TW200920601A - Adhesive optical film manufacturing method, adhesive optical film and image display device - Google Patents

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200920601 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種具有於光學膜之至少一面上積層黏著 劑層之步驟之黏著型光學膜及其製造方法。另外，本發明 係關於一種使用上述黏著型光學膜之液晶顯示裝置、有機 EL(electroluminescence，電致發光）顯示裝置、pDp (plasma display panel，電漿顯示面板）等圖像顯示裝置。

作為上述光學膜，可列舉：偏光板、相位差板、光學補償 膜、增亮膜、从及積層有該等者等。 另外，本發明係關於一種當於光學膜之至少一面上積層 黏著劑層而製造黏著型光學膜時，使由該積層所獲得之黏 著型光學膜中之光學膜與黏著劑層之密著性提昇，並且抑 制黏著型光學膜之捲曲之方法。 【先前技術】 液晶顯示器因其圖像形成方式而必須於形成液晶面板之 最表面之玻璃基板之兩側配置偏光元件，通常於液晶面板 之最表面上貼著有將透明料膜貼合於偏光子之—面或兩 面上之偏光板。另外，》了提昇顯示器之顯示品質，於液 晶面板之最表面上除偏光板以外，亦開始使用各種光學元 件：例如使用用以防止著色之相位差冑、用以改善液晶顯 ^之視角之視角擴大臈、以及用以提高顯示器之對 之增亮膜等。該等膜總稱為光學膜。 用=劑於Lt:貼著?液晶面板之最表面上時使 ' 。、有可瞬間將光學臈固定於液晶面 134088.doc 200920601 點’因此黏著劑作為黏著劑層 ：：乾燥步驟等優 上。即，於對液晶面板之最表面置於光學臈之-面 著型光學膜。 、寻通常使用黏 作為上述黏著劑所要求之必 光學膜貼合於液晶面板之最表面⑴於將 置、貼合面上混入異物之類 、弄錯貼合位 晶面板最表面上剝離，並再次貝==亦可將光學膜自液 止因光學膜之尺寸變化所產生 a加工）’（2)為了防 斟於、s a从A 1而具有應力緩和性； ⑺對於通常作為環境促進試驗而進行 之耐久★式給，：^奋欢4 * 藉由加熱及加濕等 會發生黏者劑所引起之不 光:：’：於上述⑴之二次加工性，至今為止之黏著型 先予臈’由於黏著劑層與光學者i 於蔣斑芏別啊 < 在者性較低，因此 於將黏者型先學臈自液晶面板上剝 著型光學腹 + 夺會產生一部分黏 將其稱為黏著劑殘留)。 板表面上之問題(以下 另外，最近使用液晶面板之顯示哭 在饬s : > °。题向於窄邊緣化，存 曰曰板之端部所產生之缺陷亦合導 降之情況’因此光學膜端部之抑：導致顯示品質明顯下 部之缺陷有呼多藉甘、 心亦成為問題。光學膜端 、旧令0干多種，其中 β 不良現象(以下將’疋斤謂端部欠缺黏著劑之 膜時，光學胺> # 、）。其係因於操作光學 先學臈之端部碰到某一物體 分欠缺而引起。先前之黏著型光學膜：夂黏者劑層之-部 象。 膘較多地產生該不良現 134088.doc 200920601 、j昇上述光學膜與黏著劑層之密著性之方法，提出 有:光千膜之形成黏著劑層之面上實施電暈處理或電漿處 等，面活性處理之方法（專利文獻1、2)。該等方法均為 對1占著劑層表面實施表面活性處理、以使黏著劑層與光學 膜更牢固地黏著之方法。然而，若於黏著劑層上實施該等 表面活J·生處理，則所獲得之黏著型光學膜變得易於產生捲 曲另外，右於黏著劑層上僅實施該等表面活性處理，則 根據光學獏之材料，無法充分地提昇兩者之密著性之情形 較多。 專利文獻1:日本專利特開平7-174918號公報 專利文獻2:日本專利特開昭64-81827號公報 【發明内容】 發明所欲解決之問題 本發明之目的在於提供一種黏著型光學膜及其製造方 法’該黏著型光學膜於光學膜之至少一面上積層有黏著劑 層，並且捲曲受到抑制，且密著性較佳，無黏著劑殘留、 黏著劑欠缺。 另外，本發明之目的在於提供一種使用上述黏著型光學 膜之圖像顯示裝置。 解決問題之技術手段 本發明者等人為解決上述課題而反覆努力研究，結果發 現下述黏著型光學狀製造方法等，從而完成本發明。 即，本發明係關於一種黏著型光學膜之製造方法，其具 有於光學膜之至少一面上積層黏著劑層之步驟，其特徵在 134088.doc 200920601 於： 上述積層步驟係藉由於Α β ^ 於進仃该積層步驟之上述光學膜 面及黏著劑層之面上進^矣 、 上進仃表面活性處理後，積層經該 活性處理之光學臈之面及 田及黏者劑層之面而進行。 於上述黏著型光學膜之製 i方法中’上述表面活性處理 較好^選自Μ處理、電暈放電處理、紫外線處理、電 子束處理及臭氧處理中之任意至少-種處理。

C 於上述黏著型光學臈之製造方法巾，較好的是上述表面 活,ff理為電黎處理，且於選自氮氣、氧氣、氨氣、氬氣 及氦氣中之任⑤至少—種氣體中進行該錢處理。另外， 較好的是上述光學膜之面及黏著劑層之面之表面活性處理 均以電t處理來進行，而且上述光學膜之面及黏著劑層之 面之任意至少一個面之電漿處理係於含有氧氣之氣體中進 行。 另外，本發明係關於一種利用丨述製造方法所獲得之黏 著型光學膜。 另外，本發明係關於一種使用至少一張上述黏著型光學 膜之圖像顯示裝置。本發明之黏著型光學臈對應於液晶顯 不裝置等g像顯不裝置之各種使用態I ’可使用1張或組 合使用複數張。 另卜本發明係關於一種黏著型光學膜之製造方法，其 於光學膜之至少一面上積層黏著劑層而製造黏著型光學膜 時， 、 於進行上述積層之上述光學膜之面及黏著劑層之面上進 U4088.doc 200920601 積曰左3亥表面活性處理之光學膜之面 及黏著劑層之面，藉吐裎里丄 精此抚昇由該積層所獲得之黏著型光學 膜中之光學膜與黏著劑声之漆装 有劑層之达者性，並且抑制黏著型光學 膜之捲曲。 發明之效果 於本發明之黏著型光學膜製 联及表坆方法中，於光學膜之面 及黏著劑層之面之任一面妁普 句實施表面活性處理後，將經該 表面活性處理之面彼此貼合。 精田貫知上述表面活性處 理，可獲得捲曲受到抑制，而B々從 而且各種光學膜與黏著劑層之 在、者性變得良好，無點荃拖 …、 齊丨殘留、黏著劑欠缺之黏著型光 由對光學膜之面及黏著劑層之面之兩面實施表面 =理，而使捲曲受到抑制、密著力得到提昇之理由並 但一般認為藉由實施表面活性處理，而於上述兩 面上备基、碳基、緩基、過氧化基等活性基增加而使表面 極性化，藉此密著性得到 L 徒幵另外’一般認為藉由貼合 上述經極性化之兩面， ' θ ^身 上述積層界面上之密著性得到提 幵，並且光學臈側及黏著 可a增惻之應力平衡變得良 而使捲曲受到抑制。 』艾付民好，從 【實施方式】 本發明之黏著型光學膜 膜之方法係藉由於光學膜之至 少-面上積層黏著劑層干膜之至 置於光學膜之一面上，言^再者’上迷黏者劑層可設 认走从 亦可设置於光學膜之兩面上。 於黏著劑層之形成中 J使用適當之黏著劑，對 之種類並無特別限定子於黏者劑 為黏者劑，可列舉：橡膠系黏著 134088.doc 200920601 劑、丙烯酸系黏著劑、 著劑、乙烯基烷基醚系 烯吼咯烷酮系黏著劑、 著劑等。 聚石夕氧系黏著劑、始# 香則胺基τ酸酯系黏 黏著劑、聚乙烯醇备卖 ’办系黏著劑、聚乙 聚丙烯醯胺系黏荽為,、_ , i ^ 明性優異，顯示 性’且耐候性或 較好的是使用丙 該等黏著劑之中，較好的是使用光學透 適當之潤濕性、凝聚性及接著性之黏著特 耐熱性等優異者。作為顯示此種特徵者， 稀酸糸黏著劑。 丙烯酸系黏著劑將以（甲基）丙婦酸貌基酉旨之單體單元為 主骨架之丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物。再者，（甲基) 丙烯酸烷基酿係指丙烯酸烷基醋及/或甲基丙烯酸烷基 醋’與本發明之（甲基）意思相同。作為構成丙稀酸系聚合 物之主骨架之（甲基）㈣酸絲g旨’ τ列舉直鏈狀或支鍵 狀之烷基之碳數為丨〜汕者。例如可列舉：（曱基）丙烯酸甲 酯、（甲基）丙烯酸乙醋、（甲基）丙烯酸丙醋、（甲基）丙烯酸 丁 S曰（甲基）丙烯酸2-乙基己酯、（曱基）丙烯酸異辛酯、 (甲基）丙烯酸異壬酯、（甲基）丙烯酸異肉豆蔻酯、（甲基）丙 烯I月桂酯等。該等可單獨或組合使用1該等烷基之平均 碳數較好的是3〜9。 以改善接著性或耐熱性為目的，可藉由共聚將一種以上 之共聚單體導入上述丙烯酸系聚合物中。作為此種共聚單 體之具體例’例如可列舉：（曱基）丙烯酸2_羥乙酯、（甲 基）丙稀酸2_經丙酯、（甲基）丙烯酸4-羥丁酯、（甲基）丙烯 酸6-經己醋、（甲基）丙烯酸8-羥辛酯、（曱基）丙烯酸10-羥 134088.doc 200920601 癸酿、（曱基）丙烯酸12-羥基月桂酯或丙烯酸（4-羥甲基環 己基）曱酯等含有羥基之單體；（甲基）丙烯酸、（甲基）丙稀 酸缓乙酯、（甲基）丙烯酸羧戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、 反丁烯二酸、丁烯酸等含有羧基之單體；順丁烯二酸酐、 伊康酸酐等含有酸酐基之單體；丙烯酸之己内酯加成物； 苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2_(甲基）丙烯醯胺_2_曱基丙石黃 酸、（曱基）丙烯醯胺丙磺酸、（甲基）丙烯酸磺丙基酯、（甲 基）丙烯醯氧基萘磺酸等含有磺酸基之單體；磷酸2-羥乙基 丙烯醯酯等含有磷酸基之單體等。 另外，作為改性目的之單體例亦可列舉：（曱基）丙烯醯 胺、N，N-二曱基（甲基）丙烯醯胺、N_ 丁基（曱基）丙烯醯胺 或N-羥甲基（曱基）丙烯醯胺、N_羥甲基丙烷（曱基）丙烯醯 胺等（N-取代）醯胺系單體；（曱基）丙烯酸胺基乙酯、（甲基） 丙烯酸N，N-二甲基胺基乙酯、（曱基）丙烯酸第三丁基胺基 乙酯等（曱基）丙烯酸烷基胺基烷基酯系單體；（甲基）丙烯 酸曱氧基乙酯、（甲基）丙烯酸乙氧基乙酯等（曱基）丙烯酸 烧氧基烷基酯系單體；N-(曱基）丙烯醯氧基亞甲基丁二醯 亞胺或N-(曱基）丙烯醯基-6-氧基六亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基）丙烯醯基-8-氧基八亞甲基丁二醯亞胺、丙烯醯基 嗎啉等丁二醯亞胺系單體；N-環己基順丁烯二醯亞胺或N_ 異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺或]si-苯 基順丁烯二醯亞胺等順丁烯二醯亞胺系單體；N_曱基伊康 醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康酿亞胺、N-辛基 伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、環己基伊康醯 134088.doc •12- 200920601 亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體等。 進而，作為改性單體亦可使用：乙酸乙烯酯、丙酸乙缔 醋、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基乙烯基吡咯烷酮、乙稀基吨 啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌嗪、乙烯基吡 P秦、乙稀基比洛、乙烯基味α坐、乙稀基嘴唾、乙婦基嗎 啉、Ν-乙烯基羧酸醯胺類、苯乙烯、α_甲基苯乙烯、…乙 烯基己内醯胺等乙烯基系單體；丙烯腈、甲基丙稀腈等氰 基丙稀酸酯系單體；（甲基）丙烯酸縮水甘油酯等含有環氧 基之丙晞酸系單體；（甲基）丙稀酸聚乙二醇醋、（甲基）丙 烯酸聚丙二醇酯、（甲基）丙烯酸甲氧基乙二醇酯、（甲基） 丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系丙烯酸酯單體；（甲基） 丙烯酸四氫糠酯、（甲基）丙烯酸氟酯、聚矽氧（甲基）丙烯 酸酯或丙烯酸2-甲氧基乙酯等丙烯酸酯系單體等。 丙烯酸系聚合物中之上述共聚單體之比例並無特別限 制，於全部構成單體之重量比率中，上述共聚單體之比例 較好的是〇〜30%左右，更好的是〇丨〜^%左右。 該等共聚單體中，就接著性、耐久性之觀點而言，較好 的是使用含有羥基之單體、含有羧基之單體。該等單體成 為與父聯劑之反應點。由於含有經基之單體、含有叛基之 單體等富有與分子間交聯劑之反應性，因此可較好地用於 提昇所獲得之黏著劑層之凝聚性或耐熱性。 於含有含羥基之單體及含羧基之單體作為共聚單體之情 形時，於全部才籌成單體之重量比率中，較好的《丙稀酸系 聚合物含有88〜99.89重量％之（曱基）丙烯酸烷基酯、〇.1〜1〇 134088.doc -13- 200920601 重量。/。之含有m基之單體及〇·〇1〜2重量％之含有經基之單 體。（甲基)丙烯酸烷基酯更好的是9〇5〜99 77重量％，進而 更好的疋93 99.35重$ 含有羧基之單體更好的是〇 2〜8 重量％，進而更好的是〇·"重量％。含有叛基之單體更好 的疋0.03〜1.5重里〇/〇，進而更好的是〇 0^重量％。 丙烯S夂系聚合物之平均分子量並無特別限制，重量平均 刀子罝車乂好的疋30萬〜25〇萬左右0上述丙稀酸系聚合物 製造可利用各種公知之方法製造，例如可適當選擇整 合法、溶液聚合法、懸浮聚合法等自由基聚合法。作為自 由基聚合起始劑，可使用偶氮系、過氧化物系之各種公头 者。反應溫度通常設為5G〜8(rc左右，反應時間設為 二另：，上述製造法中較好的是溶液聚合法，作為丙歸 物之溶劑通常可使用乙酸“旨、甲苯等。溶液、'曲 度通常設為2〇〜80重量％左右。 寸，合夜艰 的是使上述黏著劑成為含有交聯劑之黏著劑 :成物。作為可調配於黏著劑中之官能化合物 機交聯劑或多官能性金屬螯合 歹“有 刻爽.0 &么 作為有機糸交聯劑，可 歹“…系交聯齊卜異氰酸酿系 劑、過氧化物系交聯劑等。該等交聯劑可使用 使用兩種以上。作為有機系交聯 或、、“ 交聯劑。多官能性金屬整合物為多價金屬子=氛酸醋系 價鐘έ士·^ > Μ ·'屬/、有機化合物共 ϋ·。或配位鍵結而成者。作 A1、cr、Zr、CQ、Cu、Fe、Ni、^金屬原子，可列舉： 1荨。作為共價鍵 134088.doc -14- 200920601 結或配位鍵么士夕女地人 鍵、、之有機化合物中之原子可列舉氧原子等 你有機化合物’可列舉：烧基醋、醇類化合物 物、謎類化合物、_類化合物等。 口 ’ 1聚合物等基礎聚合物與交聯劑之調配比例並益 分 、吊，相對於⑽重量份之基礎聚合物（固形 乂 W (固形分）較好的是0.001〜20重量份左右，更好 的是0.01〜15重旦p — 对 氰酸酷系交r:。作為上述交聯劑’較好的是異 分）， Y。相對於10〇重量份之基礎聚合物（固形 旨系交聯劑較好的是0.001〜2重量份左右，更 好的疋0.01〜U重量份左右。 更 進而，於不偏籬太& 目的之範圍内，視需要亦可於 破=者Γ適當使用包含增黏劑、塑化劑、玻璃纖維、 、屬爭刀末、其他無機粉末等之填充劑，顏料，著 二、真充劑，抗氧化劑，紫外線吸收劑，矽烷偶合劑等 各種添加劑。另外，甘+

L 性之黏著劑層等。〃’、可製成含有微粒子並顯示光擴散 夕=為添加劑’較好的是石夕院偶合劑’相對於100重量份 基礎聚合物（固形分），較好的是調配請卜 ^㈣偶合W固形分），更好的是調配請5 2作為㈣偶合劑，可無限制地使用先前 134〇88.d〇c 200920601 (胺基乙基）-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3_三乙氧基矽 烷基-N-(l，3-二甲基亞丁基）丙基胺等含有胺基之矽烷偶合 劑，3-丙烯醯氧基丙基三曱氧基矽烷、3_甲基丙烯醯氧基 丙基二乙氧基石夕院等含有（甲基）丙烯基之石夕烧偶合劑，3· 異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含有異氰酸酯基之矽烷偶合 劑。 作為於本發明之黏著型光學臈中所使用之光學膜，例如

U 可列舉偏光板。偏光板通常使用偏光子之一面或兩面上具 有透明保護膜者。 偏光子並無特別限定，可使用各種偏光 :，例如可列舉:使埃或二色性染料之二色性物質= 聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化之聚乙烯醇系膜、乙烯_乙 酸乙烯酿共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜上並單軸 延伸者乙烯醇之脫水處理物或聚氣乙烯之脫鹽酸處理 物等多烯系配向膜等。該等之中，較好的是包含聚乙稀醇 系膜與碘等二色性物質之偏光子。該等偏光子之厚度並無 特別限制，通常為5〜80 μπι左右。 :木色聚乙烯醇系膜且單軸延伸之偏光子可藉由如下 方法製成’例如’ II由將聚乙烯醇浸潰於 ：二 對兑逃a j，合饮甲而 將且將其延伸至原來長度之3〜7倍。視需要亦可 钟等％醇浸漬於可含有髮或硫酸鋅、氣化鋅等之硬化 之水溶液中。進而，視需要亦 系臈浸潰於、木色則將聚乙烯醇 清除平7 β ^ /无V乙烯酵系膜而 A烯醇系膜表面之污垢或抗結塊劑以外，藉由使聚 134088.doc 200920601 乙烯醇系膜膨潤亦有防止染色 个9寻不均勻之效果。 延伸既可於用碘染色後進行， 亦可於硼酸或碘化鉀等之 例如可使用透明性 '機械 等向性等優異之熱可塑性 亦可一邊染色一邊延伸， 另外，亦可於延伸後用填染色 水溶液中或水浴中延伸。 作為構成透明保護膜之材料 強度、熱穩定性、水分阻斷性

樹脂。作為此種熱可塑性樹脂之具體例，可列舉’:、二 纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂 來醚砜樹脂、聚砜樹 脂、聚碳酸醋樹脂、聚醯胺樹脂、聚醢亞胺樹脂、聚稀煙 ㈣、（甲基）丙稀酸樹脂、環狀聚稀烴樹脂（降冰片烯系樹 脂:二聚芳醋樹脂、聚苯乙烯樹脂、$乙烯醇樹脂及該等 之此合物。再者’於偏光子之一側’ #由接著劑層貼合有 透明保護膜’而於另-側，可使用(甲基)丙烯酸系、胺基 甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等之 熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂作為透明保護膜。於透 明保護膜中可含有一種以上任意之適當添加劑。作為添加 劑’例如可列冑：紫外線吸收劑、抗氧化劑'潤滑劑、塑 化劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、 顏料、著色劑等。透明保護膜中之上述熱可塑性樹脂之含 ΐ較好的是50〜1〇〇重量％，更好的是5〇〜99重量％，進而更 好的是60〜98重量％，特別好的是70〜97重量％。於透明保 3蒦膜中之上述熱可塑性樹脂之含量低於50重量％之情形 時’存在熱可塑性樹脂無法充分地顯現原來所具有之高透 明性等之顧慮。 134088.doc 200920601 另外’作為透明保護膜，可列舉日本專利特開2001_ 343529號公報（W001/37007)中所記載之聚合物膜，例如含 有（A)支鏈上具有取代及/或非取代醯亞胺基之熱可塑性樹 脂與（B)支鏈上具有取代及/或非取代苯基以及腈基之熱可 塑性樹脂的樹脂組成物。作為具體例，可列舉含有包含異 丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物及丙烯腈-苯 乙烯共聚物的樹脂組成物之臈。膜可使用包含樹脂組成物 之混合擠出品等之臈。由於該等臈相位差較小，且光彈性 係數較小，因此可消除由偏光板之應變所產生之不均等不 良現象，另外，由於該等膜透濕度較小，因此加濕耐久性 優異。 透明保護膜之厚度可適當決定，通常就強度或操作性等 作業H薄層性專觀點而言為1〜500 μηι左右。特別好的是 1〜300 μηι，更好的是5〜2〇〇 透明保護膜為5〜15〇卿之 情形時尤其好。 再者，於偏光子之兩側設置透明保護膜之情形時，於其 表背均可使用包含相同聚合物材料之保護膜，亦可使用包 含不同聚合物材料等之保護膜。 作為本發明之透明保護膜，較好的是使㈣自纖維素樹 月曰、聚峡酸5旨樹脂、環狀聚烯煙樹脂及（甲基）丙烯酸樹脂 中之任意至少—者。 系 素 纖維素樹脂為纖維素與脂肪酸之醋。作為此種纖維素自旨 樹脂之具體例’可列舉：三乙醯纖維素、=乙醯纖維 、二丙醯纖維素、二丙_維素等。該等之中，特別好 134088.doc -18- 200920601 的2乙醯纖維素。三乙醯纖維素市售有較多之產品，就 獲侍谷易性或成本之觀點而言亦有利。作為三乙醯纖維素 之市售品之例，可列舉FUJIFILM公司製造之商品名「〇' 5〇」、「UV_8G」、「SH_8Q」、「TD•咖」、「τ〇· :AC」、「UZ-TAC」或柯尼卡公司製造之「Kc系列」 等通“亥等三乙醯纖維素之面内相位差（Re)幾乎為零， 厚度方向相位差（Rth)為〇〜6〇 nm左右。 再者’厚度方向相位差較小之纖維素樹脂膜，例如可藉 由^述纖維素樹脂進行處理而獲得。例如可列舉：將塗 :有，戊_、甲基乙基酮等溶劑之聚對苯二甲酸乙二醇 聚丙烯、不鏽鋼等之基材膜貼合於_般的纖維素系膜 L加熱乾燥（例如於购⑽下乾燥3〜10分鐘左右）後剝 种二:臈之方法；將使降冰片稀系樹脂、（甲基）丙稀酸系 2等溶解於環戊嗣、甲基乙基酮等溶劑中而形成之溶液 於^奴的纖維素樹脂臈上，加熱乾燥（例如於80〜150

C 下乾燥3〜1〇分鐘左右）後剝離塗佈臈之方法 另 夕卜 ^ Y作為厚度方向相位差較小之纖維素樹脂臈，可使 :知肪取代度之脂肪酸纖維素系樹脂膜。通常所使用 ::乙醯纖維素之乙酸取代度為28左右，較好的是可藉 =^㈣度控制於U〜2·7之範圍内而減小眺。於上 述脂肪醆取彳 代纖維素系樹脂中，可藉由添加鄰苯二曱酸二 J 酉曰、董+甲廿

Rth.本磺醯苯胺、乙醯檸檬酸三乙酯等塑化劑來將 Kth控制為較，丨、 r . 。相對於100重量份之脂肪酸纖維素系樹 月曰，塑化劑夕、；， 用夂添加量較好的是40重量份以下，更好的是 134088.doc 19 200920601 1〜20重量份，進而更好的是ι〜15重量份。 作為環狀聚烯烴樹 脂。環狀稀煙系樹:;之具體例’較好的是降冰片婦系樹 之樹脂之總稱，^ 環狀稀烴作為聚合單位進行聚合 '可列舉曰本專利特開平1-2405171#八 本專利特開平3~_號公報、曰本專利特開二 122137號公報等中 将開+3_ 環㈣烴之開環内二广。作為具體例’可列舉·· 狀烯烴與乙稀、丙V等5之=狀稀烴之加成聚合物’環 招丘职烯等之&烯烴及其共聚物（代表例為I 規八聚物及以不飽和㈣或其衍生物使 接 枝聚合物，以及該等之氯化物等。作為環狀稀煙之2 例，可列舉降冰片烯系單體。 作為環狀㈣_脂，有各種市售產品。作為具體例， 可列舉：日本ΖΕΟΝ股份有限公司製造之商品名 「则應」、「ZE_R」，⑽股份有限公司製造之商 品名「ARTON」’ TIC〇NA公司製造之商品名 「TOPAS」’三井化學股份有限公司製造之商品名 「APEL」。 作為（甲基）丙稀酸系樹脂，Tg(玻璃轉移溫度）較好的是 ii5t以上，更好的是12(rc以上，進而更好的是125。匚以 上’特別好的是13G°C以上。Tg為115。〇以上，藉此可使偏 光板成為耐久性優異者。上述（甲基）丙烯酸系樹脂之丁§之 上限值並無特別限定，就成形性等之觀點而言，較好的是 1 70 °C以下。可自（曱基）丙烯酸系樹脂獲得面内相位差 (Re)、厚度方向相位差（Rth)幾乎為零之臈。 134088.doc -20· 200920601 作為（曱基）丙烯酸系樹脂，於不損及本發明之效果之範 圍内’可採用任意之適當（甲基）丙烯酸系樹脂。例如可列 舉：聚甲基丙烯酸曱酯等聚（曱基）丙烯酸酯、甲基丙烯酸 甲酿-(曱基）丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸曱酯_(曱基）丙稀酸 酿共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯_(甲基）丙烯酸共聚 物、（甲基）丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物（MS樹脂等），具有脂 %族烴基之聚合物（例如’甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環 己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯_(甲基）丙烯酸降冰片酯共聚 物等）。較好的是可列舉聚（曱基）丙烯酸甲酯等聚（甲基）丙 烯酸C1-6烷基酯。更好的是可列舉以甲基丙烯酸曱酯為主 成分（50〜1〇〇重量％ ’較好的是7〇〜1〇〇重量％)之甲基丙烯 酸甲酯系樹脂。 作為（甲基）丙稀酸系樹脂之具體例，例如可列舉：三菱 麗陽股份有限公司製造之ACRYPET VH或ACRYPET VRL20A、日本專利特開20〇4_7〇296號公報中所記載之分 子内具有環結構之（曱基）丙烯酸系樹脂、藉由分子内交聯 或分子内環化反應所獲得之高丁§(甲基）丙烯酸系樹脂。 作為（甲基）丙烯酸系樹脂，可使用具有内酯環結構之（甲 基）丙烯酸系樹脂。因其較高之耐熱性、較高之透明性、 且藉由雙軸延伸而具有較高之機械強度。 作為具有内醋環結構之（甲基）丙烯酸系樹脂，可列舉： 曰本專利特開2000-230016號公報、曰本專利特開则_ 151814號公報、日本專利特開2〇〇2_12〇326號公報、曰本 專利特開则-254544號公報、日本專利特開扇⑷賴 134088.doc •21 · 200920601 内醋壤結構之（曱基）丙稀酸系 樹 號公報等中所記載之具有 脂。 以環結構之(甲基)丙稀酸系樹脂，較好的是具有 下遠通式（化D所表示之環結構。 [化1] COORS Β3 l 2 R及R分別獨立表示氫原子或碳原子數為 〜之有機殘基。再者，有機殘基可含有氧原子。 、'、 日％、，、°構之（曱基）丙稀酸系樹月旨之結構中之以通 式（化1)所表示之内酉旨擇έ士士故 曰展 '、，吉構之含有比例較好的是5〜9〇 量％ ’更好的是1〇〜7〇番 疋υ 70重夏％，進而更好的是1〇〜6〇重 % ’特別好的是1 0〜亩旦。/ 4 重里/〇。右具有内酯環結構之（甲基 丙烯酸系樹脂之結構中 之以通式（化1 )所表示之内酯環結構 之含有比例少於5重量％，則存在耐熱性、耐溶劑性、表 υ 面硬度變得不充分之可At —曰·^ 了月b。右具有内酯環結構之（曱基）丙 稀酸系樹脂之結構中，U .g斗· / ^ 4 T t以通式（化Ο所表示之内酯環結構之 3有比例夕於9G重Π則存在缺乏成形加卫性之可能。 具有内醋環結構之（甲基）丙婦酸系樹脂之質量平均分子 罝（亦稱為重量平均分子量）較好的是】_〜2_咖更好 的是5000〜1000000，進而更好的是10000〜5_00，特別好 的是5_0〜5_00。若質量平均分子量超出上述範圍就 成形加工性之觀點而言不佳。 134088.doc -22· 200920601 具有内酯環結構之（甲基）丙烯酸系樹脂之 ⑴。c以上，更好的是12代以上，進而更好的是125 = 上’特別好的是mm。因T“115〇c以上故例如於 其作為透明保護膜裝人偏光板中之情形時，偏光板成為耐 久性優異者。上述具有㈣環結構之（甲基）丙烯酸系樹脂

之Tg之上限值並無特別限定，就成形性等之觀點而言，較 好的是170°C以下。 X /具有内S旨環結構之（甲基）丙稀酸系樹脂，其藉由射出成 形而獲得之成形品之利用根據ASTM_D_丨〇〇3之方法所測定 之全光線透過率越高越好，較好的是85%以上，更好的= 跳以上，進而更好的是9〇%以上。这線透過率為透： 性之標準，若全光線透過率未滿85%，則存在透明性下降 之可能。 上述透明保護膜通常使用正面相位差未滿40 nm、而且 厚度方向相位差未滿8〇 11„1者。正面相位差以以^ = (ηχ_ ny)xd表示。厚度方向相位差Rth以Rth=(nx-nz)xd表示。另 外Nz係數以Nz=(nx_nz)/(nx_ny)表示。[其巾，分別將膜之 慢轴方向、快軸方向及厚度方向之折射率設為η” η” ηζ’將d(nm)設為膜之厚度。將慢軸方向作為臈面内之折 射率變最大之方向]。再者，較好的是透明保護膜儘可能 未上色。較好的是使用厚度方向之相位差值為.90 _〜+75 _之保護膜。藉由使用上述厚度方向之相位差值(Rth)為 90 nm +75 nm者，可基本消除由透明保護膜引起之偏光 板之著色（光學著色）。厚度方向相位差值（响進而更好的 I34088.doc •23- 200920601 是-80 nm〜+60 nm，特別好的是_7〇 nm〜+45 _。 另一方面，作為上述透明保護膜，可使用具有正面相位 差為40 nm以上及/或厚度方向相位差為80 nm以上之相位 差之相位差板。通常將正面相位差控制於4〇〜2〇〇 nm之範 圍内，將厚度方向相位差控制於8〇〜3〇〇 nm之範圍内。於 使用相位差板作為透明保護膜之情形時，由於該相位差板 亦可作為透明保護膜發揮功能，因此可謀求薄型化。

作為相位差板，可列舉對高分子素材實施單軸或雙軸延 伸處理而形成之雙折射性膜、液晶聚合物之配向膜、用膜 支持液晶聚合物之配向層者等。相位差板之厚度亦並無特 別限制，通常為2〇〜15〇 μηι左右。 作為高分子素材，例如可列舉：聚乙婦醇、聚乙稀丁 醛、聚甲基乙烯醚、丙烯酸聚羥乙酯、羥乙基纖維素、羥 丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸醋、聚芳酯、聚砜、聚 對苯二曱酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚 本硫醚、聚苯醚、聚芳砜、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、 聚氯乙烯、纖維素樹脂、環狀聚婦烴樹脂（降冰片稀系樹 脂）或該等之二it系、三元系各種共聚物、接枝共聚物、 混合物等。該等高分子素材藉由延伸等而成為配向物（延 伸膜）。 性 作為液晶聚合物’例如可列舉將賦予液晶配向性之共輛 之直線狀原子團（液晶原基）導人於聚合物之主鏈或支鍵 上的主鏈型或支鏈型之各種液晶聚合物。作為主鏈型之 晶聚合物之具體例，可列舉：具有於賦予彎曲性之間隔 I34088.doc -24- 200920601 鍵、、·。液晶原基之結構之例如❹ 合物、圓盤型聚合物或膽固醇型聚合物等==性聚 液晶聚合物之具體例，可列舉：：為支鏈型之 醋、甲其 乳貌、聚丙缔酸 β甲基丙婦酸醋或聚丙二酸醋作， 由包含㈣原子團之間隔部而具有包含向二= :==壤狀化合物單元之液晶原基部者作為支鏈之液 該等液晶聚合物例如藉由於對形成於玻璃板 胺或聚乙㈣等之薄膜之表面實施摩擦處理 向蒸鑛氧化石夕者等之配向處理面上展開液晶性聚合 物之;谷液並實施熱處理而獲得。 相位差板例如既可為以補償由各種波長板或液晶層之雙 折射所引起之著色或視角等為目的者等具有對應於使用目 的之適當之相位差者’亦可為積層兩種以上之相位差板並 控制相位差等之光學特性者等。 滿足 nx=ny>nz 、 nx>ny>nz 、 nx>ny=nz 、 nx>nz>ny 、 nZ=nX>ny、nz>nx>ny、nz>nx=ny之關係之相位差板，可對 應於各種用途而選擇使用。再者，所謂ny=nz不僅指叮與 nz完全相同之情形，亦包含町與以實質上相同之情形。 例如滿足nx>ny>nz之相位差板，較好的是使用滿足正面 相位差為40〜1〇〇 nm、厚度方向相位差為1〇〇〜32〇 ηιΏ、Nz 係數為1.8〜4.5者。例如滿足nx>ny=nz之相位差板（正a 板）’較好的是使用滿足正面相位差為〗〇〇〜2〇〇 nm者。例 如滿足nZ=nx>ny之相位差板（負a板），較好的是使用滿足 正面相位差為1〇〇〜200 nm者。例如滿足nx>nz>ny之相位差 134088.doc 25- 200920601 板’較好的是使用滿足正面相位差為1 50〜300 nm、Nz係數 為0〜0.7者。另外，如上所述，可使用例如滿足ηχ= ny>nz 、 nz>nx>ny或nz>nx=ny者。 透明保護膜可對應於所應用之液晶顯示裝置而適當選 擇。例如，於VA(Vertical Alignment，垂直配向；包含 MVA(Multi-domain VerticalAlignment，多區域垂直配 向）’ PVA(Patterned Vertical Alignment，圖形化垂直排

列））之情形時較理想的是偏光板之至少一側（單元側）之透 明保護膜具有相位差。作為具體之相位差，較理想的是 Re=0〜240 nm、Rth=0〜500 nm之範圍。若以三維折射率而 言，較理想的是 nx>ny=nz、nx>ny>nz、nx>nz>ny、np ny>nz(正a板、雙軸、負（^板）之情形。乂八型較好的是使用 正A板與負c板之組合、或者1張雙軸膜。當於液晶單元之 上下使用偏光板時，液晶單元之上下均具有相位差，或者 上下任意之透明保護膜具有相位差亦可。 例如，於IPS(In-Plane Switching’橫向電場切換；包括 FFS(Fringe Field Switching，邊緣電場轉換））之情形時， 可使用偏光板之一側之透明保護膜具有或不具有相位差之 任一情形。例如，於不具有相位差之情形時，較理想的是 液晶單元之上下（單元側）均不具有相位差之情形。二具= 相位差之情形時，較理想的是液晶單 /、 ^ ^ ^ >均具有相位 差之t,形’或者上下之任一者具有相位差之情形(例如， 上側具有滿足nx>nz>ny之關係之雙軸犋、下側無相位差 情形，或者上側具有正入板、下側具有 之 、1扳之情形）。於 134088.doc -26- 200920601 具有相位差之情形時，勒；^目^^曰 I月〜Τ竿又理想的是Re=_5〇〇〜500 nm、

Rth=-500〜500 nm之範圍。若以三維折射率而言較理想 的是 nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz>nx=ny、nz>nx>nWi A板、 雙軸、正C板）。 再者’可將上述具有相位差之膜以其他方式貼合於不具 有相位差之透明保護膜上而賦予其上述功能。 於將接著劑塗佈於上述透明保護膜之前，為了提昇其與 偏光子之接著性，可對其進行表面改性處理。作為具體之 處理，可列舉：電晕處理、電聚處理、框架處理、臭氧處 理、底塗處理、輝光處理、矣化處理、利用偶合劑之處理 等。另外，可適當地形成抗靜電層。 ,於上述透明保護膜之不與偏光子接著之面亦可為實施硬 塗層或抗反射處理、實施以抗黏附或擴散或抗眩為目的之 處理者。 硬，處理係㈣止偏光板表面損傷等為目的而實施者， #可藉由❹將由丙_系、聚石夕氧系等之適當之紫外線 硬化㈣脂所形成之硬度或滑動特性等優異之硬化皮膜貼 付於透明保護膜之表面上之方式等而形成。抗反射處理係 以防止偏光板表面之外光之反射為目的而實施者，其可藉 由以先前為標準之抗反射膜等之形成而達成。另外，抗‘ 里係以防止其㈣接層（例如，背光源側之擴散板）之 雄者為目的而實施。 另外’抗眩處理係以防止外光於偏光板之表面上反射而 阻礙偏先板透過光之可見度等為目的而實施者，其可藉由 134088.doc •27· 200920601 例如以利用噴砂方式或 化加方式之粗面化方式或透明 U极子之調配方式等 微細田之方式賦予透明保護膜之表面以 中::：結構而形成。作為上述表面微細凹凸結構之形成 勺八\微粒子’例如可使用平均粒徑為0.5〜20㈣之 匕3 —氧化矽、氧化鋁、 相技_ 乳化鈦乳化鍅、氧化錫、氧化 入六乳化@ I化銻等且具有導電性之無機系微粒子，包 9或未乂聯之聚合物等之有機系微粒子等透明微粒 、。於形成表面微細凹凸結構之情形日夺，相對於1〇〇重量 ^形成表面微細凹凸結構之透明樹脂，微粒子之使用量 通韦為2〜70重量份左右，較好的是5〜5〇重量份。抗眩層亦 可為兼具擴散偏光板透過光而擴大視角等之擴散層（視角 擴大功能等）者。 再者’上述抗反射層、抗黏附層、擴散層或抗眩層等除 可設置為透明保護膜本身料，亦可另外作為光學層即與 透明保護膜不同者而設置。 於上述偏光子與透明保護膜之接著處理十使用接著劑。 2為接著劑，可列舉’·異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接 著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、水系聚酯等。上述 接著劑通常作為包含水溶液之接著劑使用，且通常含有 0.5〜60重量％之固形分。除上述以外，作為偏光子與透明 保護膜之接著劑，可列舉紫外線硬化型接著劑、電子束硬 化型接著劑等。電子束硬化型偏光板用接著劑對上述各種 透明保護臈顯示較佳之接著性。另外，亦可使本發明中所 使用之接著劑含有金屬化合物填料。 134088.doc •28· 200920601 另外作為光學膜，例如可列舉：反射板或反透過板、 上述相位差板（包含1/2或1/4等之波長板）、視覺補償膜、 增亮膜等用於形成液晶顯示裝置等之成光學層者。該等除 可早獨作為光學膜你用|、7 & 、更用以外’於實際使用時可於上述偏光 板上積層一層或兩層以上而使用。 特別好的是進而於偏光板上積層反射板或半透過反射板 而形成之反射型偏光板或半透過型偏光板、進而於偏光板 上積層相位差板而形成之擴圓偏光板或圓偏光板、進而於 偏光板上積層視覺補償膜而形成之寬視角偏光板、或者進 而於偏光板上積層增亮膜而形成之偏光板。 反射型偏織為於偏光板上設置有反射層者，其係用以 形成使來自觀察側（顯示側）之人射光反射而進行顯示之類 型的液晶顯示裝置等者’其具有可省略背光源等光源之内 置且易於谋求液晶顯示裝置之薄型化等優點。反射型偏光 板之形成，視需要可藉由透過透明保護 之反射層附設於偏光板之-面上之方式等適當之::而： 行0 作為反射型偏光板之具體例’可列舉：視需要將包含銘 等反射性金屬之落或蒸鑛膜附設於經褪光處理之透明保嘆 膜之-面上而形成反射層者等。另外’亦可列舉使上述透 明保護臈含有微粒子而形成表面微細凹凸結構，並於其上 具有微細心結構之反射層者等。上述微細凹凸結狀反 射層具有藉由漫反射使入射光擴散而防止定向性或刺目之 外觀、且可抑制明暗不均之優點等。另外’含有微粒子之 134088.doc -29. 200920601 保。蒦膜亦具有入射光及其反射光透過其時被擴散而可進一 步抑制明暗不均之優點等。反映透明保護臈之表面微細凹 凸結構的微細凹凸結構之反射層之形成，可藉由例如利用 真空蒸鍍方式、離子電鍍方式、義方式或電链方式等適 當之方式將金屬直接附設於透明保護層之表面上之方法等 而進行。 反射板亦可用作於以其透明膜為標準之適當之膜上設置 反射層而形成之反射片等代替於上述偏光板之透明保護膜 上直接賦予反射板之方式。Μ，由於反射層通常包含金 屬’因此其反射面受到透明保護膜或偏光板等被覆之狀態 之使用態樣就防止由氧化所引起之反射率下降、以及初期 反射率之長期持續、或者避免另外附設保護層之觀點等而 言較好， 再者，半透過型偏光板可藉由將上述中之反射層製成反 射且透過光之半反射鏡等半透過型反射層而獲得。半透過 型偏光板通常設置於液晶單元之背面側，可形成如下類型 之液晶顯示裝置等，該液晶顯示裝置於將液晶顯示裝置等 用於相對明亮之環境中之情形時，其使來自觀察側（顯示 側）之入射光反射而顯示圖像，於相對較暗之環境中，使 用内置於半透過型偏光板之背面之背光源等内置電源來顯 示圖像。即’半透過塑偏光板對於形成如下類型之液晶顯 示裝置等有用，該液晶顯示裝置於明亮之環境下可節約使 用背光源等之光源之能量’於相對較暗之環境下亦可使用 内置電源而使用。 134088.doc -30- 200920601 。就進而於偏光板上積層相位差板而形成之橢圓偏光板或 圓偏光板加以說明。於將直線偏光轉變為橢圓偏光或圓偏 光、或將橢圓偏光或圓偏光轉變為直線偏光、或者改變直 線偏光之偏光方向之情形時使用相位差板等。尤其是作為 將直線偏光轉變為圓偏光或將圓偏光轉變為直線偏光之相 位差板’使用所謂1/4波長板（亦稱為λ/4板）。1/2波長板（亦 稱為λ/2板）通常用於改變直線偏光之偏光方向之情形時。

橢圓偏光板可有效地用於補償（防止）因超扭轉向列 (STN)型液晶顯示裝置之液晶層之雙折射而產生之著色（藍 或者黃），進行上述無著色之黑白顯示之情形時等。進 而，控制三維之折射率者亦可補償（防止）自傾斜方向觀察 液晶顯示裝置之畫面時所產生之著色’故較好。圓偏光板 可有效地㈣例如調整圖像成彩色顯示之反射型液晶顯示 裝置之圖像之色調之情形時等，另外，其亦具有抗反射之 功能。 另外’上述橢圓偏光板或反射型橢圓偏光板為將偏光板 或反射型偏光板與相位差板適當組合並積層而成者。上述 橢圓偏光板等亦可藉由於液晶顯示裝置之製造過程中以 (反射型）偏光板與相位差板之組合之方式依序分別將該等 積層而形成’如上所述事先製成橢圓偏光板等之光學膜者 具有品質之穩定性或積層作業性等優異、可提昇液晶顯示 裝置等之製造效率之優點β Λ 視覺補償膜係為了自稍傾斜而非垂直於晝面之方向觀察 液晶顯示裝置之畫面之情形時，亦使圖像看上去相對清: 134088.doc 200920601 而擴大視角之膜。作為此種視覺補償相位差板，例如包含 於相位差板、液晶聚合物等之配向膜或透明基材上支 液晶聚合物等之配向層者等。通常之相位差板使用於其面 方向上沿早轴延伸且具有雙折射之聚合物膜，相對於此， 於作為視覺補償膜而使用之相位差板中，使用於 ΓΓ延伸且具有雙折射之聚合物膜，或者於面方向上沿 早軸延伸亦沿厚度方向延伸、且控制厚度方向之折射率之 具有雙折射之聚合物或如傾斜配向膜之雙向延伸膜等。作 為傾斜配向膜’例如可列舉：將熱收縮臈接著於聚合物膜 並於加熱之收縮力之作用下對聚合物臈實施延伸處理或/ 及收縮處理者’或者將液晶聚合物傾斜配向者等。相位差 反之素材原料聚合物可使用與先前之相位差板中所說明之 聚合物相同者’亦可使用以防止基於液晶單元之相位差的 觀察角之變化所引起之著色等或擴大良好觀察之視角等為 目的之合適者。 另外=就達成良好觀察之寬視角之點等而言，可較好地 ::以三乙醯纖維素臈支持包含液晶聚合物之配向層、尤 /、、θ圓盤型液晶聚合物之傾斜配向層之光學異向性層的光 學補償相位差板。 3 、α有偏光板與增亮膜之偏光板通常設置於液晶單元之 r 而使用。若自然光藉由來自液晶顯示裝置等之背光 二或背面側之反射等而入射，則增亮膜顯示出反射特定偏 一之直線偏光或特定方向之圓偏光而透過其他光之特 積層有增壳骐與偏光板之偏光板使來自背光源等光源 134088.doc •32- 200920601

之光入射而獲得特定偏光狀態之透過光，並且上述特定偏 光狀態以外之光無法透過而被反射。進而使該增亮膜面所 反射之光經由設置於該增亮膜面後側之反射層等而反轉， 從而使其再次入射至增亮膜，使其一部分或全部作為特定 偏光狀態之光透過來謀求透過增亮膜之光之增量，並且供 給偏光子難以吸收之偏光來謀求可用於液晶顯示圖像顯示 等中光量之增大，藉此可使液晶顯示圖像之亮度提昇。 即，於不使用增亮膜，自液晶單元之背面側藉由背光源等 通過偏光子而使光入射之情形時，具有與偏光子之偏光軸 不一致之偏光方向之光幾乎全部被偏光子吸收，而無法透 過偏光子。即，根據所使用之偏光子之特性而有所不同， 但大約5 0 %之光被偏光子吸收 因此可用於液晶圖像顯示 等中之光量減少，從而導致圖像變暗。增亮膜不使具有如 被偏光子吸收之偏光方向之光入射之偏光子，而使其於增 亮膜上反射一次，進而經由設置於該增亮膜後側之反射層 等使其反轉而再次入射至增亮膜，反覆進行該步驟，並‘ 使於此兩者間進行反射、反轉之光之偏光方向成為可通過 偏光子之偏光方向之偏振光透過增亮膜而供給於偏光子， 因此可有效地將背光源等光用於液晶顯示裝置之圖像之顯 示中，並可使畫面明亮。 亦可於增亮膜與上述反射層等之間設置擴散板。藉由增 亮膜所反射之偏光狀態之光朝向上述反射層等，但^設^ 之擴散板使通過之光均勾地擴散，同時消除偏光狀態而使 光成為非偏光^大態。即’自然:光狀態之光朝向反射層等， I34088.doc -33- 200920601 經由反射層等而反射，再次通過擴散板而再次入射至增亮 臈，反覆進订該步驟。如此於增亮膜與上述反射層等之間 设置使偏振光恢復至原來之自然光之擴散板，藉此可維持 顯示晝面之明亮度’同時可減少顯示畫面之明亮度之不 . '句’從而可提供均勻且明亮之晝面。一般認為藉由設置上 述擴散板，初次之入射光之反射之反覆次數適當地增加， 且其與擴散板之擴散功能互相結合，從而可提供均句之明 亮之顯示晝面。 作為上述增亮膜，例如可使用如介電體之多層薄臈或具 有折射率異向性不同之薄臈的多層積層體等顯示出透過特 疋偏光軸之直線偏光並反射其他光之特性者；如膽固醇型 液晶聚合物之配向臈或於膜基材上支持其配向液晶層者等 頌示出反射左旋轉或右旋轉之任一者之圓偏光並透過其他 光之特性者等合適者。 因此，上述使特定偏光軸之直線偏光透過型之增亮臈使 〇 冑過光之偏光軸-致而將其直接入射至偏光板，藉此可抑 制偏光板之吸收損失且可有效地使光透過。另一方面，如 膽固醇型液晶層之透過圓偏光型之增亮膜亦可使光直接入 射至偏光子，但就抑制吸收損失之觀點而言較好的是使該 ' 圓偏光經由相位差板而直線偏光化後將其入射至偏光板。 再者，使用1/4波長板作為相位差板，藉此可使圓偏光轉 換為直線偏光。 <於可見光區域等較寬之波長中作為1/4波長板而發揮功 能之相位差板，可藉由例如將作為1/4波長板對波長55〇 134088.doc -34- 200920601 nm之淡色光發揮功能之相位差板與顯示其他相位差特性之 相位差層、例如作為1/2波長板發揮功能之相位差層加以 重疊之方式等獲得。因此，配置於偏光板與增亮膜之間之 相位差板亦可為包含一層或兩層以上之相位差層者。 再者，關於膽固醇型液晶層，亦可使反射波長不同者組 合而形成兩層或三層以上重疊之配置結構，藉此可獲得於 可見光區域4較寬之波長範圍内反射圓偏光者，據此可獲 得較寬之波長範圍之透過圓偏光。 另外，偏光板如上述之偏光分離型偏光板，亦可為包含 積層偏光板與兩層或三層以上之光學層者。因此，亦可為 將上述反射型偏光板或半透過型偏光板與相位差板組合而 成之反射型橢圓偏光板或半透過型橢圓偏光板等。 於偏光板上積層上述光學層而成之光學膜，亦可以於液 晶顯不裝置等之製造過程中分別依序積層光學層之方式形 成，但事先積層而形成光學膜者具有品質之穩定性或組裝 作業等優異、可提昇液晶顯示裝置等之製造步驟之優點。 積層可使用黏著層等適當之接著方法。於上述偏光板與其 他光學層之接著時，可對應於作為目標之相位差特性等使 該等之光學軸成適當之配置角度。 再者，亦可於本發明之黏著型光學膜之光學膜或黏著劑 層等各層上，例如藉由以水揚酸酯系化合物或苯并苯酚系 δ物本并_。坐系化合物或氰基丙烯酸g旨系化合物、鎳 錯合鹽系化合物等紫外線吸收劑進行處理之方式等方式而 使各層具有紫外線吸收能等。 134088.doc -35- 200920601 本發明之黏著型光學膜 製造。向光學膜上積層51 ’予膜上積層黏著劑層而 予賜上積層黏著劑層 設置有黏著劑層 法，例如可列舉藉由 ㈣層之脫拉片將黏著劑 片上之黏著劑層夕# # <万去等。脫模 者幻層之形成可藉由將黏著 片上’並進行乾燥而進行。作為上、… 佈於脫杈 向塗佈、凹版印心> 4 Μ塗佈法’可採用：反 沖凹版印刷式塗佈等親塗法 法、喷注式塗佈法、芦 + 土 、、，，糸網塗佈 並益特別r 4 ’育上法等。黏著劑層之厚度 '，，、特別限疋，較好的是10〜40 _左右。 旱度 作為脫模片之構成材料，可_ 烯、聚對田喊 I乙稀、聚丙 張、布厂'乙二醇醋等合成樹脂膜，橡膠片、紙 m 網'發泡片或金屬洛、該等之層麗體等 適當之薄片體等。A 尽厘體等 需要亦π 4 了“自黏者劑層剝離之剝離性，視 而要亦可於脫模片夕矣 祝 理、氣處理等：： 聚㈣處理、長鏈貌基處 亂處理專低接著性之剝離處理。 進行上述積層步驟風 Ο 这先子膜之面及黏著劑層之面於 實施積層步驟前，實施表 崎 處理，生處理。作為上述表面活性 歹澤.電漿處理、電暈放電處理、紫外線處理 電子束處理及臭氧虚揮望““、， 、卜踝處理、 I 、 等作為上述表面活性處理，就密 者性之觀點而t鲂杯沾θ史狀士 尤在 與n 聚處理、電晕放電處理。於光 子、面及黏著劑層之面上所實施之身而、$ w + 同，亦可不同。 ％實施之表面活性處理可相 下電裳處理^藉由例如利用電衆放電機於減塵下或大氣壓 於含有氮氣、氧氣、氨氣、氬氣及氦氣等中之至少一 種氣體之氣體環境中進行放雷 兄甲進仃敦電之方式進行。電漿處理為於 134088.doc -36- 200920601 上述條件下所產生之藉由上述氣體等之電毁所引起之化學 反應處理。作為減壓電漿之條件’壓力通常採用m toy作A A氣堡下之電漿條件，通常較好的是在氨氣、 " 氦氣等h性氣體之環境下，或者在向該等惰性氣體 中，合氧氣、氨氣等活性氣體之環境下進行。混合上述惰 氣體/、活性氣體之情形時之比例，較好的是相對於 8〇〜99重罝％左右之惰性氣體，活性氣體為1〜20重量％左 右。更好，是相對於90〜95重量％之惰性氣體，活性氣體 為〇重置/〇。另外，上述光學膜之面及黏著劑層之面之 表面活性處理均為電衆處理，而且上述光學膜之面及黏著 d層之面之至少—面之電漿處理於包含活性氣體之氣體中 (惰性氣體中）迆;^，古t & J進仃就捲曲之抑制效果、密著性之提昇效 果之觀點而言較姑。牲T2丨k 毕乂好特別好的是於包含氧氣之氣體中（惰 性氣體中）進行。 ⑽ 電漿處理中之頻率為】〜4Λ 丄 kiiz左右，較好的是3〜3 5 kHz，比能密度（s 彳 P Energy Density)(電力：W除以電 極面積：cm2所得之 丨〇 w/cm左右，較好 0.5〜2 W/cm2。另外，於友 卜於大乳壓下，氣體流量較好的是 1〜500 L/min左右。另外，虛 处里時間較好的是0.1秒〜1 〇分鐘 左右。處理時間可读者★思敕 田调t ’例如於用流水線貼合光學 及黏著劑層（設置有脫模片 、 , 片之黏者劑層）之情形時，例如可 將踝迷δ又疋為1〜50 m/min， 竿又好的疋5〜30 m/min，藉此棘 制上述處理時間。 稽此徑 電暈放電處理可藉由例如 J W'電極與輥之間設置間隙，並 134088.doc -37- 200920601 於5玄專之間施加高雷 電壓而引起放電，於電極與輥之間配置 光學膜或黏著劑層而 直 ❿進行。作為具體之條件，例如輸出為 電極、Π 好的是〇·5〜h5kW。電極可列舉觀式 =棒式電極等。間隙寬度為。.5〜10 mm左右，較好的 疋i〜3 mm。另外，+ 間可適當調整，例Γ時間為u秒〜1Q分鐘左右。處理時 r 於用流水線貼合光學膜及黏著劑層 =脫核片之黏著劑層)之情形時，例如可將線速設定 二，一較好的是5〜3〇—η，藉此控制上述處理 U令間。 作為紫外線處理，可旅 電管、水銀燈、雷射鼠氣放電管，放 苦射等紫外線源，照射5〜60分鐘左右之波 長為150〜2〇〇〇 nm之紫 件，可採用：使用曰:：右表示更具體之條 用日本電池股份有限公司製造 ::二低壓水銀燈之波長為254.1 85 nm、輸出為1 二:與樣品之距離為5。_之條件。電子束處理可於 ιυ 〜1〇 torr之厕：六"r u ^ 力下，先束電流值為1〜10 mA、處理速 分鐘、鈦羯厚度為15〜、加速電壓為 1 50〜250 kV、日召射吾盔^ c ! ο …里為〇.5〜12〇 Mrad左右之條件下進行。 臭巩處理可根據通常之方法進行。 ^明之黏者型光學膜可較好地用於液晶顯示裝 ==裝置之形成等中。液晶顯示裝置之形成可根據 /進仃。# ’液晶顯示裝置通常藉由將液晶單元 :尚:型光學臈、以及視需要之照明系統等構成零件進行 、田組裝後組成驅動電路等而形成，於本發明中除使用 134088.doc *38· 200920601 本發明之黏著型光學膜以外並無特別限定，可根據先前之 關於液晶單元，亦可使用例如TN型或STN型、^ 型、VA型、ips型等任一類型。 可形成於液晶單元之一側或兩側配置有黏著型光學膜之

^ a曰顯7F裝置' 或者於照明系統中使用背光源或反射板者 等適當之液晶顯示裝置。於此情形時，可將本發明之光學 膜設置於液晶單元之一側或兩側。於將光學膜設置於兩側 之情形時，該等可相同亦可不同。進而，於形成液晶顯示 裝置時’例如可將一層或兩層以上之擴散板、抗眩層、抗 :射膜、保護板、稜鏡陣列板、透鏡陣列片'光擴散板、 背光源等適當之零件配置於適當之位置。 其次，就有機電致發光裝置（有機£1^顯示裝置）加以說 月本發明之光學膜（偏光板等）亦可用於有機EL_示裝置 中。通常’有機EL顯示裝置係於透明基板上依序積層透明 電極、有機發光層與金屬電極而形成發光體（有機電致發 光發光體）。此處，有機發光層為各種有機薄膜之積層 體，已知有例如包含三苯基胺衍生物等之電洞注入層與2 含蒽等螢光性有機固體之發光層的積層體，或者包含此種 發光層與茈衍生物等之電子注入層之積層體，或者具有哕 等電洞注入層、發光層及電子注入層之積層體等各種組合 之構成之積層體。 、σ 有機el顯示裝置按以下之原理進行發光，即藉由於透明 電極與金屬電極上施加電壓，使電洞與電子注入 先曰’精由該等電洞與電子之再結合所產生之能量會激發 134088.doc •39- 200920601 螢光物質’受到激發之螢光物質恢復至基底狀態時放射 先。所謂令途之再結合之機制與通常之二極體相同，由此 亦可預測，電流與發光強度相對於施加電虔顯示伴隨整流 性之較強之非線形性。 於有機EL顯示裝置中’為了取出有機發光層之發光，至 少一方之電極必須為透明，通常使用以氧化銦錫（ιτ〇)等 透明導電體所形成之透明電極作為陽極。另—方面，為使 電子注入容易並提昇發光效率，重要的是使用功函數較小 之物質作為陰極，通常使用Mg-Ag、等金屬電極。 於此種構成之有機EL顯示裝置中，有機發光層之厚度為 1〇 nm左右時，會形成極薄之臈。因此，有機發光層亦與 透明電極相@ ’幾乎使光完全透過m，由於不發光 時自透明基板之表面入射、透過透明電極與有機發光層並 由金屬電極反射之光再次向透明基板之表面側射出，因此 自外部觀察時，有機EL顯示裝置之顯示面看上去如鏡面。 於包含於藉由施加電壓而發光之有機發光層之表面側具 備透明電極、並且於有機發光層之背面側具備金屬電極而 形成之有機電致發光顯示發光體的有機EL顯示裝置中，可 於透明電極之表面側設置偏光板，並且可於該等透明電極 與偏光板之間設置相位差板。 由於相位差板及偏光板具有使自外部入射並由金屬電極 反射之光偏光之作用，因此藉由該偏光作用而具有自外部 無法觀察金屬電極之鏡面之效果。尤其是若以1/4波長板 構成相位差板’且將偏光板與相位差板之偏光方向所成之 134088.doc -40- 200920601 角調整為π/4，則可完全遮蔽金屬電極之鏡面。 即，藉由偏光板，入射至該有機EL顯示裝置之外部光僅 直線偏光成分透過。該直線偏光藉由相位差板而通常成為 橢圓偏光’但尤其是於相位差板為"4波長板且偏光板與 相位差板之偏光方向所成之角為π/4時成為圓偏光。 該圓偏光透過透明基板、透明電極、有機薄膜，由金屬 電極反射，並再次透過有機薄膜、透明電極、透明基板， 於相位差板上再次成為直線偏光。並且’由於該直線偏光 與偏光板之偏光方向正交，因此其無法透過偏光板。其結 果’可完全遮蔽金屬電極之鏡面。 實施例 以下，根據實施例具體說明本發明，但本發明並不限定 於該等實施例。再者，各例中之份及％均為重量基準。 實施例1 (光學膜） 使厚度為80 μηι之聚乙烯醇系膜於碘溶液中延伸5倍，乾 燥後獲得偏光子。藉由聚乙烯醇系接著劑，將經皂化處理 之厚度為80 μηι之三乙醯纖維素膜貼合於該偏光子之兩 面’製成光學膜（偏光板）。 (丙烯酸系聚合物之製備） 將1〇〇份之丙烯酸丁酯、3份之丙烯酸、01份之丙稀酸2_ 經乙酿及〇.3份之2,2，-偶氮雙異丁腈與乙酸乙酯一併加入具 備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器内 來製備溶液。其次，一邊將氮氣吹入該溶液中一邊攪拌， 134088.doc •41 - 200920601 於55°C下使之反應8小時，獲得含有重量平均分子量為22〇 萬之丙稀酸系聚合物之〉谷液。進而，於該含有丙稀酸系來 合物之溶液中加入乙酸乙酯，獲得固形分濃度調整為3〇% 之丙稀酸系聚合物溶液。 (黏著劑層之形成） 相對於上述丙烯酸系聚合物溶液之固形分1〇〇份，依序 調配作為交聯劑之以0.5份之具有異氰酸酯基之化合物作 為主要成分之交聯劑（日本聚氨酯股份有限公司製造，商 品名「CORONATE L」）、以及作為矽烷偶合劑之〇〇75份 之γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷（信越化學工業股份有 限公司製造，商品名「議朝」），從而製備黏著劑溶 液。將上述黏著劑溶液塗佈於經剥離處理之包含聚對苯二 甲酸乙二醇酯膜（厚度為38 μπι)之脫模片之表面上，以使 其乾燥後之厚度達到25 μηι，乾燥後形成黏著劑層。 (表面活性處理：電漿處理） 、：鼠氣環境下，分別對上述偏光板之一面及形成於上述 脫杈片之剝離處理面上之黏著劑層之表面進行電聚處理。 :黎處理之條件設為輸出：〇15 kw '比能密度：工 W/cm (電極面積· 15〇 2、 槓15〇cm)、頻率：5kHz、氣體流〇 L/min、線速為 2 m/min。 面表面活性處理之形成於脫模片之剝離心 者別《黏者，從而製成黏著型光學膜（翁 134088.doc -42- 200920601 著型偏光板）。 實施例2 =施m中，分別於95%之氮氣、5%之氧氣之混合氣 -衣忧下進仃電漿處理，除此以夕卜，以與實施例】相同之 方式獲得黏著型光學膜(黏著型偏光板)。 實施例3 於實施例1中，分別於95%之氮氣、5%之氣氣之混合氣 體環境下進行電漿處理，除此以彳，以與實施例i相同之 方式獲得黏著型光學臈（黏著型偏光板）。 實施例4 於實施例1中，使用進行雙軸延伸之厚度為100 之降 水片稀型树月曰（JSR股份有限公司製造，art〇N)臈作為光 子膜，除此以外，以與實施例丨相同之方式獲得黏著型光 學膜（黏著型相位差板）。 實施例5 於實施例1中，於氮氣環境下對偏光板之一面進行電漿 處理，另一方面，於95%之氮氣、5%之氧氣之混合氣體環 境下對黏著劑層之表面進行電漿處理，除此以外，以與實 施例1相同之方式獲得黏著型光學膜（黏著型偏光板）。 實施例6 於實施例1中’於95%之氮氣、5%之氨氣之混合氣體環 圭兄下對偏光板之一面進行電漿處理’另一方面，於9 5 %之 氣氣、5。/。之氧氣之混合氣體環境下對黏著劑層之表面進 行電衆處理，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得黏 134088.doc -43- 200920601 著型光學臈（黏著型偏光板）。 實施例7 於實施例1中’分別進行電暈處理代替電漿處理，除此 以外，以與實施例丨相同之方式獲得黏著型光學膜（黏著型 偏光板）。電暈處理之條件設為輸出：〇,丨kw、棒狀電 極間隙為1 mm、線速為2 m/min。 比較例1 於實施例^ ’僅對偏光板之—面進行電漿處理，除此 以外’以與實施例！相同之方式獲得黏著型光學膜（黏著型 偏光板）。 比較例2 於實施例1中，僅對黏著劑層之表面進行電浆處理，除 1:二以，實施例1相同之方式獲得黏著型光學膜(黏著 比較例3 於實施例7中，僅對偏光板 ^ 面進仃電箪處理，除肤 以外，以與實施例7相同 ’、 偏光板）。 $獲得黏著型光學膜（黏著型 比較例4 於實％例7中’僅對黏著 θ 9之表面進行電暈處理，除 此以外，以與實施例7相 “ 型偏光板）。 方Μ得黏著型光學膜（黏著 比較例5 於實施例1中 對偏光板之— 面及黏著劑層之表面均不 134088.doc • 44 · 200920601 進行電漿處理，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得 黏著型光學膜（黏著型偏光板）。 對於上述實施例及比較例所獲得之黏著型光學膜進行以 下評價。評價結果示於表】。 (黏著劑殘留） 將由上述方法製成之黏著型偏光膜按5〇 mmx 1 500 mm之 大小切成50張’並將該等貼合於玻璃板（c〇rning&司製造 之無驗玻璃板#1737)上，於50°Cx5 MPa之環境下放置15分 鈿。其次’於1 80。方向上以3 00 mm/分鐘之速度分別將黏 著型偏光膜自玻璃上剝離。其後，用目視確認玻璃上附著 有黏著劑之樣品之張數（附著張數）。 (黏著劑欠缺） 用湯姆生刀模將由上述方法製成之黏著型偏光臈衝壓成 25 mmxl50 mm之大小，並使切斷端部（25 mm寬度側）連續 20次接觸玻璃板（Corning公司製造之無鹼玻璃#n37p其 後，用目視確認各個黏著型光學膜之上述接觸部分，按以 下之基準進行評價。 〇：無深度為1 5 0 μηι以上之黏著劑欠缺。 △:有深度超過150 μηι、未滿30〇 μιη之黏著劑欠缺，但 實際使用上無問題。 Χ :有深度為300 μιη以上之黏著劑欠缺。 (密著性） 將由上述方法製成之黏著型偏光膜切割成乃爪爪“咒 mm之大小，將該黏著型偏光膜之黏著劑層面與使銦-氧化 134088.doc •45- 200920601 錫蒸鍍於50 μπι厚之聚對苯二甲酸乙二醇酯膜表面上而形 成之黑·鍍膜之蒸鍍面以相接之方式貼合後，於23它/6〇% RH之環境下放置20分鐘以上。其後，用手剝離聚對苯二 曱酸乙二醇酯膜之端部，確認黏著劑附著於聚對苯二甲酸 乙二醇酯膜側後，使用島津製作所製造之拉伸試驗機AG-1 測定（25 C)於180方向上以3〇〇 mm/分鐘之速度剝離時之 應力（N/25 mm)。 (捲曲） 用湯姆生刀模將由上述方法製成之黏著型偏光膜衝壓成 100 mmxl50 mm之大小，並將其靜置於玻璃板（c〇rning& 司製造之無鹼玻璃#1 737)上。測定切斷端部（1〇〇 mm寬度 側）與玻璃之距離（捲曲量），按以下基準進行評價。 〇：無1 0 mm以上之捲曲。 △:有超過10 mm、未滿20 mm之捲曲，但實際使用上 無問題》 X :有30 mm以上之捲曲。 134088.doc -46- 200920601 評價 捲曲 <] 〇 〇 〇 〇 〇 X X X X X 密著 (N/25 mm) 卜 寸 〇 〇 寸 黏著 劑欠缺 < 〇 〇 〇 〇 〇 X X X X X Ϊ蠢 S| 0/50 0/50 0/50 0/50 0/50 0/50 0/50 25/50 42/50 12/50 14/50 45/50 表面活性處理 黏著劑層表面 電漿處理(氮氣） 電漿處理(氮氣+氧氣） 電漿處理(氮氣+氨氣） 電漿處理(氮氣+氧氣） 電漿處理(氮氣+氨氣） 電暈處理 1 電漿處理(氮氣） » 電暈處理 1 光學膜之一面 電漿處理(氮氣） 電漿處理(氮氣+氧氣） 電漿處理(氮氣+氨氣） 電漿處理(氮氣） 電漿處理(氮氣） 電漿處理(氮氣+氧氣） 電暈處理 電漿處理(氮氣） 1 電暈處理 1 I |實施例1 | 實施例2 1實施例3 I |實施例4 |實施例5 |實施例6 實施例7 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 -47- 134088.doc

Claims (1)

1. 200920601 、申請專利範圍： 1. 種黏者型光學膜之^ 主艽子胰之表绝方法，其具有於光學膜之至少 一面上積層黏著劑層之步驟，其特徵在於： 上述積層步驟係藉由於待進行該積層步驟之上述光學 膜之面及黏著劑層之面上進行表面活性處理後，積層經 該表面活性處理之光學膜之面及黏著劑層之面而進行。 2.如請求们之黏著型光學膜之製造方法，其中上述表面 活性處理係選自電漿處理、電晕放電處理、紫外線處 3. 理、電子束處理及臭氧處理中之任意至少一種處理。 如請求項！之黏著型光學膜之製造方法，其中上述表面 :性處理係電激處理，且於含有選自氮氣、氧氣、氨 m及氦氣中之任意至少—種氣體中進行該電浆處 理。 4. 5. 6. 7. 如凊求項3之黏著型光學膜之製造方法，其中上述光學 膜之面及黏著劑層之面之表面活性處理均為電衆處理， 而且上述光學膜之面及黏著劑層之面之任意至少一個面 之電漿處理係於含有氧氣之氣體中進行。 一種黏著型光學臈’其係藉由如請求項！至4中任一項之 製造方法而獲得。 一種圖像顯示裝置，其使用至少 光學膜。 張如叫求項4之黏著型 一種方法，其於光學臈之至少一面上 造黏著型光學料， 積層㈣劑層而製 於待進行上述積層之上述光學膜之面及黏著劑層之面 134088.doc 200920601 上進行表面活性處理後，積層經該表面活性處理之光學 膜之面及黏著劑層之面，藉此提昇由該積層所獲得之黏 著型光學膜中之光學膜與黏著劑層之密著性，並抑制黏 著型光學膜之捲曲。 C C 134088.doc 200920601 七、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：（無） (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： (無） 134088.doc