TR201807760T4 - Halojensiz alev geciktirici polimerler. - Google Patents

Halojensiz alev geciktirici polimerler. Download PDF

Info

Publication number
TR201807760T4
TR201807760T4 TR2018/07760T TR201807760T TR201807760T4 TR 201807760 T4 TR201807760 T4 TR 201807760T4 TR 2018/07760 T TR2018/07760 T TR 2018/07760T TR 201807760 T TR201807760 T TR 201807760T TR 201807760 T4 TR201807760 T4 TR 201807760T4
Authority
TR
Turkey
Prior art keywords
flame retardant
polymer
meth
monomer
polyphosphate
Prior art date
Application number
TR2018/07760T
Other languages
English (en)
Inventor
Ta-Yuan Lai John
Chou Ti
Original Assignee
Lubrizol Advanced Mat Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lubrizol Advanced Mat Inc filed Critical Lubrizol Advanced Mat Inc
Publication of TR201807760T4 publication Critical patent/TR201807760T4/tr

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/49Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/51Phosphorus bound to oxygen
    • C08K5/53Phosphorus bound to oxygen bound to oxygen and to carbon only
    • C08K5/5313Phosphinic compounds, e.g. R2=P(:O)OR'
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/06Phosphorus compounds without P—C bonds
    • C07F9/08Esters of oxyacids of phosphorus
    • C07F9/09Esters of phosphoric acids
    • C07F9/091Esters of phosphoric acids with hydroxyalkyl compounds with further substituents on alkyl
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3808Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3826Acyclic unsaturated acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3834Aromatic acids (P-C aromatic linkage)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/02Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3467Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3477Six-membered rings
    • C08K5/3492Triazines
    • C08K5/34924Triazines containing cyanurate groups; Tautomers thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K21/00Fireproofing materials
    • C09K21/14Macromolecular materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D39/00Filtering material for liquid or gaseous fluids
    • B01D39/14Other self-supporting filtering material ; Other filtering material
    • B01D39/20Other self-supporting filtering material ; Other filtering material of inorganic material, e.g. asbestos paper, metallic filtering material of non-woven wires
    • B01D39/2068Other inorganic materials, e.g. ceramics
    • B01D39/2082Other inorganic materials, e.g. ceramics the material being filamentary or fibrous
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/18Fireproof paints including high temperature resistant paints

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Fireproofing Substances (AREA)

Abstract

Alev geciktirici polimerler halinde polimerize edilebilen halojenlenmemiş monomerler ve monomerleri ve polimerleri hazırlamak için işlemler açıklanmaktadır. Bir a) (met)akrilik asit, (met)akrilamid veya vinilbenzenin birinden elde edilen bir grup, b) bir polifosfat kısmı ve c) bir amin türü içerebilen bir monomer bileşimi sunulmaktadır. Monomer bileşiminde, (a)'nın etilenik olarak doymamış monomeri doğrudan veya bir bağlayıcı grup vasıtasıyla b)'nin polifosfat kısmına kovalent olarak bağlanarak öncü monomer birimi oluşturulur. c)'nin amin türü öncü monomer birimiyle kompleks halindedir. Polimer monomer bileşiminin homopolimeri olabilir veya değişen a), b) ve c)'ye sahip monomer bileşiminin kopolimeri olabilir. Polimer bir polifosfat kısmına kovalent olarak bağlı olmayan etilenik olarak doymamış monomerler de içerebilir.

Description

TARIFNAME HALOJENSIZ ALEV GECIKTIRICI POLIMERLER Açiklama BULUSA DAIR BILINEN HUSUSLAR Açiklanan teknoloji azotla kompleks halinde fosfor içeren, halojen olmayan alev geciktirici bilesimlere iliskindir.
Halojenler, yani Ilor, klorür, brom ve iyot ates geciktirici bilesimlerde kullanilabilir.
Ancak, halojenler çok aktif kiinyasal elementlerdir ve bozunma üzerine dioksin ve difuran gibi toksik maddeler üretebilirler. Bu maddeler insan vücudunda uzun sürelerde birikebilir ve çevresel hormon problemlerine neden olabilir. Ayrica flor, klorür ve bromun özellikle ciddi ozon incelmesine neden oldugu bilinmektedir. Bu nedenle, alev geciktiriciler olarak veya baska uygulamalarda halojenlerin kullanimi giderek daha fazla düzenlemeye tabi tutulmaktadir. Dolayisiyla halojenlenmemis alev geciktiricilere ihtiyaç vardir.
Alev geciktirici bir bilesim elde etmenin bir usulü bilesime fosfor katmaktir. Örnegin 25 malzemeyi asagidaki genel formülü haiz fosforik asit etilenik esterlerle asilamanin bir usulü açiklanmaktadir: CHz=C-C-D-Rz-O~P 111 o 0 OH esterin asi derecesinin%20`den az veya buna esit oldugu açiklanmaktadir.
Benzer bir sekilde, 14 Ekim 2010 tarihli, Sugiyama ve digerlerine ait ABD Yayini No. üzerine asilamak için bir usul açiklanmaktadir. Usul, fosfor içeren bilesigin baglanabildigi radikaller yaratmak için lifîn isinlanmasina dayanir. alev geciktirici bir madde ve azot tipi bir alev geciktirici karisimini içeren alev geciktirici katki maddeleri açiklanmaktadir. Benzer bir sekilde, CN 102071032”de fosfor içeren ve azot içeren alev geciktiricilerin kombinasyon halinde kullanimi açiklanmaktadir. Bu yayinlarda sadece tribazik fosforik asit içeren bilesikler açiklanmakta ve bilesiklerin polimerize edilinesi açiklanmamaktadir.
Kauçukla modifiye edilmis bir vinil reçinesi, bir polifenilen eter reçinesi, bir siklik alkil fosfat bilesigi ve bir aromatik fosfat ester içeren polimer bilesimleri 9 Kasim 20109da yayimlanan, Alim ve digerlerine ait ABD Patenti No. 7,829,629”da açiklanmaktadir. Benzer bir sekilde 23 Agustos 2007”de yayimlanan, Cottrell ve digerlerine ait ABD Yayini No. birimlerden olusan alev geciktirici fosfor içeren polimerler açiklanmaktadir. Yukarida sözü edilen referanslarin hiçbirinde monomerlerin bir amin türüyle kompleks halinde oldugu bir polimer açiklanmamaktadir. Bu polimerler son derece asidik ve çesitli substratlara zarar verici olacak ve dolayisiyla tasimada sorun yaratacaktir.
Yeni, halojenlenmemis alev geciktiricilere ihtiyaç vardir.
BULUSUN ÖZETI Bulus sahipleri polimerize edilerek halojenlenmemis alev geciktirici polimerlere dönüstürülebilen alev geciktirici (FR) monomerler kesfettiler.
Dolayisiyla bu bulus asagidakileri içeren alev geciktirici bir monomer bilesimine iliskindir: a) bir (met)akrilik asit, (met)akrilamid veya vinilbenzenin birinden elde edilen bir grup, b) mon0-, di- veya trifosfat veya mono- ve/veya difsfonat içeren bir polifosfat kismi ve c) guanil üre; burada a) dogrudan veya baglayici bir grup vasitasiyla kovalent olarak b)`ye baglanarak bir öncü monomer birimi olusturur ve burada (0) öncü monoiner biriminde b)°nin kovalent olarak bagli polifosfat kismiyla kompleks halindedir.
Bir düzenlemede, alev geciktirici monomer bilesimi, öncü monomer birimi amin türüyle, yani guanil üreyle reaksiyona sokularak üretilebilir.
Bulusun baska bir yönüne göre, alev geciktirici bir polimer sunulmaktadir. Alev geciktirici polimer, alev geciktirici monomer bilesimine esdeger, yani bu bilesimden elde edilen alev geciktirici monomerik birimlerin bir homopolimeri veya degisen a), b) ve c)”ye sahip alev geciktirici monomer bilesimlerine esdeger monomerik birimlerin bir kopolimeri olabilir.
Dolayisiyla bu bulus ayni zamanda yukarida açiklandigi gibi alev geciktirici monomer bilesimine esdeger monomer birimleri içeren bir lates polimerinin sulu bir dispersiyonuna iliskindir.
Bir düzenlemede, alev geciktirici polimer ayrica, bir polifosfat kismina kovalent olarak bagli olmayan etilenik olarak doymamis monomerlere esdeger monomerik biriinler içerebilir. Böyle bir düzenlemede, polimerdeki monomerlerin en az %20”si, bulusun en basit yönünü olusturan yeni alev geciktirici monomer bilesimlerine esdeger monomerik birimlerdir ve polimerdeki monomerlerin %01 ila %805i bir polifofat kismina kovalent olarak bagli olmayan etilenik olarak doymamis inonomerlere esdeger monomerik birimler olabilir. Böyle bir kopolimer agirlikça en az %1 P içerebilir ve sayisal ortalama molekül agirligi (Mn) en az 1000 g/moldür.
Bulusun baska bir düzenlemesinde, alev geciktirici polimerdeki monomerlerin en az monomerlere esdeger monomerik birimler ile bulusun en basit yönüne uygun alev geciktirici monomer bilesimlerine esdeger monomerik birimlerin bir kombinasyonunu içerebilir.
Bulusun bir yönüne göre, alev geciktirici polimer birkaç yolla üretilebilir.
Bir düzenlemede, en basit yöne uygun alev geciktirici monomer bilesimi serbest radikal polimerizasyonuna tabi tutularak bir alev geciktirici polimer olusturulabilir.
Baska bir düzenlemede, alev geciktirici polimer, öncü monomer birimleri serbest radikallerle polimerize edilerek ve sonra polimerize edilmis ürün amin türüyle, yani guanil üreyle reaksiyona sokularak üretilebilir.
Islemin her bir düzenleinesinde, bir polifosfat kismina kovalent olarak bagli olinayan etilenik olarak doymamis monomer birimleri serbest radikal polimerizasyonuna dâhil edilebilir.
Bulusun baska bir yönüne göre, alev geciktirici bilesimler sunulmaktadir. Alev geciktirici bilesim baska katki maddeleriyle birlikte alev geciktirici polimerler içerebilir. Özellikle, alev geciktirici bilesimlere alev geciktirici polimerle birlikte alev geciktirici katki maddeleri gibi katki maddeleri ve baska polimerler karistirilabilir.
Bulusun tercih edilen düzenlemeleri bagimli istemlerden anlasilinaktadir.
BULUSUN AYRINTILI AÇIKLAMASI Tercih edilen çesitli özellikler ve düzenlemeler açiklanacaktir.
Tarifnainede ve istemlerde verilen bütün araliklar ve oran sinirlari herhangi bir sekilde kombine edilebilir. Aksi özellikle belirtilmedikçe “bir”in bir ve birden fazlayi içerebildigi ve tekil bir maddeye referansin çogul olarak maddeyi içerebildigi takdir edilecektir. 100 payi için bilesenin agirlikça pay sayisini belirtmektedir.
Burada, bir polifosfat kismi spesifik olarak üç oksijen iyonuna bagli bir fosfor atomu (fosfonat) veya dört oksijen iyonuna bagli bir fosfor atomu (fosfat) içeren bir grubu belirtmek için kullanilmaktadir. Bulusa göre, polifosfat kismi bir mono-, di-, tri veya daha yüksek fosfat veya bir mono- ve/Veya di-fosfonat ve özellikle bir monofosfat, difosfat, trifosfat veya monofosfonat içerir. Tercihen polifosfat kismi bir m0n0-, di- veya trifosfattir.
Burada “hidrokarbil sübstitüenti” veya “hidrokarbil grubu” terimi, bu alanda uzman olanlarin iyi bildigi normal anlaminda kullanilmaktadir. Spesifik olarak, molekülün geri kalanina dogrudan baglanan bir karbon atomuna ve esas olarak hidrokarbon karakterine sahip bir grubu belirtmektedir. Hidrokarbil gruplarinin örnekleri arasinda asagidakiler yer (i) hidrokarbon sübstitüentleri, yani alifatik (örnegin alkil veya alkenil), alisiklik (örnegin sikloalkil, sikloalkenil) sübstitüentleri ve aromatik, alifatik ve alisiklik sübstitüsyonlu aromatik sübstitüentlerin yani sira halkanin molekülün baska bir bölüinü vasitasiyla tamamlandigi (örnegin iki sübstitüent birlikte bir halka olusturur) siklik sübstitüentler; (ii) sübstitüe edilmis hidrokarbon sübstitüentleri, yani bu bulus çerçevesinde sübstitüentin agirlikli olarak hidrokarbon olan yapisini degistirmeyen, hidrokarbon olmayan gruplar içeren sübstitüentler (örnegin halo (özellikle kloro ve Iloro), `hidr0ksi, alkoksi, merkapto, alkilmerkapto, nitro, nitrozo ve sülfoksi); (iii) hetero sübstitüentler, yani bu bulus çerçevesinde agirlikli olarak bir hidrokarbon karakterine sahipken, bunun disinda karbon atomlarindan olusan bir halkada veya zincirde karbon disinda elementler içeren sübstitüentler. Heteroatomlar arasinda kükürt, oksjen, azot yer alir ve bunlar piridil, furil, tienil ve imidazolil gibi sübstitüentleri kapsar. Burada, bir oksijen atomu içeren bir alkil grubu bir alkoksil grubunu belirtmek için kullanilmaktadir. kaplamayi ve benzer prosedürleri belirtmek için kullanilmaktadir. istege bagli olarak bulundugunu, ama bulunmamasinin da mümkün oldugunu belirtmek için kullanilmaktadir. Örnegin “(met)akrilat” terimi akrilati veya metakrilati belirtmek için kullanilabilir.
Burada “polimer” terimi, bir veya daha fazla monomerin moleküllerinin birbirine baglanarak, molekül agirligi bir veya daha fazla monomerin molekül agirliginin bir kati olan büyük moleküller olusturdugu bir polimerizasyon reaksiyonunun ürününü belirtmek için kullanilmaktadir. Bu polimerler homopolimerler veya kopolimerler olabilir. Bu polimerler dogrusal polimerler, dallanmis polimerler, çapraz bagli polimerler veya bunlarin ikisinin veya daha fazlasinin bir karisimi olabilir. polimeri belirtmek için kullanilmaktadir. poliinerizasyonundan kaynaklanan bir polimeri belirtmek için kullanilmaktadir. bagli yapilar olusturdugu bir polimeri belirtmektedir. zincire veya polimer omurgasina bagli bir veya daha fazla ek, nipeten kisa zincir olusturdugu bir poliineri belirtmektedir. uçlari disindaki noktalarda birbirine bagli oldugu bir polimeri belirtmektedir. sahip olmayan bir polimeri belirtmektedir. Bir düzenlemede, halojensiz polimer klorsuz bir polimerdir. “Halojensiz” terimi, halojenin kontaminant seviyesinde, örnegin agirlikça %5,e kadar ve bir düzenlemede agirlikça %27ye kadar ve bir düzenlemede agirlikça %1 ”e kadar ve bir düzenlemede agirlikça %0.5,e kadar ve bir düzenlemede agirlikça %0.2”ye kadar ve bir düzenlemede agirlikça %0.] ,e kadar olan seviyelerde bulunmasini dislamaz.
Bir monomer polimerize edildiginde, polimer içinde olusan monoinerik birimin baslangiç monomerinden biraz farkli bir yapiya sahip olacagi takdir edilecektir. Sadece monomerin karbon-karbon çift bagi monomerik birimdeki bir karbon-karbon tekli bagina dönüsmek ve monomerin bu dönüsüinünden kaynaklanan fazla elektronlar polimerin bitisik tekrar eden bir birimi üzerinde her monomerik birimi bitisik karbon atomlarina baglamak için kullanilmak üzere, monomerik birim, birbirine göre monomerdekiyle ayni nispi pozisyonlarda ayni atomlara sahip, baslangiç monomerine esdegerdir, yani ondan elde edilir veya edilebilir. Burada bir monomer içeren bir poliinere yapilan referansin, polimerin monomere esdeger, yani ondan elde edilen veya edilebilen monomerik birimlerden olustugu anlamina geldigi takdir edilecektir.
Bulusun en basit yönüne göre, alev geciktirici bir monomer bilesimi sunulmaktadir. Yeni alev geciktirici monomer bilesimi a) örnegin bir (met)akrilik asit, (met)akrilamid veya vinilbenzenin birinden elde edilen bir grup gibi etilenik olarak doymamis bir monomer, b) bir polifosfat kismi ve 0) bir amin türü içerebilir. Burada kullanilan vinilbenzen stiren veya alkille sübstitüe edilmis bir vinilbenzen, örnegin a-metil stiren, l-metil-2-vinilbenzen, l- metil-3-vinilbenzen, l-metil-4-vinilbenzen ve benzeri olabilir.
Etilenik olarak doymamis monomer olarak örnegin 2-hidroksietil (met)akrilat da (HEMA) düsünülmektedir. Alternatif olarak, hidroksipropil (met)akri1at veya 4-hidroksibütil (met)akri1at gibi baska monomerler de düsünülinektedir. Benzer bir sekilde, 2-hidroksietil (met)akrilamid, hidroksipropil (met)akrilamid, polietilenglikol (met)akrilat ve benzeri düsünülmektedir.
Yeni alev geciktirici monomer bilesiminde, a)°in etilenik olarak doymamis monoinerlerinin biri dogrudan veya bir baglayici grup vasitasiyla polifosfat kismi b)iye kovalent olarak baglanarak bir öncü monomer birimi olusturu. Ayrica, c)”nin amin türü öncü monomer biriminde b)”nin kovalent olarak bagli polifosfat kismiyla kompleks, tipik olarak bir tuz halindedir. Dolayisiyla, a)'n1n etilenik olarak doymamis monomerleri, b)'nin polifosfat kismi ve 0)`nin amin türü, yani guanil üre ayri ayri açiklanmakla birlikte, alev geciktirici monomer bilesiminde amin türü polifosfat kismiyla kompleks halinde bulunur ve polifosfat kismi a),nin etilenik olarak doymamis monomerlerine kovalent olarak baglidir.
Alev geciktirici bir monomer, dâhil edildigi bir polimere güç alev almasini saglayan bir mo nomerdir.
Alev geciktirici monomer bilesiminin örnek düzenlemeleri örnegin guanil üreyle komplekslestirilmis 2-hidr0ksietil metakrilat fosfat esterleri ve guanil üreyle komplekslestirilmis 2-hidr0ksietil metakrilat fosfonik esterleri olabilir. Teorinin baglayiciligi isteninemekle birlikte, yeni alev gecitirici monomer bilesimi örnegin formül Pin alev geciktirici monomer bilesimiyle temsil edilebilir. l Formül I T cli polifosfat kismi l 0 v\e/ya NH: !i 0 veya NH H veya CH; baglayici grup _ N _i 0 etilenik olarak doymamis monomer kismi: )i\ i (met)akrilik asit veya (met)akrilainid HEN N N' 1? amin türü: örnegin guanil üre l Bulusun bazi düzenlemelerinde, “elde edilmis” terimi “elde edilmis veya elde edilebilir anlamina gelebilir. Bazi düzenlemelerde, fosfor içeren monomer (met)akrilik asit veya (met)akrilamidden elde edilmis olabilir veya elde edilebilir. Elde edilebilir, monomerin (met)akrilik asit veya (met)akrilamedden elde edilmesinin mümkün oldugu, ama ayni zamanda baska (met)akrilik asit kaynaklari, örnegin bir Ritter reaksiyonunda (met)akrilonitril gibi baska malzemelerden de elde edilebilir anlainindadir. Baska bir örnekte, (met)akrilik asitten elde edilen alev geciktirici monomer bir (met)akrilik asit ester kullanilarak yapilabilir. Yukaridaki örneklerdeki gibi durumlarda, monomer ürünü, (met)akrilik asit veya (met)akrilamidden elde edilmis gibi (met)akrilik asit veya (met)akrilamid kismi içerir.
Yukarida belirtildigi gibi, bir polifosfat kismi ve a),nin etilenik olarak doymamis bir monomerinden bir öncü monomer birimi olusturulabilir. Polifosfat kismi, -R3X- monofosfonat bilesigi olabilir, burada: X 0 veya NH”dir, R3 karbon atomlarinin 209ye kadari yerine sübstitüe edilen oksijen ve/veya azot atomlarina sahip bir Co-Cso hidrokarbil baglayici gruptur, n 1 ila 10 veya 1 ila 8 veya 1 ila 6 ve tercihen 1 ila 3 araliginda olabilir, R4 H, M+ veya alkil olabilir, R5 H veya M+”dir ve M+ periyodik tablonun I. ve II. Gruplarindaki elementler veya amonyum arasindan seçilen bir karsi iyondur.
Burada amonyum NH4 veya mono-, di-, tri- veya tetraalkilamonyumu belirtmek için kullanilmaktadir.
Bazi düzenlemelerde, polifosfat kisini fosforun bir tribazik asidini içerebilir. Bazi düzenlemelerde, polifosfat kismi karboksietil monofosfat, karboksietil monofosfonat, karboamidoetil monofosfat, karboamidoetil monofosfonat, fenetil monofosfat veya fenetil monofosfonattan elde edilebilir. Çogunlukla, öncü monomer birimi, yani bir polifosfat kismina kovalent olarak bagli (met)akrilik asit, (met)akrilamid veya vinilbenzenden elde edilen birim piyasadan satin alinabilir, ama burada piyasada bulunmayan öncü monomer birimleri de düsünülmektedir. Çogunlukla piyasadaki Öncü monomer birimleri örnegin esas kismi 2-hidroksietil (met)akrilat monofosfat ester (HEMA) ve küçük bir kismi bis(2-hidr0ksietil (met)akrilat) fosfat esterden olusan, Rhodia”dan elde edilebilen SipomerTM Pam-4000,dir. Burada bu karisimlarin yani sira saf bilesimler olan öncü monomer birimleri de düsünülmektedir.
HEMA polifosfat dogrudan HEMA ve fosfor pentoksit veya fosforik asitten de yapilabilir.
Alternatif olarak, HEMA yerine hidroksipropil (met)akrilat veya 4-hidroksibütil (met)akrilat gibi baska inonoinerler kullanilabilir. Öncü inonomer birimlerinin bazi baska örnekleri arasinda polietilen glikol (met)akrilat fosfat ester (Rhodia'dan PAM-lOO olarak elde edilebilir), polipropilen glikol (met)akrilat fosfat ester (Rhodia°dan PAM-200 olarak elde edilebilir), metakrilamidoetil fosfonik asit, vinilbenzen fosfonik asit, vinil fosfonik asit ve izopropenil fosfonik asit yer alabilir.
Amin türü c), disiyandiamid ve sudan elde edilebilen guanil üredir.
Bulusun baska bir yönü alev geciktirici bir polimerdir. Bir düzenlemede, alev geciktirici polimerler, bulusun en basit yönüne uygun alev geciktirici monomer bilesimlerini içeren homopolimerler veya kopolimerler olabilir. Baska bir düzenlemede, alev geciktirici polimerler, A) bir polifosfat kismina kovalent olarak bagli olmayan en az bir etilenik olarak doymamis monomer birimi ve B) bulusun en basit yönüne uygun alev geciktirici monomer bilesimlerinin bir kopolimeri olabilir. Bir kopolimer olarak, polimer A)'nin bir veya daha fazla ayni veya farkli etilenik olarak doymamis inonoiner birimini ve/veya B)'in bir veya daha fazla ayni veya farkli alev geciktirici monomer bilesimini içerebilir.
Bazi düzenlemelerde, A)”nin etilenik olarak doymamis monomer birimleri polimerdeki monomerlerin %0 veya %0.] ”i ila polimerdeki monomerlerin %80`i olabilir. Benzer bir sekilde, alev geciktirici polimerdeki monomerlerin %65°ine kadari A),n1n etilenik olarak doymamis monomer birimleri olabilir. Alternatif olarak, monomerlerin %70 veya %75”ine kadari A),nin etilenik olarak doymamis monomer birimleri olabilir.
Bu bulusa ait A),nin etilenik olarak doymamis monomer birimleri, diger seylerin yani sira polimere belirli fiziksel özellikler verilmesine hizmet edebilir. Dolayisiyla, bu alanda siradan vasiflara sahip olanlar, alev geciktirici polimerin spesifik bir uygulamasi için istenen spesifik fiziksel özelliklere göre alev geciktirici polimer için uygun etilenik olarak doymamis monomeri seçebilirler.
Alev geciktirici poliinerde kullanim için uygun bir polifosfat kismina kovalent olarak bagli olmayan etilenik olarak doymamis monomerlerin bazi örnekleri örnegin stiren, C1-C40 alkil (met)akrilatlar, C i-C40 (met)akrilamidler, akrilamid, N-metilolakrilamid, akrilonitril, akrilik asit, metakrilik asit, itakonik asit, maleik asit, 2-akrilamido-2-metilpropan sülfonik asit, C1-C40hidroksialkil (met)akrilatlar, (asetoasetoksi)etil metakrilat, C1-C40hidroksialkil (met)akrilamid, diaseton akrilamid, vinil esterler, bütadien, izopren ve bunlarin dimerik veya çok türevli bilesikleririr biri veya daha fazlasi olabilir. Ayrica, alev geciktirici polimer halojenlenmeinis olabilmekle birlikte, vinil klorür gibi halojene etilenik olarak doymamis monoinerler de burada alev geciktirici polimerlerde uygun A),nin etilenik olarak doymamis monoiner birimleri olarak düsünülmektedir.
Bulusa uygun alev geciktirici polimerde, polimerdeki monomerlerin en az %20`si alev geciktirici monomer bilesiminden seçilir. Alev geciktirici polimeri olusturan monomerlerin Ayrica, alev geciktirici polimerdeki monomerlerin en az %30sunun, en az %40'1nin veya en az %50isinin alev geciktirici monomer bilesimi olabilecegi de düsünülmektedir. Bulusa uygun bazi alev geciktirici polimerlerde, monomerlerin en az %35?, en az %455 ve en az Bazi düzenlemelerde, polimerdeki monomerlerin en az %805i veya en az %859i veya en az olmayan etilenik olarak doymamis monoinerler ve yeni alev geciktirici monomer bilesimlerinin bir kombinasyonunu içerir.
Tercihen, alev geciktirici polimer, agirlikça en az %1 fosfor içerir ve sayisal ortalama molekül agirligi (Mn) en az 1000 g/moldür. Baska düzenlemelerde, alev geciktirici polimer agirlikça %1 ila %15 veya agirlikça %2 ila %14 veya agirlikça %5 ila %10 oraninda fosfor içerebilir. Bir düzenlemede, alev geciktirici polimer agirlikça en az %7 fosfor içerir ve alev geciktirici polimer baska bir düzenlemede agirlikça %9 ve baska bir düzenlemede agirlikça Alev geciktirici polimerin Mn,sinin en az 1000 g/mol olmasi gerekir. Mn 50,000 g/mol ila Sasirtici bir sekilde, alev geciktirici monomer bilesimlerinden olusan alev geciktirici polimerler, yeni alev geciktirici monomer bilesimi gibi bir polifosfat/amin türü içermeyen benzer polimerlere göre daha iyi alev geciktirici performansi saglamaktadir.
Tercih edilen bir düzenlemede, alev geciktirici polimer ilk olarak en az bir yeni alev geciktirici monomer bilesiminin bir karisimi üretilerek ve sonra karisimin serbest radikal polimerizasyonundan geçirilmesiyle örnegin formül IIlde gösterildigi gibi alev geciktirici bir polimer olusturularak üretilebilmektedir.
Formül 11 i Polimerizasyon : Ayrica polimerizasyonun, monomerlerin %0 ila %80”inin (veya %01 ila %75,inin veya birimleri olmasiyla ve monomerlerin en az %20,sinin en az bir alev geciktirici alev geciktirici monomer bilesimi olmasiyla sonuçlanacagi sekilde, en az bir alev geciktirici monomer bilesiminin polimerizasyon karisimina yeterli miktarda A)7nin etilenik olarak doymamis monomer birimleri ilave edilebilir. Yukaridaki islem kullanilarak, polimerdeki monoiner birimlerinin %80'e kadarinin veya %85”e kadarinin veya %90'a kadarinin alev geciktirici monomer bilesimi olabildigi bir alev geciktirici polimer üretilebilir. Benzer bir sekilde, polimerdeki monomer birimlerinin %95ie kadari veya %100°e kadari alev geciktirici monomer bilesimi olabilir.
En az bir alev geciktirici monomer bilesimi karisimi, bir düzenlemede, en az bir yeni alev geciktirici monomer bilesimi karisimini olusturmak için, en az bir öncü monomer biriminin bir karisimi 10 dakika ile 8 dakika arasinda, tercihen 1 saat ve 5 saat arasinda, 20°C ve bir karisimiyla reaksiyona sokularak üretilebilir.
Alternatif bir düzenlemede, alev geciktirici polimer ilk olarak, monomerlerin %0 ila az %20”sinin öncü monomer birimleri oldugu bir polimer üretmek için, yeterli miktarda A)*nin etilenik olarak doymamis inonomer birimleriyle birlikte öncü monoiner birimleri serbest radikal polimerizasyonuna tabi tutularak bir öncü polimer üretilmek suretiyle elde edilebilir. Polimerizasyonun ardindan, öncü polimer, örnegin formül III'te gösterildigi gibi öncü monomer birimlerindeki polifosfat kisimlarini komplekslestirmek için yeterli amin türüyle reaksiyona sokulabilir.
Formül III Polimerizasyon 1 s ;S ' J : / `7 '. 0304 ' ` \ "J w Yukaridaki islem kullanilarak, polimerdeki monomer birimlerinin %30,a kadarinin veya baglanabildigi alev geciktirici bir polimer üretilebilir. Özellikle, pH ayarlamasi sirasinda bilesige bir karsi iyon ilave edilebilir. Örnegin pH ayarlamasi için, hidroksillerin birinin veya her ikisinin hidrojeninin Na+, K+, amonyum veya alkil amonyum gibi bir karsi iyonla sübstitüsyonuyla sonuçlanan NaOH, KOH, amonyum hidroksit veya alkil amonyum hidroksit kullanilabilir.
Bazi düzenlemelerde, polimerizasyona yardim etmek için bir polimerizasyon katalizörü veya baska bir standart katalizör kullanilabilir. Polimerizasyon katalizörlerinin Örnekleri sodyum hipofosfit gibi alkali metal hipofosfit tuzlari, alkali metal fosfitler, alkali metal polifosfatlar, alkali metal dihidrojen fosfatlar, polifosforik asitler ve alkil fosfinik asitler olabilir. Yeni bir alev geciktirici monomer bilesiminin üretildigi ve sonra polimerize edildigi durumda, bir polimerizasyon katalizörünün kullanimi, polimerdeki monomer birimlerinin %95”e veya %97.5”e, hatta %100”e kadarinin polifosfat kisimlariyla kovalent olarak baglanmasiyla sonuçlanabilir. Benzer bir sekilde, polimerizasyonun komplekslestirmeden önce oldugu durumda, bir polimerizasyon katalizörünün kullanimi, polimerdeki monomer birimlerinin %80°e veya %85”e veya %88ie, hatta %90”a kadarinin polifosfat kisimlariyla kovalent olarak baglanmasiyla sonuçlanabilir. Çözücü, polimerizasyonda kullanilan vinil inonomerlerinin ilavesi ve reaksiyonu sirasi da dâhil olinak üzere islemlerdeki herhangi bir noktada kullanilabilir.
Alev geciktirici polimerleri üretmeye yönelik islemlerin her birinde, en az bir öncü monomer biriminin karisimi piyasadan veya bu alanda siradan vasiflara sahip olanlarin Bir düzenlemede, en az bir öncü inonomer birimi dogrudan bir alkoksil (met)akrilatin su içinde fosfor pentoksitle reaksiyonundan elde edilebilir.
Alev geciktirici polimeri üretme isleminde, ainin türü eraksiyon asamasinda polifosfatin olabilir. Ayrica, her bir düzenlemede, amin türü reaksiyon asamasi suyun varliginda uygulanabilir. Özellikle, reaksiyon asamasi, öncü monomer birimleri veya öncü polimer disiyandiamid ve suyla reaksiyona sokularak tamamlanabilir. Disiyandiamid ve suyla reaksiyon bir guanil ürenin üretimiyle sonuçlanacaktir, bu guanil üre daha sonra öncü monomer biriinlerindeki polifosfat kismiyla komplekslesebilir. Komplekslesme reaksiyonu baska yan ürünlerle sonuçlanabilir, bu yan ürünler burada kapsanmaktadir.
Her düzenlemede, monomerlerin serbest radikal polimerizasyonu veya kopolimerizasyonu dispersiyon polimerizasyonu, çözelti polimerizasyonu, fotopolimerizasyon veya radyasyon polimerizasyonu gibi herhangi bir polimerizasyon islemi olabilir. Emülsiyon polimerizasyonu kullanilabilir. Monomerler bir anyonik, katyonik veya noniyonik yüzey aktif maddeyle veya dispersiyon maddesiyle veya bunlarin uyumlu karisimlariyla, örnegin bir anyonik ve bir noniyonik yüzey aktif madde karisimiyla, örnegin monoinerin agirligi esas alindiginda agirlikça %005 ila %5 bir yüzey aktif madde veya dispersiyon maddesi kullanilarak emülsiiîye edilebilir. Uygun katyonik dispersiyon maddeleri arasinda lauril piridinyum klorür, setildimetil amin asetat ve alkildimetilbenzilamonyum klorür yer alir, burada alkil grubu 8 ila 18 karbon atomuna sahiptir. Uygun anyonik dispersiyon maddeleri arasinda örnegin sodyum lauril sülfat ve bunun gibi alkali yagli alkol sülfatlar; potasyum izopropilbenzen sülfonat ve bunun gibi arilalkil sülfonatlar; sodyum oktil sülfosüksinat gibi alkali alkil sülfosüksinatlar; ve 1 ila 5 oksietilen birimine sahip sodyum t- oktilfenoksipolietoksietil sülfat ve bunun gibi alkali arilalkilpolietoksietanol sülfatlar veya sülfonatlar yer alir. Uygun noniyonik dispersiyon maddeleri arasinda örnegin heptil fenoksipolietoksietanoller gibi, 7 ila 18 karbon atomunu ve 6 ila 60 oksietilen birimini haiz alkil gruplarina sahip alkil fenoksipolietoksi etanoller; laurik asit, miristik asit, palmitik asit, oleik asit ve bunun gibi uzun Zincirli karboksilik asitlerin veya 6 ila 60 oksietilen birimi içeren tal yaginda bulunanlar gibi asitlerin karisimlarinin etilen oksit türevleri; 6 ila 60 oksietilen birimi içeren oktil, desil, lauril veya seti] alkoller gibi uzun Zincirli alkollerin etilen oksit kondansatlari; 6 ila 60 oksietilen birimine sahip dodesil amin, heksadesil amin ve oktadesil amin gibi uzun zincirli veya dallanmis Zincirli aminlerin etilen oksit kondansatlari; ve bir veya daha fazla hidrofobik propilen oksit bölümüyle kombine edilmis etilen oksit bölümlerini haiz blok kopolimerler yer alir. Hidroksietil selüloz, metil selüloz, poliakrilik asit, polivinil alkol ve bunun gibi yüksek molekül agirlikli polimerler emülsiyon stabilizatörleri ve koruyucu koloitler olarak kullanilabilir. Alternatif olarak, monomerler bir yüzey aktif madde olmadan polimerize edilebilir.
Polimerizasyon küçük parçacik büyüklügüne sahip önceden olusturulmus bir emülsiyon polimerinin varliginda (örnegin tohumlu polimerizasyon) veya tohumsuz olarak baslatilabilir. Tohumlu polimerizasyonu tohumsuz polimerizasyondan daha tek düze parçacik büyüklügüne sahip lateks poliinerinin sulu bir dispersiyonunu verir.
Molekül agirligini kontrol etmek için zincir transfer maddeleri kullanilabilir ve bunlar polimerik baglayicinin molekül agirligini azaltmak için polimerizasyon karisiminda kullanilan merkaptanlar, polimerkaptanlar, alkoller ve halojen bilesiklerini içerir. Genel olarak, polimerik baglayicinin agirligi esas alindiginda agirlikça %0 ila %3 C4-C20 alkil merkaptanlar, merkaptopropionik asit veya merkaptopropionik asit esterleri kullanilabilir.
Polimerizasyon islemi bir kesikli islem, sürekli islem, asamali islem veya herhangi bir baska usulün kullanildigi bir islemi içerebilir. Bir asamali islemin her asamasi polimerizasyonun isiyla veya redoksla baslatilmasini içerebilir. Belirli bir asamada polimerize edilecek monomerlerin tamamini veya bir kismini içeren bir monomer emülsiyonu monomerler, su ve emülsifiye ediciler kullanilarak hazirlanabilir. Baslaticinin su içindeki bir çözeltisi ayriyeten hazirlanabilir. Monomer emülsiyonu ve baslatici çözeltisi, islemin herhangi bir asamasinin emülsiyonu polimerizasyonu sirasinda polimerizasyon kabina birlikte beslenebilir. Reaksiyon kabinin kendisi de baslangiçta tohum emülsiyonunu içerebilir ve ayrica polimerizasyon baslaticinin bir ilk yükünü içerebilir. Reaksiyon kabinin içeriginin sicakligi, polimerizasyon reaksiyonunun ürettigi isiyi gidermek için sogutularak veya reaksiyon kabi isitilarak kontrol edilebilir. Reaksiyon kabina es zamanli olarak birkaç monomer emülsiyonu birlikte beslenebilir. Birden fazla monoiner emülsiyonu birlikte beslendiginde, bunlar farkli yeni alev geciktirici monoiner bilesiinleri olabilir. Monomer emülsiyonlarinin emülsiyon polimerizasyon islemi sirasinda birlikte beslenme sirasi ve hizlari degistirilebilir. Ilk monomer emülsiyonunun/ emülsiyonlarinin ilavesinin tamamlanmasindan sonra, sonraki monomer emülsiyonunun/emülsiyonlarinin polimerizasyondan önce polimerizasyon reaksiyonu karisimi bir süre bir sicaklikta tutulabilir ve/veya bir polimerizasyon önleyiciyle islemden geçirilebilir. Benzer bir sekilde, nihai monomer emülsiyonunun/emülsiyonlarinin ilave edilmesi tamamlandiktan sonra, çevre sicakligina sogutulmadan önce polimerizasyon reaksiyonu karisimi bir süre bir sicaklikta tutulabilir ve/veya bir polimerizasyon önleyiciyle islemden geçirilebilir.
Polimerlerin pHssi ön karisimda veya emülsiyon polimerinde örnegin amonyum hidroksit, sodyum veya potasyum hidroksit, magneyum hidroksit, tri(m)etilamin ve bunun gibi yaygin olarak kullanilan bir bazla 3.0 ila 10.0,a ayarlanabilir.
ALEV GECIKTIRICI BILESIMLER Alev geciktirici polimerler çözücüler, plastiklestiriciler, pigmentler, boyalar, dolgu maddeleri, emülsifiye edici maddeler, yüzey aktif maddeler, kivam arttiricilar, reolo ji degistiriciler, isi ve radyasyon stabilizasyon katki maddeleri, köpük gidericiler, tesviye maddeleri, çukur olusmasini önleyici maddeler, dolgu maddeleri, çökelme önleyiciler, U.V. emiciler, antioksidanlar, alev geciktiriciler ve bunun gibi geleneksel bilesenleri içerebilir. Karisimlar, geçisimli aglar ve buna benzer formlarda ek polimerler gibi baska polimerik türler içerebilir.
Bir düzenlemede, alev geciktirici polimerler, literatürde ve bu alanda iyi bilinen ek alev geciktirici katki maddeleriyle karistirilabilir. Örnek alev geciktirici katki maddeleri arasinda halojen olmayan alev geciktiriciler, örnegin melamin ve melamin siyanürat, melamin borat, melamin fosfat, melamin molibdat gibi melamin türevleri; boratlar; organik fosfatlar, organik fosfinatlar, örnegin Clariantltan elde edilebilen ExolitTM OP 1230 ve 13 l 1 ve 9, lO-dihidr0-9-0ksa-10-fosfafenantren-l O-oksit, tetrakis(hidroksimetil)fosfonyum klorür ve bis[tetrakis(hidroksimetil)fosf0nyum] sülfat gibi fosfor içeren bilesikler; inorganik bilesikler, örnegin alüminyum trihidrat, antimon oksit, ainonyum fosfat, amonyum polifosfat, kalsiyum karbonat, kil ve talk yer alir. Bazi düzenlemelerde, alev geciktirici polimerlerin halojenlenmemis olmasi istenmekle birlikte, alev geciktirici polimerlerin pentabromodifenil eter, oktabromodifenil eter, dekabromodifenil eter ve heksabromosiklododekan gibi klorlu ve broinlu bilesikler gibi halo jenlene alev geciktiricilerle karistirilmasi burada düsünülmektedir. Çogunlukla birden fazla alev geciktirici kullanilir ve siklikla alev geciktirici formülasyonlarda 3 veya daha fazla alev geciktirici kombine edilir. Bu bulusun alev geciktirici polimerleri ve kopolimerleriyle birlikte kullanilan alev geciktiricilerin seviyesi, agirlikça 100 pay alev geciktirici polimer için agirlikça 1 ila 50 pay alev geciktirici katki maddesi olabilir.
Etilenik olarak doymamis monomerlerin alev geciktirici polimere spesifik fiziksel özellikler vermek için seçilebilmesi gibi, ek polimerler daha fazla alev geciktiricilige veya bazi fiziksel özelliklere sahip karisimlar üretmek için bu bulusun alev geciktirici polimerleri ve kopolimerleriyle karistirilabilir. Karistirilabilecek diger polimerlerin örnekleri arasinda poliüretan polimerleri, poliamid polimerleri, poliüre polimerleri, poliester polimerleri, poliakrilat polimerleri, fenolik reçineler veya bunlarin karisimlari yer Polimer bu alanda uzman olanlarin bildigi usullerle piyasadaki baska polimerlerle veya polimer dispersiyonlariyla kombine edilebilir. Polimer üretanlar veya silikonlar gibi baska polimerlerle hibridler olusturmak için kullanilabilir. Bu, ek monomerler, poliinerin varliginda emülsiyon veya süspansiyon polimerizasyonuyla polimerize edilerek, polimer baska önceden olusturulmus polimerlerle karistirilarak veya polimer baska polimerlerin varliginda sentezlenerek yapilabilir.
Bir düzenlemede, polimer bir kondansasyon reaksiyonunda, tercihen agirlikça %0.5- 10 N- metilol (met)akrilamid içeren feno lik reçineyle karistirilabilir.
Polimerin hazirlanmasinda ve/veya sonraki kullaniminda yararli olan yardimci maddeler, polimerizasyon reaksiyonu sirasinda veya sonrasinda ilave edilebilir. Bunlar arasinda yardimci yüzey aktif maddeler; monomer karisiminin agirligi esas alindiginda agirlikça köpük gidericiler; monomer karisiminin agirligi esas alindiginda agirlikça %0.001 ila %01 seviyesinde kullanilan SagTM Silicone Antifoam 47 gibi tesviye maddeleri; monomer karisiininin agirligi esas alindiginda agirlikça %0.l ila %5 seviyesinde kullanilan MAROXOLTM 20 ve IRGANOXTM 1010 gibi antioksidanlar; FLEXOLTM plastiklestirici gibi plastiklestirieiler; ve milyonda 30 ila 45 pay (ppm) seviyesinde KATHONTM ve 300 ila 500 ppm seviyesinde PROXELTM GXL gibi koruyucular yer alir.
Yukarida açiklanan bazi malzemelerin nihai formülasyonda etiklesime girebildigi bilinmektedir, bu nedenle nihai formülayonun bilesenleri baslangiçta ilave edilenlerden farkli olabilir. Bu bulusun bilesiminin amaçlanan kullaniminda kullanilmasi üzerine olusan ürünler de dâhil olmak üzere burada olusan ürünler kolay tanimlanmaya yatkin olmayabilir. ÖRNEKLER Numune 1 - Guanil ürevle kompleks halinde ve organik fosfinat FR katki maddesi ExolitTM ile bir bilesim içinde, monomerlerin %35,inin PAM-4000 oldugu FR Polimer Bir yari kesikli emülsiyon polimerizasyonu isleminde, bir reaktöre 175 g su, 0.] g %30 su içinde 1 g amonyum persülfat (APS) çözeltisi ilave edildikten hemen sonra 3 saat hidroksit, 65; %48 N-metilol akrilamid (NMA), 89g etil akrilat (EA), 40g bütil metakrilat (BMA) ve 67g SipomerTM PAM-40001den olusan bir ön karisim hazirlanir ve reaktöre ilave edilir. Ilaveden sonra, hatti yikamak için 6 g su kullanilir. 30 dakika sonra, 12 g su içinde 1 g APS bir porsiyon halinde ilave edilir ve 62°C9ye sogutulmadan önce 30 dakika BHP) ve 0.14g BruggoliteTM FF6 (Bruggemann Chemical”dan sülfinik asit türevi) ilave SLS karisimi, ardindan 7 g su içindeki 0.2 g sodyum formaldehit sülfoksilat çözeltisi ilave edilir. Esas itibariyla pihtilasma içermeyen reaksiyon 30°C'nin altina sogumaya birakilir ve sonra iki kat tülbentten filtrelenir. reaktöre konur. Karisim oda sicakligina sogutulmadan önce 2 saat azot atmosferi altinda karistirilir ve reaksiyona sokulur. Daha sonra filtreden geçirilen ürün Cowle biçagi takilmis suyla karistirilarak nihai polimer bilesimi üretilir.10 Numune 2 - Guanil ürevle kompleks halinde ve FR katki maddesi melamin sivanüratla bir bilesim içinde, monomerlerin %65”inin PAM-4000 oldugu FR Polimer ve 89.2g su hava atmosferi altinda karistirilir ve sogutulmadan önce 2 saat 90°C°ye isitilir. disiyandiamid, 0.5 g %30 SLS ve 0.03 g OC-40 karistirilir ve azot altinda karistirildiktan sonra 75°C°ye isitilir. 6 g su içinde 0.55 g SPS bir porsiyon halinde ilave edildikten sonra 3 saatte yukarida sözü edilen ön karisim ilave edilir. Hatti yikamak için 3 g su kullanilir.
Ilaveden 30 dakika sonra, 3 g su içinde 01 g APS ilave edilir ve reaksiyon 62°C,ye so gutulmadan önce 75°C7de 30 dakika daha sürdürülür. Daha sonra reaksiyon karisimi iki kez önceki örnektekiyle ayni sekilde bir redoks reaksiyonuna tabi tutulur. 30°C”nin altina so gutulduktan sonra ürün süzülür ve sonra 45 g melamin siyanüratla karistirilir.
Mmune 3 - Guanil ürevle kombinasyon halinde, monomerlerin %709inin PAM-4000 oldugu FR Polimer reaksiyona sokulur. Ürün 12 g %48 NMA ve 128.6 g EA ile karistirilarak, önceki örnekte disiyandiamid içeren bir reaktöre 3 saatte pompalanir. Hatti yikamak için 12 g su kullanilir. dakika sonra 12 g su içinde 0.45 g daha APS ilave edilir. Karisim 62°Csye sogutulmadan önce 30 dakika karistirilir. Karisim sogutulmadan önce 12 g su içinde 0.31 g APS ve 20 g su içinde 0.31 g FF-6 ile iki kez redoksa tabi tutulur. Ürün hiçbir görünür pihti olmadan iki kat tülbentten filtrelenir.
Numune 4 - Guanil ürevle kombinasyon halinde. monomerlerin %97.5”inin PAM- 4000 oldugu FR Polimer ve hava atmosferi altinda 90°C°ye getirilir. Reaksiyon 5.5 saat 90°C ila 92°C°ye isitilir ve sonra sogutulur. Elde edilen çözeltinin pHssi 4.52 olarak ölçülür. 470 g su ve 15 g sodyum hipofosfit içeren bir reaktör bir azot atmosferi altinda 75°C3ye isitilir ve 18 g su içinde 1.4 g APS ilave edilir. Daha sonra, önceden hazirlanan çözelti 15 g getirilir. Hatti durulamak için 10 g su kullanilir. Ilaveden 30 dakika sonra, 9 g su içinde 0.27 g APS ilave edilir ve reaksiyon 78°C,de 30 dakika daha sürdürülür. Reaksiyon bir redoks sistemi art arda ilave edilir. 30 dakika sonra ayni redoks sistemi ilave edilir ve reaksiyon karisimi oda sicakligina sogumaya birakilir. Yari saydam malzemenin pH7si 4.67ldir.
Numune 5- Dogrudan HEMA3dan yapilan FR Polimer 51 g HEMA ve 0.03 g bütil hidrokinon 250 ml,lik 3 boyunlu bir siseye konur. Karisim hava atmosferi altinda 50°C,ye isitilirken 30 dakikada 5 porsiyon halinde 27.9 g fosfor pentoksit ilave edilir. Daha sonra reaksiyon 80°C°ye isitilir, 2 saat bekletilir ve 60°C9ye so gutulur. 12 g su ilave edildikten sonra, reaksiyon sicakligini 70°C7nin altinda tutmak için 32.9 g disiyandiamid porsiyon porsiyon ilave edilir. Daha sonra sicaklik 90°C”ye getirilir ve 3 saat bekletildiken sonra 60°Caye sogutulur ve 60 g ininerali giderilmis su ilave edilir.
Karisim sicaklik 30°C°nin altina düsene kadar karistirilir. Sulu çözeltinin pH”si 3.8”dir ve fosfor NMR fosforun %44'ünün monofosfat, %40”inin difosfat ve %16,sinin trifosfat oldugunu ortaya koyar. 40 ilave edilir. Polimerizasyon esas itibariyla hiç pihti olmayan stabil bir lateks elde etmek üzere yukarida açiklandigi gibi uygulanir.
Numune 6 - Dogrudan HEMNdan hazirlanan FR Polimer fosfor pentoksit 30 dakikada 5 porsiyon halinde ilave edilirken hava atmosferi altinda 60°C'ye isitilir. Reaksiyon hava atmosferi altinda 60°C”ye isitilir ve 2 saat bekletilir. 23 g stiren, 14.5 g bütil akrilat, 24g disiyandiamid ve 8g su ilave edilir. Sicaklik yavas yavas 90°C°ye getirilir ve 3 saat bekletildikten sonra 60°C,ye sogutulur ve 40 g minerali giderilmis su ilave edilir. Karisim sicaklik 30°C'nin altina düsene kadar karistirilir. Sulu çözeltinin pHssi 4.0”dir ve fosfor NMR fosforun %35.8”inin monofosfat, %47.5`inin difosfat ve %16.7”sinin trifosfat oldugunu gösterir. Çözeltiye lg bütilakrilat, 3g %48 N-metilol akrilamid ve 1.5g OC-40 ilave edilir.
Polimerizasyon yukarida açiklandigi gibi uygulanarak esas itibariyla hiç pihti içermeyen Numune 6(a) - Dogrudan HEMA,dan hazirlanan FR Polimer fosfor pentoksit 30 dakikada 5 porsiyon halinde ilave edilirken hava atmosferi altinda 50°C”ye isitilir. Reaksiyon hava atmosferi altinda 60°C°ye isitilir ve 2 saat bekletilir. 30 g bütil akrilat, 0.02 g BHT, 33 g disiyandiamid ve 12 g DM su ilave edilir. Sicaklik yavas yavas 90°C7ye getirilir ve 3 saat bekletildikten sonra 60°C°ye sogutulur ve 60 g minerali giderilmis su ilave edilir. Karisim sicaklik 30°C”nin altina düsene kadar karistirilir. Sulu çözeltinin pH°si 3.8,dir ve fosfor NMR fosforun %4091n1n monofosfat, %48,inin difosfat ve %lTsinin trifosfat oldugunu gösterir. Çözelti 4.12 trietanolaminle pH 4.4,e ayarlanir. Çözeltiye 35 g stiren, 4 g %48 N-metilol akrilamid ve 1.5g %30 sodyum laurilsülfat çözeltisi ilave edilir. Polimerizasyon yukarida açiklandigi gibi uygulanarak esas itibariyla hiç pihti içermeyen stabil bir lateks elde edilir.
Numune ögb! - Dogrudan HEMA°dan hazirlanan FR Polimer fosfor pentoksit 30 dakikada 5 porsiyon halinde ilave edilirken hava atmosferi altinda 50°C3ye isitilir. Reaksiyon hava atmosferi altinda 60°C”ye isitilir ve 2 saat bekletilir. 23 g stiren, 0.02 BHT, 22 g disiyandiamid ve 8 g su ilave edilir. Sicaklik yavas yavas 90°Csye getirilir ve 3 saat bekletildikten sonra 60°C`ye sogutulur ve 40 g minerali giderilmis su ilave edilir. Karisim sicaklik 30°C°nin altina düsene kadar karistirilir. Sulu çözeltinin pH°si Çözeltiye 19 g bütilakrilat, 3 g itakonik asit ve 1 g %30 sodyum laurilsülfat çözeltisi ilave edilir. Polimerizasyon yukarida açiklandigi gibi uygulanarak esas itibariyla hiç pihti içermeyen stabil bir lateks elde edilir.
Mmune 7 - Fenolik Recinevle FR Polimer Numune 4lün polimeri bir rezol feno lik reçinesiyle birlikte alev geciktirici bir katki maddesi olarak kullanilir. Karistirma orani, kuru agirlik temelinde %50 fenolik reçine/%50 Numune 4”tür.
Numune 8 - Üretan Reçinesivle FR Polimer Numune 4lün polimeri suda yüzen bir poliüretan dispersiyonu içinde alev geciktirici bir katki maddesi olarak kullanilir. Karistirma orani kuru agirlik temelinde %50 poliüretan (Lubrizol Corporationidan Sancure® 2715)/ %50 Numune 4”tür.
Mmune 9 - Üre Formaldehit Reçinesivle FR Polimer Numune 4”ün polimeri üre formaldehit reçinesiyle birlikte bir alev geciktirici kati maddesi olarak kullanilir. Karistirma orani kuru agirlik temelinde %50 üre formaldehit Örnek 1 - Lateks reçineleri için Performans Verileri Numune 1, 2, 3, 5 ve 67nin bilesimlerinin emdirildigi kâgit birkaç farkli kontrolün emdirildigi kâgitla karsilastirmali olarak alev geciktiricilik açisindan test edilir. Ilk kontrol bilesimi, Lubrizol°den elde edilebilen piyasadaki bir lateks bilesimi olan HycarTM 26846,dir. Suyla islatilmadan önce ve 24 saat minerali giderilmis su içinde islatildiktan ve kurutulduktan sonra TAPPI461, Tertibat 3.1 ila 3.4,e göre bir dikey yanma testinde kendi basina ve piyasadaki alev geciktirici katki maddeleriyle karsilastirmali olarak test edilir. dökme film olarak kendi basina test edilir.
Sonuçlar Tablo lade gösterilmektedir.
GECIKTIRICILIK 0/0 DIKEY Yanma Polimer Baglayici Suyla Suyla Içerigi islatmadan islattiktan önce sonra* 1. 2. 1. 2.
PAM-4000 N/A CB CB n/a n/a PyrosanTM SYN Emerald Performance Materials`dan elde edilebilen bir organik fosfat bilesigidir.
AntiblazeTM LR3, LR4 ve MC Albemarle C0rp.”tan elde edilebilen amonyum polifosfatlardir MartinalTM OL-lO4 LE Albemarle C0rp7tan elde edilebilen bir alüminyum hidroksittir.
MelapurTM MP DSM Melapufdan elde edilebilen bir melamin fosfattir.
Numune 1 ila 6 dikey yanma açisindan test edilir. Sonuçlar Tablo 2sde gösterilmektedir.
Dikey Yanma Polimer - ... Islatmadan Islattiktan önce sonra Numune 1 39.5 SE SE Numune 2 29.8 SE SE Numune 3 28.8 ila 29.9 SE SE Numune 5 28.3 SE SE Numune 6 29.5 SE SE Örnek 2 - Fenolik reçineler için Performans Verileri Kâgida Numune Tnin alev geciktirici karisimi veya rezol tipi bir kontrol polimeri emdirilir ve alev geciktiricilik açisindan test edilir. Numune ve kontrol suyla islatilmadan önce ve minerali giderilmis su içinde islatildiktan sonra TAPPI 461, Tertibat 3.] ila 3.4,e göre bir dikey yanma testinde kendi baslarina test edilir. Suyla islatma, kâgit numunesi 2 saat minerali giderilmis su içinde tutulduktan sonra kurutularak yapilir. Bu islem dikey yanma testinden önce toplam 6 saat islatma için toplam 3 kez tekrarlanir.
Sonuçlar asagida tablo 3”te gösterilmektedir.
Dikey Yanma Polimer Suyla Islatmadan Önce Suyla Islattiktan Sonra rezol kontrol Örnek 3 - Poliüretan reçineleri için Performans Verileri Numune 8,in bilesiminin emdirildigi kâgit, alifatik suda yüzen poliüretan tipi bir polimer olan SancureTM 27159in emdirildigi kagitla karsilastirmali olarak alev geciktiricilik açisindan test edilir. Numune ve kontrol suyla islatilmadan önce ve minerali giderilmis su içinde islatildiktan sonra TAPPI 461, Tertibat 3.1 ila 346 göre bir dikey yanma testinde kendi baslarina test edilir. Suyla islatma, kâgit numunesi 2 saat minerali giderilmis su içinde tutulduktan sonra kurutularak yapilir. Bu islem dikey yanina testinden önce toplam 6 saat islatma için toplam 3 kez tekrarlanir.
Sonuçlar asagida tablo 4,te gösterilmektedir.
. Dikey Yanma Polimer % Baglayici lçerigi Sancure 2715 26.6 CB CB Numune 8 34.5 SE SE Örnek 4 - Üre formaldehvde formaldehit reçinelerî için Performans Verileri Numune 9”un bilesiminin emdirildigi kâgit, ArclinTM,den bir üre formaldehit reçinesinin emdirildigi kâgitla karsilastirmali olarak alev geciktiricilik açisindan test edilir. Numune ve kontrol suyla islatilmadan önce ve minerali giderilmis su içinde islatildiktan sonra TAPPI 461, Tertibat 3.1 ila 3.4”e göre bir dikey yanma testinde kendi baslarina test edilir. Suyla islatma, kâgit numunesi 2 saat minerali giderilmis su içinde tutulduktan sonra kurutularak yapilir. Bu islem dikey yanma testinden önce toplam 6 saat islatma için toplam 3 kez tekrarlanir.
Sonuçlar asagida tablo 5”te gösterilmektedir.
Polimer _ Baglayici Içerigi Islatmadan önce Islattiktan sonra Arclin Üre F orinaldehit 28.4 CB CB Numune 9 37.6 SE SE

Claims (18)

ISTEMLER
1. Asagidakileri içeren alev geciktirici bir monomer bilesimi: a) bir (met)akrilik asit, (met)akrilamid veya vinilbenzenin birinden elde edilen bir grup, b) m0n0-, di- veya trifosfat veya mono- ve/veya difosfonat içeren bir polifosfat kismi ve c) guanil üre; burada a) dogrudan veya bir baglayici grup vasitasiyla kovalent olarak b)”ye baglanarak bir öncü monomer birimi olusturur ve burada 0) öncü monomer biriminde b),nin kovalent olarak bagli polifosfat kismiyla kompleks halindedir.
2. Istem llin bilesimi olup, burada polifosfat kismi asagidaki formülü haiz bir polifosfat veya monofosfonat bilesiginderi elde edilir, -R3X-[P(:O)(OR5)O]nR4 veya -R3-P(=O)(OR4)(OR5), burada n 1 ila lOldur X 0 veya NH”dir, R3 karbon atomlarinin 207ye kadari yerine sübstitüe edilen oksijen ve/veya azot atomlarina sahip bir C0-C50 hidrokarbil baglayici gruptur, R4 H veya M“dir, R5 H veya M“dir ve M+ periyodik tablonun I. ve ll. Gruplarindaki elementler veya amonyum arasindan seçilen bir karsi iyondur.
3. Yukaridaki istemlerin herhangi birine uygun bilesim olup, burada polifosfat kismi karboksietil monofosfat, karboksietil monofosfonat, karboamidoetil monofosfat, karboamidoetil monofosfonat, fenetil monofosfat veya fenetil monofosfonat veya bunlarin karisimlaridir.
4. Yukaridaki istemlerin herhangi birine uygun bilesim olup, burada öncü monomer birimi 2-hidroksietil (met)akrilat monofosfat ester, bis(2-hidroksietil (met)akrilat) difosfat ester, polietilen glikol (met)akrilat monofosfat ester, polipropilen glikol (met)akrilat monofosfat ester, metakrilamidoetil fosfonik asit, vinilbenzen fosfonik asit, vinil fosfonik asit ve izopropenil fosfonik asit arasindan seçilir.
5. Yukaridaki istemlerin herhangi birine uygun bilesim olup, burada alev geciktirici monomer bilesimi guanil üreyle komplekslesmis 2-(fosfon0ksi)etil metakrilat veya guanil üreyle komplekslesmis (2-(metakri10iloksi)etil)f0sf0nik asittir.
6. Yukaridaki istemlerin herhangi birine uygun alev geciktirici bir monomer bilesimine esdeger monomer birimleri içeren alev geciktirici bir lateks polimerinin sulu bir dispersiyonu.
7. Istem 63nin sulu dispersiyonu olup, burada alev geciktirici polimer ayrica bir polifosfat kismina kovalent olarak bagli olmayan etilenik olarak doymamis monomerler içerir.
8. Istem 7”nin sulu dispersiyonu olup, burada polimerdeki monomerlerin en az %20lsi alev geciktirici monomer bilesimleridir ve polimerlerdeki monomerlerin %01 ila %80,i bir polifosfat kismina kovalent olarak bagli olmayan, etilenik olarak doymamis monomerlerdir ve burada polimer agirlikça en az %1 P içerir ve Mn'si en az 1000 g/moldür; ve burada polimerdeki monomerlerin en az %901 bir polifosfat kismina kovalent olarak bagli olmayan, etilenik olarak doymamis monomerler ve alev geciktirici monomer bilesimlerinin bir kombinasyouunu içerir, burada bir polifosfat kismina kovalent olarak bagli olmayan, etilenik olarak doymamis monomerler vinil klorür, stiren, Ci-C40 alkil (met)akrilatlar, C1-C40 (met)akrilamidler, akrilamid, N-metilolakrilamid, akrilonitril, akrilik asit, metakrilik asit, itakonik asit, maleik asit, 2-akrilamid0-2-metilpr0pan sülfonik asit, C1-C40 hidroksialkil (met)akrilatlar, C1-C40 hidroksialkil (met)akrilamid, Vinil esterler, bütadien, izopren ve bunlarin diinerik veya çok türevli bilesiklerinin biri veya daha fazlasidir.
9. Istem 7 ila 8”in herhangi birine uygun sulu dispersiyon olup, burada fosfor içerigi polimerin agirlikça %10 ila %15.0'idir.
10. Istem 7 ila 9°un herhangi birine uygun sulu dispersiyon olup, burada bilesimdeki monomerlerin en az %50`si alev geciktirici monomer bilesimlerinden seçilir.
ll. Istem 1 ila 6,nin herhangi birine uygun alev geciktirici monomer bilesimini üretmek için bir islem olup, alev geciktirici monomer bilesimini olusturmak için öncü monomer biriminin amin türüyle reaksiyona sokulmasini içerir.
12. Istem 1 1 ,in islemi olup, burada reaksiyon suyun varliginda uygulanir.
13. Istem 11 veya 12°nin islemi olup, burada amin türü reaksiyon asamasinda polifosfatin amin türüne (PzN) orani 1:0.2 ila 1:153tir.
14. Istem 11 ila 13”ün herhangi birinin islemi olup, burada alev geciktirici monomer bilesimleri daha sonra serbest radikal polimerizasyonuna tabi tutularak alev geciktirici bir polimer üretilir.
15. Istem 7 ila 105un herhangi birine uygun sulu dispersiyonu ve ayrica agirlikça 100 pay alev geciktirici polimer için agirlikça 1 ila 50 pay alev geciktirici bir katki maddesi içeren bir bilesim.
16. Istem 15`in bilesimi olup, burada alev geciktirici katki maddesi melamin türevi bir alev geciktirici, organik bir alev geciktirici, inorganik bir alev geciktirici, bir organik fosfat, fosfonat veya fosfinat alev geciktirici, bir halojene bilesik alev geciktiricinin biri veya daha fazlasi ve bunlarin karisimlaridir.
17. Istem 16”nin bilesigi olup, burada alev geciktirici katki maddesi melamin siyanürattir.
18. Istem 15 ila 17”nin herhangi birinin bilesimi olup, ayrica poliüretan polimerleri, poliamid polimerleri, poliüre polimerleri, poliakrilat polimerleri veya bunlarin karisimlarinin biri veya daha fazlasiyla karistirilir.
TR2018/07760T 2011-10-31 2012-10-31 Halojensiz alev geciktirici polimerler. TR201807760T4 (tr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201161553460P 2011-10-31 2011-10-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TR201807760T4 true TR201807760T4 (tr) 2018-06-21

Family

ID=47146748

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TR2018/07760T TR201807760T4 (tr) 2011-10-31 2012-10-31 Halojensiz alev geciktirici polimerler.

Country Status (11)

Country Link
US (1) US9290639B2 (tr)
EP (1) EP2773722B1 (tr)
JP (2) JP6150812B2 (tr)
KR (1) KR102064933B1 (tr)
CN (1) CN104011176B (tr)
BR (1) BR112014010342B1 (tr)
CA (1) CA2853948C (tr)
ES (1) ES2671925T3 (tr)
MX (1) MX351640B (tr)
TR (1) TR201807760T4 (tr)
WO (1) WO2013066906A1 (tr)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2854137C (en) * 2011-10-31 2019-08-27 Lubrizol Advanced Materials, Inc. Non-halogen flame retardant as coatings for fibrous filter media
CN110655610A (zh) * 2013-05-28 2020-01-07 路博润高级材料公司 无卤阻燃聚合物
JP5604566B1 (ja) * 2013-07-05 2014-10-08 株式会社フジクラ メンブレンスイッチ及び座席装置
CN103387760A (zh) * 2013-08-22 2013-11-13 吴江市冰心文教用品有限公司 一种透明防火颜料
CN104194152B (zh) * 2014-08-27 2017-01-11 江门市道生工程塑料有限公司 一种无卤阻燃聚丙烯复合材料及其制备方法
US20180022967A1 (en) * 2014-12-30 2018-01-25 3M Innovative Properties Company Halogen-free flame retardant pressure sensitive adhesive and tape
JP6768667B2 (ja) * 2014-12-30 2020-10-14 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ハロゲンフリー難燃性感圧性接着剤及びテープ
CN104725561A (zh) * 2015-02-06 2015-06-24 宁波高新区零零七工业设计有限公司 一种阻燃丙烯腈共聚物及其制备方法
WO2017164120A1 (ja) * 2016-03-24 2017-09-28 三菱ケミカル株式会社 (メタ)アクリル系樹脂組成物、樹脂成形体、樹脂積層体及び(メタ)アクリル系樹脂組成物の製造方法
CN106478880B (zh) * 2016-10-16 2018-06-19 韶关市连邦环保新材料股份有限公司 一种聚丙烯酸酯树脂及其制备方法
CN108264720B (zh) * 2017-12-29 2021-04-06 上海力道新材料科技股份有限公司 一种无析出无卤素阻燃剂组合物
CN108250352B (zh) * 2017-12-29 2021-04-06 上海力道新材料科技股份有限公司 一种阻燃剂及其制备方法
CN108250646B (zh) * 2017-12-29 2021-04-06 上海力道新材料科技股份有限公司 一种无卤素阻燃剂组合物
CN108395513A (zh) * 2018-03-29 2018-08-14 苏州博莱特新材料有限公司 一种阻燃型水性聚氨酯树脂
CN111088544B (zh) * 2018-10-23 2022-08-12 中国石油化工股份有限公司 阻燃剂及阻燃腈纶及其制备方法
CN110183485B (zh) * 2019-06-03 2021-07-23 陕西科技大学 一种反应型磷酸酯类单体及其制备方法
CN112480319B (zh) * 2019-09-11 2023-06-16 广东广山新材料股份有限公司 一种丙烯酰胺共聚物及其制备方法和应用
KR102346010B1 (ko) * 2019-09-19 2021-12-31 코오롱인더스트리 주식회사 말단이 불포화기로 캡핑된 인 함유 수지, 이의 제조방법 및 상기 말단이 불포화기로 캡핑된 인 함유 수지를 포함하는 수지 조성물
CN111171234B (zh) * 2020-02-13 2021-10-01 中国科学技术大学 一种聚合型阻燃增效相容剂及其制备方法和应用
CN112480412A (zh) * 2020-10-31 2021-03-12 山东天一化学股份有限公司 一种乙酰乙酰基官能化的含磷树脂阻燃剂及其制备方法
JP2022161711A (ja) * 2021-04-09 2022-10-21 アイカ工業株式会社 難燃性樹脂組成物。

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3883463A (en) 1973-09-27 1975-05-13 Stauffer Chemical Co Flame retardant binder for flammable materials
JPS5377292A (en) * 1976-12-20 1978-07-08 Toyo Soda Mfg Co Ltd Preparation of novel resin
US5191029A (en) * 1988-12-29 1993-03-02 Deldonno Theodore A Phosphorus-containing polymer compositions containing water-soluble polyvalent metal compounds
FR2680184B1 (fr) * 1991-08-05 1993-11-19 France Institut Textile Procede d'ignifugation de materiaux textiles.
JP3907585B2 (ja) * 2000-07-04 2007-04-18 関西ペイント株式会社 りん酸基含有樹脂
KR100505317B1 (ko) 2003-08-04 2005-08-02 제일모직주식회사 난연성 열가소성 수지 조성물
JP2007182652A (ja) 2006-01-10 2007-07-19 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd ポリエステル系繊維の難燃加工剤とその加工方法
CN101024920A (zh) 2006-02-21 2007-08-29 罗门哈斯公司 处理过的制品及其制造和使用方法
US20100261862A1 (en) * 2008-01-30 2010-10-14 Kurashiki Boseki Kabushiki Kaisha Flame-retardant processing method and flame-retarded cellulosic fiber material
JP2009197123A (ja) * 2008-02-21 2009-09-03 Nisshin Chem Ind Co Ltd 難燃性添加物
JP5669363B2 (ja) * 2009-03-31 2015-02-12 昭和電工株式会社 樹脂組成物及びこれで処理された紙又は繊維加工品
KR20100126612A (ko) * 2009-05-23 2010-12-02 풍림유화공업(주) 인 함유 모노머를 이용한 난연제
CN102071032A (zh) 2010-12-27 2011-05-25 北京盛大华源科技有限公司 一种含有氨基树脂的阻燃剂及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN104011176A (zh) 2014-08-27
JP6150812B2 (ja) 2017-06-21
CN104011176B (zh) 2016-06-01
JP2014532782A (ja) 2014-12-08
WO2013066906A1 (en) 2013-05-10
CA2853948A1 (en) 2013-05-10
MX2014005066A (es) 2014-08-22
US20140296396A1 (en) 2014-10-02
BR112014010342A2 (pt) 2017-04-18
KR20140096099A (ko) 2014-08-04
US9290639B2 (en) 2016-03-22
EP2773722B1 (en) 2018-03-28
ES2671925T3 (es) 2018-06-11
JP2016216748A (ja) 2016-12-22
BR112014010342B1 (pt) 2021-03-30
MX351640B (es) 2017-10-23
CA2853948C (en) 2020-08-25
KR102064933B1 (ko) 2020-01-10
EP2773722A1 (en) 2014-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TR201807760T4 (tr) Halojensiz alev geciktirici polimerler.
EP3004288B1 (en) Non-halogen flame retardant polymers
EP2773709B1 (en) Non-halogen flame retardant as coatings for fibrous filter media
KR101714744B1 (ko) 친환경 인계 난연 점착제 조성물 및 이의 제조 방법
JP2019513853A (ja) 疎水性アンチモンフリー難燃剤を含む水性ポリマー分散体
AU2013234384B2 (en) Curable formaldehyde free compositions as binders having solvent resistance
CN108603332A (zh) 纤维处理剂、纤维加工品的制造方法及纤维加工品
KR100855598B1 (ko) 에틸렌 비닐에스테르 공중합체를 함유하는 수성 에멀젼
DE2242939A1 (de) Neue hexahydrotriazin-phosphonate und deren verwendung
US20140296463A1 (en) Polymers derived from itaconic acid