างเช่น หน้ากากโลหะบัดกรีที่พบ ในแผงวงจรพิมพ์ที่มีหลายชั้น โดยทั่ว ๆ ไป ซับสเทรทเป็นอุปกรณ์-กึ่งตัวนำ กรอบตะกั่ว หรือ แผงวงจรพิมพ์ สิ่งประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับวิธีการบำบัดพื้นผิวหน้าของทองแดงหรือโลหะผสมของทองแดง สำหรับการเกิดพันธะแน่นหนากับซับสเทรทที่เป็นพอลิเมอร์ ตัวอย่างเช่น หน้ากากโลหะบัดกรีที่พบ ในแผงวงจรพิมพ์ที่มีหลายชั้น โดยทั่ว ๆ ไป ซับสเทรทเป็นอุปกรณ์-กึ่งตัวนำ กรอบตะกั่ว หรือ แผงวงจรพิมพ์
Claims (13)
1. สารละลายเพื่อบำบัดพื้นผิวหน้าของทองแดงหรือโลหะของทองแดง เพื่อที่ต่อมา สามารถเกิดพันธะ แน่นหนาระหว่างพื้นผิวหน้าของทองแดงหรือโลหะผสมของทองแดง และ ซับสเทรทที่เป็นพอลิเมอร์ โดย การสัมผัสพื้นผิวหน้าของทองแดงกับสารละลายซึ่งประกอบรวมด้วย (i) แหล่งของเฟอร์ริค ไอออน (ii) บัฟเฟอร์ของกรดอินทรีย์ และเกลือของมันที่สัมพันธ์กัน (iii) แหล่งของแฮไลด์ ไอออน (iv) ตัวเร่ง ซึ่งเลือกตัวเร่งจากหมู่ซึ่งประกอบรวมด้วยยูเรีย ไธโอยูเรีย เกลือกูแอนิดิเนียม ซัลโฟซาลิซิลิคแอซิด ไนแอซีน แอมีด ไซยาเนท ไธโอไซยาเนต ไทรแอโซล เบนโซไทรแอโซล อิมิแดโซล เบนซิ มิแดโซล เททราโซล ไฮโซไซยาเนท และ อะมิโนแอซิด
2. สารละลายตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งเลือกแหล่งของเฟอร์ริค ไอออนจากหมู่ซึ่งประกอบรวมด้วย เฟอร์ ริค คลอไรด์ เฟอร์ริค ไนเทรท เฟอร์ริค ซัลเฟท เฟอร์ริค โบรไมด์ เฟอร์ริค แอซีเทท เฟอร์ริค ไฮด รอกไซด์
3. สารละลายตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่งความเข้มข้นของเฟอร์ริค ไอออนอยู่ในช่วง 5 -50 ก./ลิตร
4. สารละลายตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่งเลือกบัฟเฟอร์จากหมู่ซึ่งประกอบรวมด้วย ฟอร์มิค แอซิด / โซเดียม ฟอร์เม กรดทาร์ทาริค / โพแทสเซียม- โซเดียม ทาร์เทรก ซิทริค แอซิด/ โซเดียม ซิเทรท แอซีติกแอซิด / โซเดียม แอซีเทท และ กรดออกซาลิค/โซเดียม ออกซาเลท
5. สารละลายตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่งความเข้มข้นของบัฟเฟอร์อยู่ในช่วง 5 - 200 ก./ล. สำหรับกรด และ 1- 200 ก./ล. สำหรับเกลือของมันที่สัมพันธ์กัน
6. สารละลายตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่งความเข้มข้นของตัวเร่งอยู่ในช่วง 0,5 - 30 ก./ล มี่ควรใช้มากขึ้น 1-10 ก./ล.
7. สารละลายตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่งความเข้นข้นของแฮไลด์ ไอออนอยู่ในช่วง 5 -30 ก./ล.
8. วิธีเพื่อบำบัดพื้นผิวหน้าของทองแดงหรือโลหะผสมของทองแดง เพื่อที่ให้สามารถเกิดพันธะแน่นหนา ต่อมา ระหว่างพื้นผิวหน้าของทองแดงหรือโลหะผสมทองแดง และ ซับสเทรทที่เป็นพอลิเมอร์ โดยการ สัมผัสพื้นผิวหน้าของทองแดงกับสารละลาย ตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อ 1-12
9. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ซึ่งอุณหภูมิอยู่ระหว่าง 20-60 ํซ.
10. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ซึ่งเวลาในการบำบัดอยู่ระหว่าง 15 และ 300 วินาที
11. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 9 และ 10 ซึ่งสเปรย์สารละลายลงบนซับสเทรทที่มีพื้นผิวหน้าทองแดงหรือโลหะ ผสมของทองแดง ที่ความดันควรเป็น 1-10 บาร์
12. วิธีตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่งรักษาความเข้มข้นของไอออนของทองแดงให้คงที่ ในช่วงระหว่าง 5-60 ก./ล. Cu2+ การนำส่วนหนึ่งของสารละลายการกัดกร่อนออกจากกรรมวิธี (ถ่ายออก) และแทนที่มันโดยสารละลายการกัดกร่อนใหม่ (สารป้อน) และซึ่งคำนวนปริมาณของสารละลายการกัด กร่อน ที่จะเติมใหม่ ตามสมการต่อไปนี้ (สูตรเคมี) ซึ่ง C คือความเข้มข้นของ Cu2+ ในสถานะคงตัวเป็น ก./ล. B คืออัตราการไหลเป็น ล./ม.2 พื้นผิวหน้าของ Cu2+ D (ปริมาณกัดกร่อนของ Cu ใน ก./ม.2) การละลายของ Cu โดยปฏิกิริยาการกัดกร่อน
13. การใช้ของสารละลายตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ สำหรับการบำบัดแผงวงจรพิมพ์ ซึ่งมีชั้นของทองแดง สำหรับการเกิดพันธะของสารยึดติดที่มั่นคงระหว่างแผงวงจรพิมพ์ และหน้ากากบัดกรี ที่ติดกับมัน
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH87938A true TH87938A (th) | 2007-12-20 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP3680363B1 (en) | Microetching agent for copper, copper surface roughening method and wiring board production method | |
| CN1071805C (zh) | 一种在金属表面上形成银镀层的方法 | |
| US8828131B2 (en) | Catalyst application solution, electroless plating method using same, and direct plating method | |
| JP4881916B2 (ja) | 表面粗化剤 | |
| EP2628824B1 (en) | Method for electroless nickel-phosphorous alloy deposition onto flexible substrates | |
| ES2348361T3 (es) | Método para adhesión mejorada de materiales polímeros a superficies de cobre o aleaciones de cobre. | |
| CN1175285A (zh) | 印制电路板的制造 | |
| KR101462286B1 (ko) | 에칭액 | |
| WO2003000954A1 (en) | Surface treatment agent for copper and copper alloy | |
| JP5599506B2 (ja) | 銅および銅合金のマイクロエッチングのための組成物および方法 | |
| TW200840883A (en) | Production method of substrate and copper surface treatment agent used therein | |
| JP2927142B2 (ja) | 無電解金めっき浴及び無電解金めっき方法 | |
| EP2514853B1 (en) | Coating-forming liquid composition and coating-forming method therewith | |
| TWI444505B (zh) | 供銅及銅合金微蝕刻之組合物及方法 | |
| TW200304348A (en) | Methods and compositions for oxide production on copper | |
| JP2002105662A (ja) | 銅及び銅合金の表面処理剤及び表面処理方法 | |
| EP1920026B1 (en) | Improved microetching solution | |
| CN114833491A (zh) | 一种铜面选择性有机保焊剂及其使用方法 | |
| JPH11177218A (ja) | 電子回路用金属面具備部品及びその表面保護剤 | |
| WO2006112215A1 (ja) | めっき基材 | |
| JP5020312B2 (ja) | 銅表面のはんだ付け性を向上する方法 | |
| EP4215642A1 (en) | Compostion for depositing a palladium coating on an activated copper-coated substrate | |
| TW202208682A (zh) | 無電解鍍鎳浴 | |
| JP2008214703A (ja) | 無電解金めっき液 | |
| EP4606929A1 (en) | Etching solution, replenishment solution, and method for forming copper wiring |