TR201910045T4

TR201910045T4 - Sulu kaplama kompozisyonu.

Info

Publication number: TR201910045T4
Application number: TR2019/10045T
Authority: TR
Inventors: Iwasawa Akira; Fujimoto Takeshi; Kawai Yasuhiro; Hamanaka Seiji
Original assignee: Dainippon Toryo Kk
Priority date: 2011-03-31
Filing date: 2012-03-30
Publication date: 2019-07-22
Also published as: EP2692807B1; EP2692807A1; RS59116B1; KR101538253B1; CA2831283C; WO2012133752A1; KR20140005302A; SMT201900498T1; PT2692807T; HUE044564T2; AU2012233283A1; EP2692807A4; CA2831283A1; JPWO2012133752A1; JP5632918B2; US8940823B2; ES2739098T3; US20140011928A1; AU2012233283B2; PL2692807T3

Abstract

Bir renklendirici, su, bir sulandırma ajanı, bir amin bileşiği, bir hidroksil grubu-içeren organik solvent ve bir polikarbonat grubuna sahip olan bir üretan reçine içermesi ile karakterize edilen bir su-bazlı kompozisyona göre, kaplanacak olan bir nesne üzerine uygulanan bir kaplama filminin parlaklığının kolayca kontrol edilebildiği, iyi saklama stabilitesine sahip olan ve kaplanacak olan bir nesnede sulandırma özellikleri bakımından kusursuz olan ve nozül tıkanmasına yol açmadan sürekli deşarj stabilitesine sahip olan bir su-bazlı kaplama kompozisyonu sağlanmaktadır.

Description

TARIFNAME SULU KAPLAMA KOMPOZISYONU TEKNIK ALAN Bu bulus, su bazli bir kaplama kompozisyonuyla ve kaplanacak olan bir nesne üzerine uygulanan bir kaplama filminin parlakligini kolay bir biçimde kontrol edebilen, iyi saklama stabilitesine sahip olan ve kaplanacak olan bir nesnedeki sulandirma özellikleri bakimindan kusursuz olan ve sürekli desarj stabilitesine sahip olan bir su bazli kaplama kompozisyonu ile ilgilidir. TEKNIGIN ARKA PLANI Simdiye kadar, bir pigment, bir baglayici reçine, bir pigment sulandirma ajani, bir solvent ve sudan olusan kaplama kompozisyonunda, çesitli solventler kullanilan çok sayida kaplama kompozisyonu önerilmistir. Geleneksel bir kaplama kompozisyonu kullanarak bir mürekkep püskürtme yoluyla kaplanmis bir ürün elde edilmesi durumunda, stabil olmayan bir enjeksiyon meydana gelir ve kaplanacak olan bir nesneye yapisma bakimindan kötü olan bir kaplanis ürün elde edilir. Böyle bir kaplama kompozisyonunun kaplanmis bir ürün yapmak için kullanilmasi halinde bile, kaplama filminin parlakligi kötüdür veya renk gelisimi yeterli degildir. Parlakliktaki azalmaya genellikle kaplama kompozisyonundaki pigmentlerin, solventlerin, reçinelerin ve sulandirma ajanlarinin seçimiyle kaplama kompozisyonun uygunlugundaki kötülesme yol açar. Bunu önlemek için bir parlaklik iyilestirici eklenmesi yöntemi gerçeklestirilir (örnegin bkz. Patent Dokümani 1). Ayni zamanda, kaplanacak olan bir nesneden arayüzey gerilimindeki bir farkta yetersiz bir ayarlamanin sizmaya yol açtigi bilinmektedir. Bunu çözmek için bir yüzey uyumlastiricinin eklendigi bir yöntem gerçeklestirilmektedir. Bu arada, Patent Dokümani 2, sizmayi iyilestirmek için bir yöntem olarak bir silikon akrilik reçine eklenme yöntemini ifsa etmekte, fakat su bazli bir kompozisyon saglamamaktadir. Patent Dokümanlari 3-5 bir renklendirici ajan, su, bir sulandirici ajan, bir amin bilesigi, bir hidroksil grubu içeren organik solvent ve bir polikarbonat grubuna sahip olan bir üretan reçine içeren bir sulu kaplamak kompozisyonunu ifsa etmektedir. Bu dokümanlar ayni zamanda bir akrilik dispersiyon ya da bir akrilik emülsiyon dahil edilebildigini göstermektedir. GELENEKSEL TEKNIK DOKÜMAN LISTESI PATENT DOKÜMANI Patent Dokümani 2: Japon Patent Basvurusu Yayin No. H10-251573 Patent Dokümani 5: EP 2281848 A1 BULUSUN ÖZETI BULUS TARAFINDAN ÇÖZÜLECEK OLAN SORUNLAR Bulusun bir amaci yukarida Sözü edilen sorunlari çözmek ve bir kaplama filminin parlakligini kontrol edebilen, iyi saklama stabilitesine sahip olan, kaplanacak olan bir nesnede sulandirrna özellikleri bakiminda kusursuz olan, sizdirma olmayan ve nozül tikanmasina yol açmadan sürekli desarj stabilitesi bakimindan da kusursuz olan bir su bazli kaplama kompozisyonu saglamaktir. SORUNLARIN ÇÖZÜM YOLU Bu bulusa göre, istem 17e göre bir su bazli kaplamak bilesimi saglanmaktadir. BULUSUN ETKILERI Bulusa göre, kaplanacak olan bir nesne üzerine uygulanan bir kaplama filminin parlakligini kolay bir biçimde kontrol edebilen, iyi saklama stabilitesine sahip olan ve kaplanacak olan bir nesnedeki sulandirma özellikleri bakimindan kusursuz olan ve nozül tikanmasina yol açmadan sürekli desarj stabilitesine sahip olan bir su bazli kaplama kompozisyonu saglanabilir. BULUSU GERÇEKLESTIRMEK IÇIN YÖNTEM Bu bulusun uygulamalari asagida detayli olarak tarif edilecektir. Bulusa göre su bazli kaplama kompozisyonu bir renklendirici, su, bir sulandirma ajani, bir amin bilesigi, bir hidroksil grubu içeren organik solvent ve bir polikarbonat grubuna sahip olan bir üretan reçine içermesi ile karakterize edilir. Bulus iyi saklama stabilitesine sahip olan, kaplanacak olan bir nesnede sulandirma özellikleri bakimindan kusursuz olan, kaplanacak olan bir nesne üzerine uygulana bir kaplama filminin parlakligini kolayca kontrol edebilen ve sürekli desarj stabilitesi bakimindan kusursuz olan bir su bazi kaplama kompozisyonu ile sonuçlanmaktadir. Bulus, bir hidroksil grubu içeren bir organik solvent ve bir amin bilesiginin su bazli kaplama kompozisyonuna eklenmesi yoluyla kaplanacak olan bir nesne üzerine uygulanan bir kaplamanin parlakligini kontrol edebilmekte olup, burada söz konusu parlaklik bir sulandirma ajani veya bir baglayici reçine eklenmesi suretiyle azaltilir. Bulusa göre kaplama kompozisyonu, buna su eklenen bir su bazli kaplama kompozisyonudur. Su olarak iyon degisimi uygulanmis su, damitik su veya benzeri ya da ultrasaf su gibi saf su kullanilabilir. Su bazli kaplama kompozisyonu uzun zaman dilimleri boyunca saklandigi zaman, mantar veya bakterilerin olusmasini önlemek için ultraviyole isinla sterilize edilen su vs. kullanilabilir. Uygulama sirasindaki kaplama kosullarina bagli olarak, su bazli kaplama kompozisyonunun Bulusa göre su bazli kaplama kompozisyonunda kullanilan renklendirici belirli bir biçimde sinirli degildir ve bildik bir kaplama kompozisyonunda kullanilan bir pigment kullanilabilir. Organik pigmentler örnegin sunlari kapsamaktadir: Pigment Yesil 7, 36; Piginent Siyah 1, 7, 26, 27 ve 28; ve benzerleri. Inorganik pigmentler titanyum oksit, demir oksit, ultramarin, krom sarisi, çinko süllür, kobalt mavisi, baryum sülfat, kalsiyum karbonat ve benzerlerini kapsayabilir. Piginentin bilesime katilan miktari istege bagli olarak kullanilacak pigmentlerin türüne vs. bagli olarak belirlenebilir. Bununla birlikte, su bazli kaplama kompozisyonunda kütlece tercihen % 0.5-10, daha tercihen kütlece % l-5°tir. Bulusa göre su bazli kaplama kompozisyonunda kullanilan sulandirma ajani özellikle kisitli degildir. Bildik bir kaplama kompozisyonunda kullanilan bir sulandirma ajani, genel olarak kati ve sivi arasindaki yüzey gerilimini azaltici bir etkiye sahip olan anyonik, katyonik ya da iyonik olmayan bir yüzey aktif ajan kullanilabilir. Su bazli kaplama kompozisyonunda organik bir solventin toplam miktari kütlece % 357ten az olmadigi zaman, sulandirma ajani tercihen iyonik olmayan bir yüzey aktif maddedir. Iyonik olmayan yüzey aktif maddeler örnegin polioksietilen tridesil eter, polioksietilen dodesil eter, polioksialkilen tridesil eter, polioksietilen izodesil eter, polioksietilen lauril eter, polioksialkileii lauril eter, polioksietilen alkil eter, polioksietilen oleil eter, polioksietilen stirenlenmis fenil eter ve benzerlerini kapsamaktadir. Sulandirma maddesinin bilesime katilan miktari istege bagli olarak kullanilacak pigmentlerin türüne vs. bagli olarak belirlenebilir. Su bazli kaplama kompozisyonunda kütlece tercihen % 0.01 -5, daha tercihen kütlece % O.5-3°tür. Bir polikarbonat grubuna sahip olan üretan reçinesi özellikle kisitli degildir fakat tercihen bir polikarbonat poliol, bir poliizosiyanat ve bir zincir uzatma maddesinin reaksiyonu yoluyla elde edilen bir üretan reçinedir, daha tercih edilen sekliyle 30 nm ila 300 nm arasinda bir ortalama partikül çapina sahip olan bir üretan dispersiyonu ya da üretan emülsiyonudur. 30 nm ila 300 nm arasinda bir ortalama partikül çapina sahip olan üretan dispersiyonu ya da üretan emülsiyonunun kullanilmasiyla, iyi saklama stabilitesi sergileyen bir su bazli kaplama kompozisyonu hazirlanabilir ve dahasi, kusursuz sürtünme renk dayanimi (solmazligi) sergileyen bir kaplama filmi olusturulabilir. Polikarbonat poliol özellikle kisitli degildir fakat örnegin 1,6- heksandiol polikarbonat poliol, 1,4-bütandiol polikarbonat poliol, poli- l,4-sikloheksan dimetilen karbonat dio] ve benzerlerini kapsamaktadir. Bir polikarbonat grubuna sahip olan üretan reçinenin disinda, ayrica bir poliizosiyanat, bir poliol ve bir zincir uzatma ajaninin reaksiyonu yoluyla elde edilen bildik bir kaplama kompozisyonunda kullanilan bir üretan reçine eklenebilir. Bir blok yapi bir poliizosiyanat, bir poliol ve bir zincir uzatma ajaninin reaksiyonu yoluyla olusturulur, bu yapi bir üretan reçinenin su içerisinde dispersiyon stabilitesini iyilestirir. Poliizosiyanat bilesenleri burada en az iki izosiyanat grubuna sahip olan bilesiklerdir ve örnegin tolilen diizosiyanat, ksilen diizosiyanat, difenilmetan diizosiyanat, naftilen diizosiyanat, 1 ,3- bis(izosiyanatometil)sikloheksan, tetrametilksilen diizosiyanat, heksametilen diizosiyanat, izoforon diizosiyanat, disikloheksilmetan diizosiyanat, norboman diizosiyanat ve benzerlerinden olusan poliizosiyanat bilesiklerini kapsamaktadir. Bu poliizosiyanat bilesenleri arasinda ksilen diizosiyanat, l ,3 - bis(izosiyanatometil)sikloheksan, heksametilen diizosiyanat, izoforon diizosiyanat, 4,4'-metilen bis(sikloheksil izosiyanat) ya da norbornan diizosiyanat tercih edilebilir. Bu poliizosiyanat bilesenleri tek basina ya da iki veya daha fazlasinin kombinasyonu halinde kullanilabilir. Poliol bilesenleri burada en az iki hidroksil grubuna sahip olan bilesiklerdir ve örnegin poliester poliol, polieter poliol, akrilik poliol Poliester poliol özellikle kisitli degildir fakat örnegin polietilen adipat, polietilen propilen adipat, polibütilen adipat, poliheksametilen adipat, polidietilen adipat, polietilen terefitalat, polietilen izofitalat, poliheksametilen izofitalat, polietilen süksinat, polibütilen süksinat, polietilen sebakat, polibütilen sebakat, poli-e-kaprolaktam diol, poli(3- metil- l ,5-pentilen adipat) ve benzerlerini kapsayabilir. Polieter poliol özellikle kisitli degildir fakat örnegin polioksitetrametilen glikol, polioksipropilen glikol, polioksietilen glikol, polioksietilen-propilen glikol ve benzerlerini kapsayabilir. Akrilik poliol özellikle kisitli degildir fakat zaruri bir bilesen olarak Örnegin 2-hidroksietil (met)akrilat, 3-hidr0ksipropil (met)akrilat, 4- hidroksibütil (met)akrilat ve bunlarin s-kaprolakton eklentisi gibi bir akrilik monomere sahip olanlari kapsayabilir. Bu poliol bilesenleri tek basina ya da iki veya daha fazlasinin kombinasyonu halinde kullanilabilir. Zincir uzatma ajani örnegin düsük molekül agirligina sahip olan polihidrik alkol ve düsük molekül agirligina sahip olan poliamini kapsayabilir. Düsük molekül agirlikli polihidrik alkoller örnegin etilen glikol, dietilen glikol, l,4-bütandiol, 1,6-heksandiol, 3-metil-l,5- pentanediol, neopentil glikol, trimetilolpropan, pentaeritritol, 1,4- sikloheksan dimetanol, dimetilolalkan asitleri örnegin dimetilolbütanoik asit, dinietilolpropiyonik asit ve benzerlerini kapsamaktadir. Düsük molekül agirlikli poliaminler örnegin etilen diamin, trimetilen diamin, tetrametilen diamin, heksametilen diamin, hidrazin, piperazin, izoforon diamin, norbornan diamin, diaminodifenil metan, diaminosikloheksil metan, tolilen diamin, ksilen diamin, dietilen triamin, trietilen tetramin, tetraetilen pentamin, iminobispropilamin ve benzerlerini kapsamaktadir. Bu zincir uzatma ajanlari tek basina ya da iki veya daha fazlasinin kombinasyonu olarak kullanilabilir. Bir polikarbonat grubuna sahip ola üretan reçinenin yaninda bir akrilik reçine de içerilebilir. Bir kaplama filminin solvent direnci bir akrilik reçine içerilmesi yoluyla iyilestirilir. Akrilik reçine tercih edilen sekliyle 60°C°den daha az bir cam geçis sicakligina (Tg) ve 50 nm ila 200 nm,lik bir ortalama partikül çapina sahip olan bir akrilik dispersiyon veya akrilik emülsiyonu kapsamaktadir. Cam geçis sicakligi (Tg) 60°Ciden az hale getirilerek kusursuz bir sürtünme renk hasligi ve alkol direnci elde edilebilir. 50 nm ila 200 nm arasinda ortalama partikül çapi saglanarak iyi saklama stabilitesine sahip olan bir su bazli kaplama kompozisyonu hazirlanabilir. Bir akrilik reçine teskil eden monomer bilesenleri metil (met)akrilat, etil (met)akrilat, n-propil (met)akrilat, izopropil (met)akrilat, n-bütil (met)akrilat, izobütil (met)akri1at, pentil (met)akrilat, 2-eti1- heksil (met)akrilat, desil (met)akrilat, dodesil (met)akrilat, stearil (met)akri1at, a-kloroetil (met)akrilat, sikloheksil (met)akrilat, fenil (met)akrilat, metoksietil (met)akrilat, etoksietil (met)akrilat, metoksi- propil (met)akrilat, etoksipropil (met)akrilat, stiren, metil stiren, klorostiren, metoksistiren, (met)akrilik asit, krotonik asit, itakonik asit, itakonik asit yari ester, maleik asit, maleik asit yari ester, 2- hidroksietil (met)akrilat, 2(3)-hidroksipropil (met)akrilat, 4- hidroksibütil akrilat, allil alkol, inono (met)akrilik asit ester of polihidrik alkol, (met)akrilamid, maleik amid, 2-aminoetil (met)akrilat, dimetilaminoetil (met)akrilat, 3-amjnopropil (met)akrilat, 2-bütilaminoetil (met)akri1at, Vinil piridin, glisidil (met)akri1at, allil glisidil eter, iki glisidil grubundan fazlasina sahip olan bir epoksi bilesigi, N-metilolakrilamid, Vinil asetat, Vinil klorür, etilen, bütadien, akrilonitril, dialkil fumarat ve benzerlerini kapsamaktadir. Bunlar arasinda, stiren, metil metakrilat veya (met)akrilik asit içeren bir akrilik reçine tercih edilebilir. Bulusa göre su bazli kaplama kompozisyonunda, hidroksil grubu içeren organik solvent (A) bir molekülde bir hidroksil grubuna sahip olan bir solvent ve (B) bir molekülde iki ya da daha fazla hidroksil grubuna sahip olan bir solvent seklinde siniflandirilabilir. (A) içerisinde bir molekülde hidroksil gruplarinin sayisinin bir oldugu hidroksil grubu içeren organik solventler etilen glikol eterler, örnegin etilen glikol metil eter, etilen glikol etil eter, etilen glikol propil eter, etilen glikol bütil eter, etilen glikol pentil eter, etilen glikol heksil eter, etilen glikol sikloheksil eter, etilen glikol fenil eter, etilen glikol beiizil eter, etilen glikol izobütil eter, etilen glikol tersiyer bütil eter, dietilen glikol metil eter, dietilen glikol etil eter, dietilen glikol propil eter, dietilen glikol bütil eter, dietilen glikol pentil eter, dietilen glikol heksil eter, dietilen glikol sikloheksil eter, dietilen glikol fenil eter, dietilen glikol benzil eter, dietilen glikol inonobütil eter, dietilen glikol izobütil eter, trietilen glikol metil eter, trietilen glikol etil eter, trietilen glikol propil eter, trietilen glikol bütil eter, trietilen glikol pentil eter, trietilen glikol heksil eter, trietilen glikol sikloheksil eter, trietilen glikol fenil eter, trietilen glikol benzil eter ve trietilen glikol monobütil eter; ve propilen glikol eterler örnegin propilen glikol metil eter, propilen glikol etil eter, propilen glikol propil eter, propilen glikol bütil eter, propilen glikol pentil eter, propilen glikol heksil eter, propilen glikol sikloheksil eter, dipropilen glikol metil eter, dipropilen glikol etil eter, dipropilen glikol propil eter, dipropilen glikol bütil eter, dipropilen glikol pentil eter, dipropilen glikol heksil eter, dipropilen glikol sikloheksil eter, tripropilen glikol metil eter, tripropilen glikol etil eter, tripropilen glikol propil eter, tripropilen glikol bütil eter, tripropilen glikol pentil eter, tripropilen glikol heksil eter ve tripropilen glikol sikloheksil eter; ve benzerlerini kapsamaktadir. Bunlar arasinda etilen glikol monobütil eter, etilen glikol izobütil eter, etilen glikol tersiyer bütil eter, dietilen glikol monobütil eter, dietilen glikol izobütil eter ve trietilen glikol monobütil eter tercih edilebilir. (B) içerisinde bir molekülde hidroksil gruplarinin sayisinin iki veya daha fazla oldugu hidroksil grubu içeren organik solventler etilen glikol, dietilen glikol, trietilen glikol, 1,2-pr0pandiol, 2-metil-l,3- propandiol, 1,3- propandiol, 1,2-bütandiol, 1,3-bütandiol, 1,4- bütandiol, 3-1netil-l,3-bütandiol, neopentil glikol, 1,2-pentan- diol, heksandiol, oktandiol, 1,4-bütilen diol, 1,4- sikloheksandimetanol, gliserin ve trimetilolpropam kapsamaktadir. Bunlar arasinda etilen glikol, dietilen glikol, trietilen glikol, propilen glikol, dipropilen glikol, tripropilen glikol, 3-meti1-l ,3-bütandi01, 2-metil-l ,3-pr0pandiol Hidroksil grubu içeren organik solventte, sürekli desarj stabilitesi ve parlaklik özellikleri açisindan (A) bir molekülde bir hidroksil grubuna sahip olan bir solventin (B) bir molekülde iki ya da daha fazla hidroksil grubuna sahip olan bir solvente olan orani tercihen A:B : az olmasi durumunda, nem tutma kötülesir ve bir mürekkep kaplama veya sprey kaplama vs.°de bir nozül tikanmasi meydana gelir ve bu yüzden sürekli desarj stabilitesi azalabilir. Diger yandan B 170"i asmasi durumunda kurutulmus bir kaplamanin parlakligi azalma egilimindedir. Bulusa göre su bazli kaplama kompozisyonunda, sürekli desarj stabilitesi ve saklama stabilitesi açisindan organik bir solventin toplam miktari tercihen kütlece % 20 ila % 55, daha tercih edilen sekliyle kütlece % 30 ila % 50 arasindadir. Organik solventin toplam miktari kütlece % 20"den az oldugu zaman, su bazli kaplama kompozisyonun kurumasi hizlanir ve mürekkep kaplama veya bir sprey kaplama VS. ,de siklikla bir nozül tikanmasi meydana gelir ve bu yüzden sürekli desarj stabilitesi azalir. Diger yandan, kütlece % 55,i astigi zaman, bir pigment dispersiyonu ve bir reçinenin birikmesine neden olur ve depolama stabilitesi kötülesme egilimindedir. Bulusa göre su bazli kaplama kompozisyonunda, eklenen solvent miktari kütlece % 55 olsa bile, yanma noktasi bulunmaz ve bu yüzden solvent bazli bir materyalinkinden daha yüksek güvenlige sahiptir. Bulusa göre su bazli kaplama kompozisyonunda kullanilan amin bilesigi bir primer amin, bir sekonder amin ve bir tersiyer amini kap samaktadir. Primer amin örnegin metilamin, etilamin, propilamin, izopropilamin, bütilamin, t-bütilamin, heksilamin, benzilamin, etanolamin, izopropanolamin, bütanolamin, heksanolamin, 1,2-pr0pan-diamin, 1,3-pr0pandiamin, l ,4-bütandiamin, l ,6-heksandiainin, pirrolidin, morfolin ve benzerlerini kapsamaktadir. Sekonder amin örnegin dimetilamin, dietilamin, dipropilamin, diizopropilamin, dibütilamin, dietanolamin, diizopropanolamin, N- metiletanolamin, N-etiletanolamin, N-bütiletanolamin, N- bütilizopropanolamin, N-t-bütilizopropanolamin, N,N- dietiletilendiamin, N,N-dimetil-l ,3 -diaminopropan, N,N-dietil- 1,3 - diaminopropan, piperazin ve benzerlerini kapsamaktadir. Tersiyer aininler örnegin trimetilamin, trietilamin, tripropilamin, triizopropilamin, tribütilamin, N-inetildietilamin, N,N- dimetilpropilamin, trietanolamin, N-metildietanolamin, N- etildietanolamin, N-bütildietanolamin, N-t-bütildietanolamin, N,N- dinietiletanolainin, N,N-dietiletanolamin, N,N- dibütiletanolamin, N,N-di-t-bütiletanolamin, triizopropanolamin, N- metildiizopropanolamin, N-etildiizopropanolamin, N- bütildiizopropanolamin, N-t-bütildiizopropano[amin, N,N- dimetilizopropanolamin, N,N-dietilizopropanolamin, N,N- dibütilizopropanolamin, N,N-di-t-bütilizopropanolamin, ve benzerlerini kapsamaktadir. Bulusun bu amin bilesikleri ile kisitli olmadigini söylemek gereksizdir. Bu amin bilesikler iki veya daha fazlasinin kombinasyonu halinde kullanilabilir. Bulusta, amin bilesikleri arasinda düz Zincirli bir amin bilesigi veya suda çözünebilir bir tersiyer amin bilesigi özellikle tercih edilebilir. Spesifik olarak trietilamin, trietanolamin, N-inetildietanolainin, N- etildietanolamin, N,N-dimetiletanolamin, N,N-dietiletanolamin ve benzerlerinin kullanimi özellikle tercih edilebilir. Bulusta kullanilan amin bilesiginin kaynama noktasi araligi, bir kaplamanin parlakligi ve sürekli desarj stabilitesi bakimindan hidroksil grubu içeren organik solvent içerisinde en düsük kaynama noktasina sahip olan bir solvente bagli olarak tercihen -60°C ila +l70°C, daha tercihen -20°C ila +170°C, daha da tercihen -lO°C ila +l40°C arasindadir. Amin bilesiginin kaynama noktasi -60°C,den az bir sicaklik oldugu zaman, amin bilesigi su bazli kaplama kompozisyonunun kurutma adiminda hidroksil grubu içeren organik solventten daha hizli buharlasir ve bir reçinenin agregasyonu hizla sürer ve bu yüzden, bir kaplamanin parlakligi ve sürekli desarj stabilitesi azalma egilimindedir. Diger yandan, +170°C"den daha yüksek bir sicaklik oldugu zaman, kuruma özellikleri kötülesme egilimindedir. Bulusa göre su bazli kaplama kompozisyonunda, parlaklik özellikle ve su direnci açisindan amin bilesiginin hidroksil grubu içeren organik bilesiginin hidroksil grubu içeren organik solvente orani 0.0005,ten az oldugu zaman, parlaklik kötülesme egilimindedir. Diger yandan, 0.1"i astigi zaman, amin bir kaplama içerisinde kalir ve bu yüzden su direnci kötülesme egilimindedir. Bulusa göre su bazli kaplama kompozisyonunda, boyut, kalinlik ve sekil kaplama için uygun oldugu sürece kaplanacak olan bir nesne olarak yaygin bir materyal kullanilabilir. Nesnenin geçici yüzey islemi veya kaplanmasi da gerçeklestirilebilir. Kaplanacak nesne, su bazli kaplama kompozisyonunu güçlükle absorbe eden bir materyal olarak bir demir plaka, bir alüminyum plaka, bir paslanmaz plaka, bir seramik kapli plaka ve ana bilesen olarak polietilen tereftalat (PET), polikarbonat, akrilonitril bütadien stiren (ABS), vinil klorür, akrilik, poliester ya da benzeri gibi bir reçine veya bunlarin kaliplanmis bir ürününü içermektedir. Kaplanacak olan bu nesneler iyi yapisma özellikleri ve parlaklik elde etmek için kullanilir. Bunun yani sira, su bazli kaplama kompozisyonuna karsi absorbe edilebilirlik özelligine sahip olan bir kagit ya da kumas üzerinde sizma olmadan kaplama gerçeklestirilebilir. Bulusa göre su bazli kaplama kompozisyonu bir kaplama filmi olarak çesitli islevler vermek için bir köpük önleyici, bir yüzey uyumlastirici, bir çökme önleyici madde, bir ultraviyole isik sogurucu, bir isik stabilizörü ve benzerlerini içerebilir. ÖRNEKLER Bulus asagida Örnekler ve Karsilastirma Örneklerine istinaden daha ayrintili ele alinacaktir. Örnekler ve Karsilastirma Örneklerinin açiklamasi ile ilgili olarak, ""parça(lar)" ve "%" kütle kriterlerine dayalidir. Bir karistirici, bir geri akis kondansatörü, bir termometre ve nitrojen vermek için bir tüp ile donatilan dört boyunlu bir siseye 100.0 parça 1,6-heksandiol polikarbonat poliol (ortalama molekül agirligi 2000), 4.0 parça neopentil glikol, 1.0 parça trimetilolpropan, 10.0 parça 1,4- sikloheksandimetanol, 8.0 parça dimetilolpropionik asit, 0.001 parça dibütil kalay dilaurat ve 110.0 parça metil etil keton yüklenir. Bunlar homojen bir biçimde karistirilir. Bundan sonra, 80.0 parça 4,4"-metilen bis(sikloheksil izosiyanat) eklenir ve metil etil keton içerisinde bir karboksil grubu içeren izosiyanat grubu ile sonlanan prepolimer solüsyonu elde etmek için 6 saat boyunca 70°C°de reaksiyona tabi tutulur. Solüsyon 40°C veya daha düsük bir sicakliga sogutulur ve daha sonra 6.0 parça trietilamin eklenir ve bundan sonra dakika boyunca 40°C"de bir nötralizasyon reaksiyonu gerçeklestirilir. Daha sonra, nötralize edilmis solüsyon 30°C ya da daha düsük bir sicakliga sogutulur ve içerisinde polikarbonat grubu içeren izosiyanat grubu ile sonlanan bir prepolimerin nötralize edilmis ürününün disperse edildigi bir dispersiyon elde etmek için bir dispers biçagi kullanarak 430.0 parça su yavasça eklenir. Dispersiyona 20.0 parça su içerisinde 1.35 parça dietilen triamin çözündürülerek olusturulan bir amin sulu solüsyonu eklenir ve ayrica, 5.0 parça % 50 hidrazin sulu solüsyonu eklenir ve daha sonra 2 saat boyunca reaksiyona tabi tutulur. Bundan sonra, % 35"lik bir kati içerigine, 40 mPa-s"lik bir Viskozite degerine, : 15 asit degerine, : 30 nm°lik bir ortalama partikül çapina (d50) ve Tg = 45°C sahip olan bir polikarbonat grubu içeren poliüretan dispersiyonu elde etmek için 30°C7de düsük basinç altinda bir solvent uzaklastirma islemi gerçeklestirilir. Bir karistirici, bir geri akis kondansatörü, bir termometre ve nitrojen vermek için bir tüp ile donatilan dört boyunlu bir siseye 100.0 parça 1,4-bütandiol polikarbonat poliol (ortalama molekül agirligi 2000), 4.0 parça neopentil glikol, 1.0 parça trimetilolpropan, 10.0 parça 1,4- sikloheksandimetanol, 8.0 parça dimetilolpropionik asit, 0.001 parça dibütil kalay dilaurat ve 110.0 parça metil etil keton yüklenir. Bunlar homojen bir biçimde karistirilir. Bundan sonra, 80.0 parça 4,4"- metilen bis(sikloheksil izosiyanat) eklenir ve metil etil keton içerisinde bir karboksil grubu içeren izosiyanat grubu ile sonlanan prepolimer solüsyonu elde etmek için 6 saat boyunca 70°Clde reaksiyona tabi tutulur. Solüsyon 40°C veya daha düsük bir sicakliga sogutulur ve daha sonra 6.0 parça trietilamin eklenir ve bundan sonra dakika boyunca 40°C°de bir nötralizasyon reaksiyonu gerçeklestirilir. Daha sonra, nötralize edilmis solüsyon 30°C ya da daha düsük bir sicakliga sogutulur ve içerisinde polikarbonat grubu içeren izosiyanat grubu ile sonlanan bir prepolimerin nötralize edilmis ürününün disperse edildigi bir dispersiyon elde etmek için bir dispers biçagi kullanarak 430.0 parça su yavasça eklenir. Dispersiyona 20.0 parça su içerisinde 1.35 parça dietilen triamin çözündürülerek olusturulan bir amin sulu solüsyonu eklenir ve ayrica, 5.0 parça % 50 hidrazin sulu solüsyonu eklenir ve daha sonra 2 saat boyunca reaksiyona tabi tutulur. Bundan sonra, % 35,1ik bir kati içerigine, 46 mPa-s,lik bir Viskozite degerine, = 15 asit degerine, = 34 nm"lik bir ortalama partikül çapina (d50) ve Tg = 50°C sahip olan bir polikarbonat grubu içeren poliüretan dispersiyonu elde etmek için 30°C°de düsük basinç altinda bir solvent uzaklastirma islemi gerçeklestirilir. Bir karistirici, bir geri akis kondansatörü, bir termometre ve nitrojen vermek için bir tüp ile donatilan dört boyunlu bir siseye 100.0 parça poli-l ,4-skloheksan dimetilen karbonat diol (ortalama molekül agirligi parça dimetilolpropionik asit, 0.001 parça dibütil kalay dilaurat ve 110.0 parça metil etil keton yüklenir. Bunlar homojen bir biçimde karistirilir. Bundan sonra, 31.0 parça heksametilen diizosiyanat ve 41.0 parça 4,4,-metilen bis(sikloheksil izosiyanat) eklenir ve metil etil keton içerisinde bir karboksil grubu içeren izosiyanat grubu ile sonlanan prepolimer solüsyonu elde etmek için 6 saat boyunca 70°C°de reaksiyona tabi tutulur. Solüsyon 40°C veya daha düsük bir sicakliga sogutulur ve daha sonra 6.0 parça trietilamin eklenir ve bundan sonra 30 dakika boyunca 40°C"de bir nötralizasyon reaksiyonu gerçeklestirilir. Daha sonra, nötralize edilmis solüsyon 30°C ya da daha düsük bir sicakliga sogutulur ve içerisinde polikarbonat grubu içeren izosiyanat grubu ile sonlanan bir prepolimerin nötralize edilmis ürününün disperse edildigi bir dispersiyon elde etmek için bir dispers biçagi kullanarak 430.0 parça su yavasça eklenir. Dispersiyona 20.0 parça su içerisinde 1.35 parça dietilen triamin çözündürülerek olusturulan bir amin sulu solüsyonu eklenir ve ayrica, 5.0 parça % 50 hidrazin sulu solüsyonu eklenir ve daha sonra 2 saat boyunca reaksiyona tabi tutulur. Bundan sonra, % 35'lik bir kati içerigine, 52 mPa-s"lik bir Viskozite degerine, = 17 asit degerine, = 39 nmalik bir ortalama partikül çapina (d50) ve Tg = 40°C sahip olan bir polikarbonat grubu içeren poliüretan dispersiyonu elde etmek için 30°C,de düsük basinç altinda bir solvent uzaklastirma islemi gerçeklestirilir. < Reçine 4 sentezi (polikarbonat grubu içermeyen üretan di spersiyonu ! Bir karistirici, bir geri akis kondansatörü, bir termometre ve nitrojen vermek için bir tüp ile donatilan dört boyunlu bir siseye 20.0 parça neopentil glikol, 1.0 parça trimetilolpropan, 5.5 parça 1,4- sikloheksandimetanol, 5.5 parça dimetilolpropionik asit, 0.001 parça dibütil kalay dilaurat ve 1 10.0 parça metil etil keton yüklenir. Bunlar homojen bir biçimde karistirilir. Bundan sonra, 12.0 parça heksametilen diizosiyanat ve 82.0 parça 4,4"-metilen bis(sikloheksil izosiyanat) eklenir ve metil etil keton içerisinde bir karboksil grubu içeren izosiyanat grubu ile sonlanan prepolimer solüsyonu elde etmek için 6 saat boyunca 70°C"de reaksiyona tabi tutulur. Solüsyon 40°C veya daha düsük bir sicakliga sogutulur ve daha sonra 42 parça trietilamin eklenir ve bundan sonra 30 dakika boyunca 40°C°de bir nötralizasyon reaksiyonu gerçeklestirilir. Daha sonra, nötralize edilmis solüsyon 30°C ya da daha düsük bir sicakliga sogutulur ve içerisinde bir izosiyanat grubu ile sonlanan bir prepolimerin nötralize edilmis ürününün disperse edildigi bir dispersiyon elde etmek için bir dispers biçagi kullanarak 250.0 parça su yavasça eklenir. Dispersiyona 20.0 parça su içerisinde 1.35 parça dietilen triamin çözündürülerek olusturulan bir amin sulu solüsyonu eklenir ve ayrica, 5.0 parça % 50 hidrazin sulu solüsyonu eklenir ve daha sonra 2 saat boyunca reaksiyona tabi tutulur. Bundan sonra, % ,1ik bir kati içerigine, 61 mPa°s71ik bir Viskozite degerine, = 20 asit degerine, = 40 nm"lik bir ortalama partikül çapina (d50) ve Tg = 50°C sahip olan hiç polikarbonat grubu içermeyen stabil bir poliüretan dispersiyonu elde etmek için 30°C°de düsük basinç altinda bir solvent uzaklastirma islemi gerçeklestirilir. Bir karistirici, bir geri akis kondansatörü ve bir termometre ile donatilan dört boyunlu bir siseye 60 parça su, 0.6 parça polioksietilen stiril fenil eter sülfürik asit ester amonyum tuzu ve 2 parça polioksialkilen alkil eter yüklenir, 70°C,ye isitilir ve 0.2 parça potasyum persülfat eklenir. Daha sonra, 7.0 parça bütil akrilat, 0.8 parça akrilik asit, 24.0 parça stiren ve 48.2 parça metil metakrilattan olusan bir karisim damlatarak eklenir. Bundan sonra 60 parça su eklenir ve pH = 9 olacak sekilde sulu amonyakla ayarlanir. Kati içerigi = % 41, ortalama partikül çapi (d50) = 75 nm, Tg = 81°C ve asit degeri = 8 olan iyi bir akrilik reçine dispersiyonu elde edilir. Pigment olarak karbon karasi (ürün adi: Special Black 550, üretici Evonik Degussa), bakir fitalosiyanin (ürün adi: Irgalite Blue 8700, üretici Ciba), kuinoksalindion (ürün adi: Hostaperm Yellow HSG, üretici Clariant), dimetil kuinakridon (ürün adi: Super Magenta RG, üretici DIC), titanyum dioksit (ürün adi: TR92, üretici Huntsman) kullanilir. Sulandirici ajan olarak poioksietilen stirenlenmis fenil eter (HLB = 14 18), polioksietilen tridesil eter (HLB = 13), polioksietilen lauril eter (HLB = 14), polioksietilen izodesil eter (HLB = 16) kullanilir. Köpük önleyici A olarak SN Defoamer 1312 (üretici San Nopcu Limited) kullanilir ve köpük önleyici B olarak EnviroGem AD01 (üretici Air Products) kullanilir. Yüzey uyumlastirici A olarak TSF4446 (polieter modifiye silikon yagi, üretici Momentive) kullanilir ve yüzey uyumlastirici B olarak kullanilir. açiklamasinin uygulamalari olarak örnek 239-244) Bir köpük önleyici, bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde bir hidroksil grubuna sahip olan), bir pigment, bir sulandirma ajani ve iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 30"u) karistirilir ve pigmentin ortalama partikül çapi (d50) 80 nm ila 120 nm olana kadar bir boncuklu ögütücü kullanarak birlikte yogrulur. Bundan sonra, elde edilen reçineler 1-5, bir yüzey uyumlastirici, bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde iki ya da daha fazla hidroksil grubuna sahip olan), bir amin bilesigi ve bir iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 70li) eklenir ve su bazli bir kaplama kompozisyonu hazirlamak için bir disper kullanarak yeterince karistirilir. Bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde bir hidroksil grubuna sahip olan), bir pigment, bir sulandirma ajani ve iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 30,u) karistirilir ve pigmentin ortalama partikül çapi (d50) 80 nm ila 120 nm olana kadar bir boncuklu ögütücü kullanarak birlikte yogrulur. Bundan sonra, elde edilen reçineler 1 ve 5, bir yüzey uyumlastirici, bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde iki ya da daha fazla hidroksil grubuna sahip olan), bir amin bilesigi ve bir iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 703i) eklenir ve su bazli bir kaplama kompozisyonu hazirlamak için bir disper kullanarak yeterince karistirilir. Bir köpük önleyici, bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde bir hidroksil grubuna sahip olan), bir pigment, bir sulandirma ajani ve iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 307u) karistirilir ve pigmentin ortalama partikül çapi (d50) 80 nm ila 120 nm olana kadar bir boncuklu ögütücü kullanarak birlikte yogrulur. Bundan sonra, elde edilen reçineler 1 ve 5, bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde iki ya da daha fazla hidroksil grubuna sahip olan), bir amin bilesigi ve bir iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 70°i) eklenir ve su bazli bir kaplama kompozisyonu hazirlamak için bir disper kullanarak yeterince karistirilir. Bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde bir hidroksil grubuna sahip olan), bir pigment, bir sulandiima ajani ve iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 307u) karistirilir ve pigmentin ortalama partikül çapi (d50) 80 nm ila 120 nm olana kadar bir boncuklu ögütücü kullanarak birlikte yogrulur. Bundan sonra, elde edilen reçineler 1 ve 5, bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde iki ya da daha fazla hidroksil grubuna sahip olan), bir amin bilesigi ve bir iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 703i) eklenir ve su bazli bir kaplama kompozisyonu hazirlamak için bir disper kullanarak yeterince karistirilir. (Karsilastirma Örnegi 1) Bir köpük önleyici, bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde bir hidroksil grubuna sahip olan), bir pigment, bir sulandirma ajani ve iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 30,u) karistirilir ve pigmentin ortalama partikül çapi (d50) 80 nm ila 120 nm olana kadar bir boncuklu Ögütücü kullanarak birlikte yogrulur. Bundan sonra, elde edilen reçineler 4 ve 5, bir yüzey uyumlastirici, bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde iki ya da daha fazla hidroksil grubuna sahip olan), bir amin bilesigi ve bir iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 70,i) eklenir ve su bazli bir kaplama kompozisyonu hazirlamak için bir disper kullanarak yeterince karistirilir. (Karsilastirma Örnegi 2) Bir köpük önleyici, bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde bir hidroksil grubuna sahip olan), bir pigment, bir sulandirma ajani ve iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 30°u) karistirilir ve pigmentin ortalama partikül çapi (d50) 80 nm ila 120 nm olana kadar bir boncuklu ögütücü kullanarak birlikte yogrulur. Bundan sonra, elde edilen reçineler 4 ve 5, bir yüzey uyumlastirici, bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde iki ya da daha fazla hidroksil grubuna sahip olan) ve bir iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 70"i) eklenir ve su bazli bir kaplama kompozisyonu hazirlamak için bir disper kullanarak yeterince karistirilir. (Karsilastirma Örnegi 3) Bir köpük önleyici, bir pigment, bir sulandirma ajani ve iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 30°u) karistirilir ve daha sonra pigmentin ortalama partikül çapi (dSO) 80 nm ila 120 nm olana kadar bir boncuklu ögütücü kullanarak birlikte yogrulur. Bundan sonra, elde edilen reçineler 4 ve 5, bir yüzey uyumlastirici, bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde iki ya da daha fazla hidroksil grubuna sahip olan), bir amin bilesigi ve bir iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 70`i) eklenir ve su bazli bir kaplama kompozisyonu hazirlamak için bir disper kullanarak yeterince karistirilir. (Karsilastirma Örnegi 4) Bir köpük önleyici, bir pigment, bir sulandirma ajani ve iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 30,u) karistirilir ve daha sonra pigmentin ortalama partikül çapi (d50) 80 nm ila 120 nm olana kadar bir boncuklu ögütücü kullanarak birlikte yogrulur. Bundan sonra, elde edilen reçineler 1 ve 5, bir yüzey uyumlastirici, bir amin bilesigi ve bir iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 70"i) eklenir ve su bazli bir kaplama kompozisyonu hazirlamak için bir disper kullanarak yeterince karistirilir. (Karsilastirma Örnegi 5) Bir köpük önleyici, bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde bir hidroksil grubuna sahip olan), bir pigment ve iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 30,u) karistirilir ve daha sonra pigmentin ortalama partikül çapi (d50) 80 nm ila 120 nm olana kadar bir boncuklu ögütücü kullanarak birlikte yogrulur. Bundan sonra, elde edilen reçineler 1 ve 5, bir hidroksil grubu içeren organik solvent (bir molekülde iki ya da daha fazla hidroksil grubuna sahip olan), bir amin bilesigi ve bir iyon degisimi uygulanmis su (eklenen toplam su miktarinin % 70°i) eklenir ve su bazli bir kaplama kompozisyonu hazirlamak için bir disper kullanarak yeterince karistirilir. Sonuçta olusan su bazli kaplama kompozisyonlari asagidaki yöntemlere göre degerlendirilir. Sonuçlar Tablo 1 ila Tablo l9"da gösterilmektedir. Bir vinil klorür tabakanin 1 m X 4 mllik alani Ramirez PJ -1304NX kullanarak su bazli kaplama kompozisyonu ile kaplanir ve akiskan yatak sayisi ve omisyona bagli olarak asagidaki kriterlere göre degerlendirilir. A: Akiskan yatak ve omisyon yok. B: Akiskan yatak ve omisyonun toplam sayisi 1 ila 9. C: Akiskan yatak ve omisyonun toplam sayisi lOidan fazla. Su bazli kaplama kompozisyonu dinlenmeye birakarak 28 gün boyunca 50°C"de saklanir ve asagidaki kriterlere dayali olarak görsel gözlem yoluyla degerlendirilir. A: Degisim yok. B: Az miktarda süspansiyon halinde madde var. C: Çökelme veya ayrismaya neden olunur. Bir vinil klorür tabakanin yüzeyi Mutoh Industries Ltd. tarafindan yapilan Ramirez PJ-l304NX kullanarak su bazli kaplama kompozisyonu ile kaplanir ve daha sonra yeterli sekilde kurutulmus kaplanmis yüzeyin parlakligi, Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. tarafindan yapilan parlaklik ölçer VG 2000 kullanarak ölçülür. Bir vinil klorür tabakanin 10 cm X 10 cm"lik alani Mutoh Industries Ltd. tarafindan yapilan Ramirez PJ -1304NX kullanarak su bazli kaplama kompozisyonu ile kaplanir ve asagidaki kriterlere göre görsel gözlem yoluyla degerlendirilir. A: Tüm yüzey homojen sekilde boyandi. B: Alanin bir kisminda sizma gözlendi. C: Alanin yaklasik olarak yarisinda sizma gözlendi. lReçine 2 lRcçinc 3 lReçine 4 grubuna noktasi sahip olan 17 l °C Etilen glikol tersiyer büiil eter 153°C Dietileii glikol monobütil eter 230°C Dietilen glikol izobütil eter 220°C Trietileii glikol monobütil erer 278°C rietilen glikol ripropilen glikol 1,2-bütandiol 1,4-bütandiol 1,3- bütandio] -meti1-1,3- propandiol rietanolumin 100.00 100.00 10000 100.00 100.00 100.00 noktasindaki fark - diol orani desarj stabiliiesi 1amu stabilitesi özellikleri (devami) .68 ,68 .68 .68 175.0 filalosiyaiiin . . 4. I .50 stirenlenmis feni] eter (HLB:I4) . .50 önleyici A uyumlastirici A degisimi uygulanmis su glikol monobütil 171 °C glikol tersiyei' 153 °C glikol iznbütil erer rictilcn glikol devami ripropilen glikol 1,4-bütandiol 1,3- bütandiol -mctil-1,3- pi'opzmdiol devami 6 7 8 9 l solvent miktari stabilitesi stabilitesi özellikleri stirenlenmis fcni] ctcr (HLB=I4) önleyici A uyumlastirici A degisimi uygulanmis su l7l°C glikol tersiyer büti 153°C glikol izohütil erer (dcvami) 1,2-bütandinl 1,4-bütandiol 1,3- bütandiol »metil- l ,3- propandiol rietanolamiii 100.00 100.00 100400 100.00 100.00 100.00 100.00 miktari 182.5 (devami) .68 . . .68 142.0 f'ilalosiyaiiin stirenlenmis fenil cter (HLB=14) ,50 önleyici A uyumlastirici A degisimi uygulanmis su glikol moiiobütil glikol tersiyer 153 °C (dcvami) rietilen gliko] ripropilen glikol 1.2-bülandiol 1,4-bütandiol 1,3- bütandiol -metil- I ,3- propaiidiol rictanolamin 100.00 100.00 100.00 1 00 .00 100.00 100.00 100.00 - diol orani solvent miktari stabilitcsi stabilitcsi özellikleri (dcvami) 115.0 .68 .68 .68 .010 .010 115.0 142.0 115.0 1220.010 115.0 filalosiyanin . . . .i .50 kuinakridoii dioksiî eter (HLB=l 4) önleyici A uyumlastirici A degisimi uygulanmis su glikol moimbütil l7l°C glikol tersiyer büri 153°C rietilen glikol (devami) rietileii glikol ripropilen glikol 1,2-bümndiol 1,4›bütandiol 1,3- bülaiidiol 1,3- propaiidio] rictaiiolamiii 100.00 100.00 10000 100.00 100.00 100.00 noktasindaki fark - diol orani solvent miktari stabilitesi stabilitcsi özellikleri (devami) 1030 .0 42.0 .68 .68 .010 .010 107.0 132.0 122.0 137010 137.0 137.0 fiialosiyanin kuiiiukridon dioksit stirenlenmis fenil eter (HLB=14) önleyici A uyumlastirici A degisimi uygulanmis su glikol izobütil ete( 160°C glikol tersiyer 153°C glikol izobütil erer 1'ieti1en glikol (devami) ripropilen glikol 1,2-bützindiol 1,4-bütandiol 1,3- bütandiol -metil- ] ,3- propandiol noktasindaki fark 137.0 - diol orani .68 solvent miktari stabilitesi stabilitcsi özellikleri (devami) .68 .68 .68 .010 .010 137.0 147.0 147,0 147010 142.0 142.0 filalosiyaiiin kuinakridoii dioksiî eter (HLB=l 4) önleyici A uyumlastirici A degisimi uygulanmis su glikol moimbütil 171 °C glikol erer 160°C glikol tersiyei' 153 °C glikol iznhütil erer ripi'opilen glikol 1,2-bütandiol 1 ,4-bülandiol 1.3- bütindiol rietaiiolamin 162°C (devami) (dcvami) solvent miktari stabilitcsi stabilitcsi özellikleri stirenlcnmis feiiil eter (H LB=I 4) .50 , . . .50 önleyici A uyumlastirici A degisimi uygulanmis su glikol monobütil glikol lzobütil eter gl ikol iîobütil eter rietilen glikol ripropilen glikol 1,2-bülandiol 4-hütandiol 1,3- bütandiol -metil- 1 ,3- propandio] ri ctanolamin N›dibütilctanolamin 100.00 100400 100.00 (dcvami) 100.00 100.00 100.00 10000 100.00 100.00 noktasindaki fark - diol orani solvent miktari stabilitcsi stabilitcsi özellikleri (dcvami) 03 104 27.0 1.0 .0 l 13 l 14 1.50 .50 stirenlcnmis feiiil eter (HLB=I4) .50 ,50 .50 . 1.50 .50 .50 400 l ,00 f'ilalosiyaiiin önleyici A uyumlastirici A degisimi uygulanmis su glikol monobütil i'ietilen glikol (dcvami) rietilen glikol ripropilen glikol 1,2-bülandiol 4-hütandi01 1,3- bütandiol -metil- 1 ,3- propandio] ri ctanolamin N›dibüti Ietanolaniin 100.00 100.00 100.00 100.00 100,00 noktasindaki fark - diol orani solvent miktari stabilitcsi stabilitcsi özellikleri (dcvami) 40 . . , .0 .0 f'ilalosiyaiiin 1.50 stirenlcnmis feiiil eter (H LB=I 4) ,01 önleyici A uyumlastirici A degisimi uygulanmis su glikol monobütil glikol izobütil eter tersiyei* 31 32 134 .50 [50 ,50 .01 l . ,01 400 00 , 00 (devami) rietileii glikol ripropilen gliko] 1,2-bülziudiol 1,4-bütandiol 1.3- bütandiol -metil-l,3- propaiidio] rietanolamin 100.00 100.00 noktasindaki fai'k - dio] orani solvcnt miktari stabilitesi stabilitesi özcll iklcri devami 13 l 132 142 43 45 46 stircnlenmis fenil :ter (HLB=l4) I 50 .50 önleyici A uyumlastinci A degisimi uygulanmis su glikol monobülil glikol izobütil eîer tersiyer glikol izohülil ::ter rielilen glikol (devami) 145 146 rietileii glikol ripropilen glikol 1,4-bütandiol -metil-I,3- propandiol N›bütildictanolamin 265°C Toplam 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 1 00.00 100.00 100.00 100.00 100.00 1 00.00 noktasindaki fark - diol orani solvent miktari stabilitcsi stabilitcsi özellikleri (dcvami) .68 . . . .68 61 137.0 137.0 fiialosiyanin stirenlenmis feiiil cter (HLB=I4) önleyici A önleyici B uyumlastirici A degisimi uygulanmis su glikol monobütil 171°C glikol tersiyer büti 153°C glikol izobütil erer rietilen glikol 59 1 60 1 61 .50 1.50 1.50 .01 1 .01 400 100 100 (dcvami) 59 160 rietilen gliku] ripmpilen gliknl 1 .2-bülandiol 1,4-bütandiol 1,3- bütandiol -metil- 1 ,3- propaiidio] rictanolam in (dcvami) solvent miktari stabilitcsi stabilitcsi özellikleri filalosiyaiiin 1.50 stirenlenmis feiiil eter (H LB=I 4) ,50 önleyici A önleyici B uyumlastirici A uyumlastirici B degisimi uygulanmis su glikol monnbütil glikol izobütil erer glikol tersiyer glikol izobütil erer rieîilen glikol l 70 73 l 74 l 75 .50 . . .50 .50 (dcvami)glikol rietilen gliku] ripmpilen gliknl 1 .2-bülandiol 1,4-bütandiol 1,3- bütandiol -metil- 1 ,3- propaiidio] rictanolam in 100.00 100.00 100.00 1 00 .00 100.00 100.00 100.00 (dcvami) solvent miktari stabilitesi stabilitcsi özellikleri filalosiyaiiin ,50 stirenlenmis feiiil cter (HLB=I4) . .50 önleyici A uyumlastirici A uyumlastirici B degisimi uygulanmis su glikol monobütil glikol tersiyer glikol izobütil erer rietilen glikol 87 188 .50 1.50 (dcvami) 87 188 rietilen gliku] ripmpilen gliknl 1 .2-bülandiol 1,4-bütandiol 1,3- bütandiol -metil- 1 ,3- propaiidio] rictanolam in 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 184 185 86 - diol orani solvent miktari stabilitcsi stabilitcsi özellikleri (dcvami) .68 .68 . .68 .68 1420.010 l 97 198 f'ilalosiyaiiin 1.50 ,50 stirenlenmis feiiil cter (H LB=I 4) .50 .50 önleyici A uyumlastirici A degisimi uygulanmis su glikol monobütil glikol izobütil eter tersiyei* glikol izobütil erer rietileii glikol (dcvami) rietilen gliku] ripmpilen gliknl 1 .2-bülandiol 1,4-bütandiol 1,3- bütandiol -metil- 1 ,3- propaiidio] rictanolam in (dcvami) 198 199 1 10 solvent miktari stabilitcsi stabilitcsi özellikleri f'ilalosiyaiiin stirenlcnmis feiiil eter (HLB=I4) önleyici A uyumlastirici A degisimi uygulanmis su glikol monobütil .50 1.50 rietilen gliku] ripmpilen gliknl 1 .2-bülandiol 1,4-bütandiol 1,3- bütandiol -metil- I ,3- propaiidio] rictanolam in oplani 1 00.00 I 00 .00 noktasindaki fark 137.0 137.0 (devami) 147.0 100.00 10000 100.00 100.00 100.00 137.0 (devami) 16 [7 18 13 .013 .013 solvcnt miktari stabilitesi stabilitesi özel 1 iklcri Polioksietileii stirenlenmis fenil eter(l-1LB=18) 0.50 Polioksietilen îridesil eter (HLB:13) 0.50 Polioksietilen laui'il etei' (HLB:14) 0.50 Polioksietileii izodesil erer (HLB=16) 0.50 Rcçine 4 (dcvami) glikol monobütil glikol izobüti] eter [60°C glikol izobütil ctcr rietilen glikol rictilcn gliko] ripropilcii glikol 1,3- bütandiol -metil- l ,3- propandiol 12 .00 12.00 rietaiiolaniin . 135°C 162°C noktasindaki fark 05.0 - diol orani .69 oplam organik solvem miktari stabilitesi Özellikleri 10000 (devami) 100.00 107.0 100.00 100100 122.0 100.00 3710010 100.00 137.0 Roçine 3 Bir hidroksil grubuna sahip Etilen glikol monobütil eter Kaynama noktasi olan organik solvent 17 I °C Etileii glikol izobütil eîer [60°C Etilen glikol tersiyer bütil eiei' 153°C Dietilen glikol izobütil eter 220°C Trietileiiglikol monobüîil erer 278°C (devami) sahip ulan -bütandiol 1,4-bütandiol 1,3-bütandi01 solvent Aminler riemnolamin - diol orani 40 40 solvent miktari (devami) stabilitesi stabilitesi özellikleri titalosiyanin . .` ,50 stirenlenmis fenil etcr (HLB=I4) uyumlastirici A degisimi uygulanmis su glikol moiiobütil erer solvent glikol lersiyer glikol nionobütil glikol izobütil eter (devami) ya da daha glikol olan glikol i'ietilen glikol i'ipropileii glikol 1,2-bütandiol 1,3- bütaridiol -metil- 1 .3- propandiol rictanolamin 100.00 100.00 100.00 (devami) solvem mikîari stabilitcsi stabilitcsi özellikleri iitalosiyanin . .i ,50 stirenlenmis fenil etcr (HLB=I4) önleyici A degisimi uygulanmis su glikol moiiobütil erer solvent glikol izobütil eter glikol tersiyer glikol etei* rietilen glikol (devami) ya da daha glikol olan glikol i'ietilen glikol i'ipropileii glikol 1,2-bütandiol 1,3- bütaridiol -metil- 1 .3- propandiol rictanolainin N-dibüiiletaiiolamiii 100.00 100100 100.00 noktasindaki fark - diol orani solvem mikîari stabilitcsi stabilitcsi özellikleri (devami) 1 64.0 1 64.0 16440 l64›0 164.0 î'italosiyanin .› .` ,50 stirenlenmis fenil etcr (HLB=I4) degisimi uygulanmis su glikol monobütil eter glikol izobütil eter 60°C glikol tersiyer bütil erer !53°C glikol monobütil eter glikol izobütil eter (devami) rietilen glikol ripmpilen glikol l2-bülandiol 1,3-bütaiidiol -metil- 1 -3- propandiol rictanolamiii N.-dibütiletaiiolamin - diol orani solvem miktari stabilitesi stabilitesi özellikleri (devami) Karsilastirma Örnekleri 1 2 3 4 5 Bir hidroksil grubuna sahip Etileii glikol monobütil erer Kaynama olan organik solvent noktasi 171 °C Etilen glikol izobütil eter 160°C Etileii glikol tersiyer bütil 153°C Dietilen glikol izobütil erer 220°C Trietilen glikol m0nobüti1278°C hidroksil grubuna sahip olan organik solvent Dietilen glikol 245°C Propileii glikol 188°C Dipropilcn glikol 232°C Tripropilen glikol 271 °C 1,2-bütandi01 193°C 1,4-bütandi01 228°C -metil-l ,3- propandiol 213°C Gl iscrin 290°C (devami) Karsilastirma Örnekleri 1 2 3 4 5 Organik solvent Ami'nler Etanolamin 171°C Dietanolainin 269°C Trietanolamin 335°C N,N-dictilctanolamin 162°C N.N-dibütiletanolamiii 229°C N-metildietanolamin 247°C N-etildietanolamin 247°C N-bütildietanolamiii 265°C Kaynama noktasindaki fark -63.0 - -150 - -63.0 Toplam organik solvent miktari 56% 56% 18% 4% 54% Sürekli desarj stabilitesi C C C B Saklama stabilitesi A A C B Substrata sulandirma özellikleri A B C C C TARIFNAME IÇERISINDE ATIF YAPILAN REFERANSLAR Basvuru sahibi tarafindan atif yapilan referanslara iliskin bu liste, yalnizca okuyucunun yardimi içindir ve Avrupa Patent Belgesinin bir kismini olusturmaz. Her ne kadar referanslarin derlenmesine büyük önem verilmis olsa da, hatalar veya eksiklikler engellenememektedir ve EPO bu baglamda hiçbir sorumluluk kabul etmemektedir. TR TR TR TR TR TR TR TR TR TR

Claims

ISTEMLER

1. Bir su bazli kaplama kompozisyonu olup, özelligi; bir renklendirici, su, bir sulandirma ajani, bir amin bilesigi, bir hidroksil grubu içeren organik solvent ve bir polikarbonat grubuna sahip olan üretan reçinesi içermesi, burada hidroksil grubu içeren organik solventin (A) bir molekülde bir hidroksil grubuna sahip olan bir solvent ve (B) bir molekülde iki ya da daha fazla hidroksil grubuna sahip olan bir solventten olusmasi, burada (A) bir molekülde bir hidroksil grubuna sahip olan solventin (B) bir molekülde iki ya da daha fazla hidroksil grubuna sahip olan solvente kütlece oraninin A:B (A) bir molekülde bir hidroksil grubuna sahip olan solventin en azindan etilen glikol metil eter, etilen glikol etil eter, etilen glikol propil eter, etilen glikol bütil eter, etilen glikol monobütil eter, etilen glikol pentil eter, etilen glikol heksil eter, etilen glikol sikloheksil eter, etilen glikol fenil eter, etilen glikol benzil eter, etilen glikol izobütil eter, etilen glikol tersiyer bütil eter, dietilen glikol metil eter, dietilen glikol etil eter, dietilen glikol propil eter, dietilen glikol bütil eter, dietilen glikol pentil eter, dietilen glikol heksil eter, dietilen glikol sikloheksil eter, dietilen glikol fenil eter, dietilen glikol benzil eter, dietilen glikol monobütil eter, dietilen glikol izobütil eter, trietilen glikol metil eter, trietilen glikol etil eter, trietilen glikol propil eter, trietilen glikol bütil eter, trietilen glikol pentil eter, trietilen glikol heksil eter, trietilen glikol sikloheksil eter, trietilen glikol fenil eter, trietilen glikol benzil eter ve trietilen glikol monobütil eter, propilen glikol metil eter, propilen glikol etil eter, propilen glikol propil eter, propilen glikol bütil eter, propilen glikol pentil eter, propilen glikol heksil eter, propilen glikol sikloheksil eter, dipropilen glikol metil eter, dipropilen glikol etil eter, dipropilen glikol propil eter, dipropilen glikol bütil eter, dipropilen glikol pentil eter, dipropilen glikol heksil eter, dipropilen glikol sikloheksil eter, tripropilen glikol metil eter, tripropilen glikol etil eter, tripropilen glikol propil eter, tripropilen glikol bütil eter, tripropilen glikol pentil eter, tripropilen glikol heksil eter ve tripropilen glikol sikloheksil eterden olusan gruptan seçilen bir solvent olmasi, (B) bir molekülde iki ya da daha fazla hidroksil grubuna sahip olan solventin en azindan etilen glikol, dietilen glikol, trietilen glikol, 1,2- bütandiol, 1,4-bütandiol, 3-metil-1,3-bütandi01, neopentil glikol, `1,2- pentandiol, 1,5-pentandiol, 3-metil-l,5-pentandiol, 1,2-heksandiol, 1,6-heksandiol, oktandiol, 1,4-bütilen diol, l,4-sikloheksandimetanol, gliserin, trimetilolpropan, dipropilen glikol ve tripropilen glikolden olusan gruptan seçilen bir solvent olmasi, amin bilesiginin en azindan metilamin, etilamin, propilamin, izopropilamin, bütilamin, t-bütilamin, heksilamin, benzilamin, etanolamin, izopropanolamin, bütanolamin, heksanolamin, 1,2- propandiainin, 1,3-pr0pandiamin, 1,4-bütandiamin, 1,6-heksandiamin, pirrolidin, morfolin, dimetilamin, dietilamin, dipropilamin, diizopropilamin, dibütilamin, dietanolamin, diizopropanolamin, N- metiletanolamin, N-etiletanolamin, N-bütiletanolamin, N-bütil- izopropanolamin, N-t-bütilizopropanolamin, N,N-dietiletilendiamin, N,N-dimetil-1 ,3-diamin0pr0pan, N,N-dieti1-1 ,3-diamin0pr0pan, piperazin, trimetilamin, trietilamin, tripropilamin, triizopropilainin, tribütilamin, N-metildietilamin, N,N-dimetilpropilamin, trietanolamin, N-metildietanolamin, N-etildietanolamin, N-bütildietanolamin, N-t- bütildietanolamin, N,N-dimetiletanolamin, N,N-dietiletanolamin, N,N-dibütiletanolamin, N,N-di-t-bütiletanolamin, triizopropanolamin, N-metildiizopropanolamin, N-etildiizopropanolamin, N- bütildiizopropanolamin, N-t-bütildiizopropanolamin, N,N- dimetilizopropanolamin, N,N-dietilizopropanolamin, N,N- dibütilizopropanolamin, ve N,N-di-t-bütilizopropanolaminden olusan gruptan seçilen bir bilesik olmasi, ve sulandirma ajaninin anyonik, katyonik ya da iyonik olmayan bir yüzey aktif madde olmasi ile karakterize edilir.

2. Istem 1”e göre bir su-bazli kaplama kompozisyonu olup, özelligi; burada amin bilesiginin kaynama noktasi araliginin, hidroksil grubu- içeren organik solventte en düsük kaynama noktasina sahip olan bir solvente bagli olarak -60°C ila +170°C olmasidir.

3. Istem 2,ye göre bir su-bazli kaplama kompozisyonu olup, özelligi; burada amin bilesiginin kaynama noktasi araliginin, hidroksil grubu- içeren organik solventte en düsük kaynama noktasina sahip olan bir solvente bagli olarak -20°C ila +170°C olmasidir.

4. Istem 1-37ün herhangi birine göre bir su-bazli kaplama kompozisyonu olup, özelligi; burada hidroksil grubu-içeren organik solventte (A) bir molekülde bir hidroksil grubuna sahip olan bir solventin (B) bir molekülde iki ya da daha fazla hidroksil grubuna

5. Istem l-47ün herhangi birine göre bir su-bazli kaplama kompozisyonu olup, özelligi; burada amin bilesiginin hidroksil grubu- içeren organik solvente oraninin 0.0005 -0.l olmasidir.

6. Istem l-5lin herhangi birine göre bir su-bazli kaplama kompozisyonu olup, özelligi; burada bir polikarbonat grubuna sahip olan üretan reçinenin, 30 nm ila 300 nm'lik bir ortalama partikül çapina sahip olan bir üretan dispersiyonu ya da üretan emülsiyonu olmasidir.

7. Istem 1-6,nin herhangi birine göre bir su-bazli kaplama kompozisyonu olup, özelligi; ayrica 60°C”den az olmayan bir cam geçis sicakligina (Tg) ve 50 nm ila 200 nm arasinda bir ortalama partikül çapina sahip olan bir akrilik dispersiyon ya da akrilik emülsiyon içermesidir.

8. Istem l-7”nin herhangi birine göre bir su-bazli kaplama kompozisyonu olup, özelligi; burada su-bazli kaplama kompozisyonu içerisinde organik solventin toplam miktarinin, kütlece % 20 ila kütlece % 50 arasinda olmasidir.