TW201210972A - Glass for display device and glass plate - Google Patents
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201210972 六、發明說明： 【發明所屬之技術部域】 本發明關於-種用於顯示襄置之玻璃板，其係用作例 如顯示裝置之蓋玻璃或容納有顯示裝置之底盤的構成元 件，以及關於適用於此種玻璃板之用於顯示裂置的玻壤。 L· ^tT ~2 近年來，對於可擴式裝置而言，舉例來說，例如 電話及個人數位助理(PDA)等行動裝置，尤其是大尺寸 電視的平面電視(平面電視），料倾顯示H及改良外觀之 蓋玻璃（防護玻璃）的❹愈益增加。在本案說明書中， 保護顯示器功能的玻璃板，例如 、 於蓋玻璃内。 丨如電衫狀敍器是涵括 再者，此類可攜式數位裝置要求重量減輕且厚度減 少。因此，用於保護顯示器之蓋玻璃亦要求薄化。然而， 若使蓋玻璃的厚㈣化，㈣度降低，絲可赋裝置在 使用期間㈣料裝置在«雜中掉落， 盘玻璃本身有時候可能破裂。因此，存在有蓋玻璃益法達 成保護顯示裝置的原始目的之問題。 …^ 再者，在大尺寸之平面電視的例子中，蓋玻璃本身尺 寸大，且因此破裂的可能性高，以及料，為了減輕重量 已要求使蓋玻璃薄化，且就此觀點而言，蓋《之《可 能性亦高。 為了解決上述問題’可想到改良蓋玻璃的強度，且就 去本身纟玻璃表面上形成屋縮應力層之方法是普遍 201210972 已知的。 對於在玻璃表面上形成壓縮應力層之方法，典型的是 空氣淬火回火法（物理回火法），其中藉由空氣冷卻或類似 方法及化學回火法驟冷被加熱至接近軟化點之玻璃板表 面’其中在低於玻璃轉變點的溫度下，藉由離子交換，將 玻璃板表面上具有小離子半徑之鹼金屬（一般為Li離子或 Na離子）與具有較大離子半徑之鹼金屬離子（一般為κ離 子）交換。 如上文中所述，蓋玻璃的厚度被要求薄化。如果將空 氣淬火回火法應用於薄玻璃板，在表面與内部間的溫度傾 向不升高，且因此難以形成壓縮應力層，且無法獲得所欲 的高強度特性。因此’已有人提議藉由後者化學回火法回 火的蓋玻璃（專利文獻1至3)。 專利文獻 1 : JP-A-2005-320234 專利文獻2 : U.S·專利申請案公開號第2009/298669號 專利文獻 3 : WO2008/143999 在專利文獻1至3揭露之實施例中，所有例子皆要求 在超過450°C之高溫下進行化學回火處理或以超過4小時 之長時間進行化學回火處理。舉例而言，對於後文中所述 的玻璃G55，其為專利文獻3中揭露的玻璃，若所欲的壓 縮應力層是藉由應用硝酸鉀熔融鹽之化學回火處理所形 成，若熔融鹽的溫度為400。(：，玻璃必須浸没於熔融鹽中達 6小時的長時間。表面壓縮應力及藉由此化學回火處理所形 成的壓縮應力層厚度分別為800 MPa及37 μιη。 4 201210972 對於化學回火而言，一般使用鈉及鉀的硝酸鹽，且在 超過450°C之溫度下，此等硝酸鹽的蒸氣壓傾向高，且其等 極可能揮發。若此揮發作用發生，接受化學回火處理之玻 璃品質傾向不安定，以及此外，將需要回收揮發產物之輔 助設施，就品質及成本而言，這是有問題的。再者，長時 間的化學回火處理直接導致成本增加且因此是不利的。 【發明内容】 本發明已被完成以解決上述傳統問題，且本發明之一 目的為提供藉由低溫下短時間的化學回火將具有充分強度 之用於顯示裝置的玻璃，藉由使此用於顯示裝置之玻璃製 成的玻璃板接受化學回火所獲得之用於顯示裝置之玻璃 板，藉由使用於顯示裝置之玻璃製成的玻璃板接受化學回 火之製造用於顯示裝置之玻璃板的方法，以及使用此一用 於顯示裝置之玻璃板保護顯示器的顯示裝置。 本發明提供用於顯示裝置之玻璃，其以下述氧化物為 主且以莫耳百分比表示，包含61至72%之Si02、8至17 %之 Al2〇3、6 至 18%之 Li20、2 至 15%之 Na20、0 至 8 %之 K20、0 至 6%之 MgO、0 至 6%之 CaO、0 至 4%之 Ti02，及 0 至 2.5%之 Zr02，以及 Li20、Na20 及 K20 的 總含量R2〇為15至25%，Li20含量相對於R20的比例 Li20/R20為0.35至0·8，以及MgO與CaO的總含量為0 至9% (在下文中，此玻璃有時候稱為本發明之玻璃）。在 本案說明書中，例如「包含0至8%之K20」之用語意指 Κ20是非必要但含量可在高達8%的範圍内。 5 201210972 本發明更提供用於顯示裝置之上述玻璃，其含有最多 68%之 Si02，最多 15%之 Al2〇3，最多 16%之 Li20，最 多13%之Na20，最多7%之K20，0至5%之MgO，0至 5%之CaO，及0至2%之Ti02，且具有16至23%之R20 及至少0.4之Li20/R20。 本發明更提供用於顯示裝置之上述玻璃，其含有最多 70%之 Si02，最多 15%之 Al2〇3，至少 10%之 Li20，最 多10%之Na20，及0至6%之K20，且具有最多22%之 R2 Ο 及至少 0.6 之 Li2 0/R2 Ο。 本發明更提供用於顯示裝置之上述玻璃，其含有最多 68%之 Si02，最多 15%之 Al2〇3，至少 12%之 Li20，最 多6%之Na20，0至3%之K20，至少1%之MgO，0至2 %之CaO，及0至1%之Ti02，且具有最多22%之R20及 至少 0.7 之 Li20/R20。 再者，本發明提供用於顯示裝置之上述玻璃，其破裂 動性值（fracture toughness value)為至少 0.85 MPa.m1/2 〇 本發明更提供藉由浮法或熔融法製造，由用於顯示裝 置之上述玻璃製成的玻璃板。 本發明更提供用於顯示裝置之玻璃板，其藉由使用於 顯示裝置之上述玻璃製成之玻璃板接受化學回火處理而獲 得。 本發明更提供上述用於顯示裝置之玻璃板，其中該玻 璃板係藉由浮法或熔融法製成，且表面為未被磨光的一火 焰磨光表面。 6 201210972 本發明更提供上述用於顯示裝置之玻璃板，其破裂韌 性值為至少1.0 MPa.m1/2。 本發明更提供一種製造用於顯示裝置的玻璃板之方 法，其包含將一由用於顯示裝置之玻璃製成的玻璃板，浸 潰於一熔融鹽中以進行化學回火處理，該玻璃以下述氧化 物為主且以莫耳百分比表示，包含61至72%之Si02、8 至 17%之 Al2〇3、6 至 18%之 Li20、2 至 15%之 Na20、0 至 8%之 K20、0 至 6%之 MgO、0 至 6%之 CaO、0 至 4 % 之 Ti02，及 0 至 2.5% 之 Zr02，以及 Li2 Ο、Na20 及 Κ2 Ο 的總含量R2 Ο為15至25%，Li2 Ο含量相對於R2 Ο的比例 Li20/R20為0.35至0.8，以及MgO與CaO的總含量為0 至9%，其中該熔融鹽以莫耳百分比表示，包含0至7%之 LiN03，10 至 100% 之 NaN03，及 0 至 90% 之 KN〇3。 本發明更提供上述製造用於顯示裝置的玻璃板之方 法，其中該化學回火處理係藉由在最高425°C之溫度下，將 該玻璃板浸潰於該熔融鹽中達最多2小時之浸潰時間來進 行。 本發明更提供一種具有蓋玻璃之顯示裝置，其中該蓋 玻璃為上述用於顯示裝置之玻璃板。 本發明更提供一種可攜式裝置，其配備有上述之顯示 裝置。 本發明更提供一種電視機，其配備有上述之顯示裝置。 本發明更提供一種觸控面板，其配備有上述之顯示裝 201210972 本發明又更提供一種底盤，其中容納—顯示裝置，該 底盤具有上述用於顯示裝置之玻璃板。 本案發明人已發現到’最適化A1203含量及Li2〇/R2〇 比例是有效的’以致能藉由低溫短時間下的化學回火獲得 足夠的強度，且完成本發明。再者，發明人已發現到含有 NaN〇3的熔融鹽是有效的，以致能藉由低溫短時間下的化 學回火獲得足夠的強度，且完成本發明。 根據本發明，可獲得具有高破裂韌性值的用於顯示裝 置之玻璃。 再者’即使是藉由低溫短時間下的化學回火也可能獲 得用於顯示裝置之玻璃板的足夠強度。 再者，藉由化學回火處理，不僅可增加玻璃板的破裂 韌性值，亦可使其增加速率增高。 I；實施方式；j 現在’將參考較佳實施例更詳細地描述本發明。 本發明之用於顯示裝置之玻璃板（在下文中稱為本發 明之玻璃板）的厚度一般為〇.2至i_〇 mm。若厚度小於0.2 mm，以供實用之強度的觀點，可能會產生問題。 本發明之玻璃板的表面壓縮應力層之厚度t較佳為大 於25 μηι。若其最多為25 μηι，玻璃可能是易碎的。更佳為 至少30 μιη ’特佳為至少4〇 ，一般為至少45 μηι或至 少 50 μιη。 本發明之玻璃板的表面壓縮應力S —般為至少1〇〇 MPa且小於i，200 MPae若其小於1〇〇MPa，玻璃可能是易 8 201210972 . 碎的。較佳為至少200 MPa。 本發明之玻璃板的破裂韌性值較佳為至少1.0 MPa_m1/2。若其小於1.0 MPa_m1/2，玻璃可能是易碎的。其 更佳為至少1.1 MPa，m1/2，特佳為至少1.2 MPa_ml/2，一般 為至少1.3 MPa’m"2。破裂韌性值係藉由例如根據JIS R1607 標準之壓痕破裂法（indentation-fracture method)(IF) 來測量。 本發明之玻璃板係藉由使由本發明之玻璃製成的玻璃 板接受化學回火來獲得。 用於製造由本發明之玻璃製成的玻璃板之方法未特別 受限，且玻璃板係藉由例如下述步驟來製造：以適當量混 合不同材料，加熱混合物至約1，400至約1，600°C使其熔 融，接著消泡及藉由攪拌均質化，藉由眾所周知的浮法、 向下拉伸法（down draw method)(例如炼融法）、壓法或類似 方法成形為板狀，將板狀產品退火且切割成所欲尺寸，接 著抛光。 化學回火方法未特別受限，只要在玻璃板之表層中的 Li20及Na20可與熔融鹽中Na20及K20離子交換，以及 例如可提及的方法，其中玻璃板被浸潰於加熱之硝酸鈉 (NaN03)熔融鹽、硝酸鉀(ΚΝ03)熔融鹽或其等之混合熔融 鹽。 現在，將以莫耳百分比表示，描述用於製造本發明之 用於顯示裝置之玻璃板的熔融鹽組成。 硝酸鈉（NaN03)為用於低溫短時間下之化學回火的必 201210972 要成分。其其含量小於10%，表面壓縮應力及表面壓縮應 力層的厚度將是小的。其較佳為至少20% ’更佳為至少40 %，特佳為至少60%。 硕酸钟(KNO3)並非必要的，但含量可高達90%，以控 制化學回火特性。若其含量超過90%，表面壓縮應力或表 面壓縮應力層的厚度可能是小的。其為最多80%，更佳為 最多60% ’特佳為最多40%。 硝酸H(LiN03)並非必要的，但含量可高達7%，以致 能控制化學回火特性或降低化學回火後之翹曲。若其含量 超過7%，表面壓縮應力可能是的小。其較佳為最多6%， 更佳為最多4%，特佳為最多2%。 用於在玻璃板上形成具有所欲表面壓縮應力之化學回 火層（表面壓縮應力層）的條件是依玻璃板的厚度而定，且一 般而言，玻璃板是在300至450。(：下浸潰於鹼金屬硝酸鹽熔 融鹽10分鐘至4小時。由經濟的觀點，玻璃板較佳係在3〇〇 至425°C下浸潰10分鐘至2小時。 現在，除非另外指明，將利用以莫耳百分比表示之含 量描述本發明之玻璃的組成。
Si〇2為構成玻璃基質的成分，且為必要的。若其含4 小於6丨％，玻璃之安定性將降低，或在化學回火之後有可 能發生表面粗化。其較佳為至少61.5%，更佳為至少64%。 若Si〇2含量超過72% ’玻璃之黏度將增加，且熔融特性顯 著降低。其較佳為最多70%，一般為最多68%。
Al2〇3為改良離子交換速率之成分，且為必要的。若其^ 10 201210972 含量小於8%，離子交抬、去古. 吳速率將變低。其較佳為至少9%， 一般為至少10%。若A1 含I超過17%，玻璃的黏度將 變高’且均質熔融將蠻田 免困難’或在化學回火之後有可能發 生表面粗化。其較佳為最多15%，更佳為最多14% 為最多13%。 &
Li2〇為藉由離子交施形士 * _ 人換升乂成表面壓縮應力層且改良玻璃 之炫融特性的成分，且兔"φ 為必要的。若其含量小於6%，直難 ㈣由離子交_成所欲的表面壓縮應力層。其較佳為至 夕般為至少8%。當Li20/R2〇為至少〇_6 Β夺，其較 佳為至^ 1G ’ ^當咖⑽為至少G.7時，其較佳為至少 12%。若U2〇含量超過·，氣候抗力將降低或在化學 回火之後有可能料表面粗彳卜其較佳為最多16%，一般 為最多14%。 為藉由離子交換形成表面壓縮應力層之成分，且 為必要的力其含量小於2%’其將難讀*離子交換形成 所机表面[縮應力層。其較佳為至少3%，一般為至少4%。 右Na20 3里超過15%，氣候抗力將降低，或在化學回火 之後有可1發生表面粗化。其較佳為最多 13 %，一般為最 ^ 1 %在表面壓缩應力較大的例子中，例如當Li20/R20 為至^ 6時’其較佳為最多10%，且當Li20/R20為至少 〇·7時’其較佳為最多6%。 K2〇並非必要的’但含量可高達8%，以改良熔融特性 或為了另一目6ίι ^ 的。若Κ：2〇含量超過8%，氣候抗力將降低， 或在化子回火之後有可紐生表面粗化。其較佳為最多7 201210972 %，一般為最多6%。當Li2〇/R20為至少0.6時，其較佳 為最多6%，更佳為最多3%，一般為不含K2〇，且當 LisO/R^O為至少0.7時，其較佳為最多3%，一般為不含 K2〇。在含有K2〇的例子中’其含量較佳為至少1 %，更佳 為至少2.5%。 若Li2〇、Na2〇及Κ2Ο的總含量r2〇小於15%，將無 法獲得所欲的離子交換特性。其較佳為至少16%，更佳為 至少17%。若R_2〇超過25% ’例如玻璃之氣候抗力的化學 耐久性將變低。其較佳為最多24%，一般為最多23%。當 Li2〇/R2〇為至少0.6時，其較佳為最多22%。 為了藉由低溫短時間下的化學回火獲得足夠的強度， 必須使Li2〇/R2〇落於至少0.35至最多〇 8的範圍内。其更 佳為至少0_4。在此一例子中，有時候使Li2〇/R2〇最多為 0.7。為了藉由化學回火獲得足夠的強度，Li2〇/R2〇較佳為 至少0.6，更佳為至少〇.7。
MgO及CaO皆非必要的，但含量可各自高達6%，或 可總共高達9% ’以改良玻璃的熔融特性或為了另一目的。 若總含量超過9% ’可能抑制離子交換，且將無法形成所欲 的表面壓誠力層，或玻璃將為易碎I其較佳為最多8 %，一般為最多5%。 例如在欲改良炫融特性的例子中，較佳為包含Mg〇。 在此例子中，MgO含量較佳為至少1%。 再者，CaO更顯著地抑制離子交換，且因此，即使當 含有CaO時，其含量較佳為最多6%。 12 201210972
Ti02並非必要的，但含量可高達4%，以改良玻璃的氣 候抗力及熔融特性，或為了另一目的。若其含量超過4%， 玻璃將為易碎的，或有可能發生相分離的現象。其較佳為 最多2%，但其一般為最多1%，例如當Li20/R20為至少 0.7 時。
Zr02並非必要的，但含量可高達2.5%，以改良玻璃的 氣候抗力及熔融特性，或為了另一目的。若其含量超過2.5 %，玻璃將為易碎的，或有可能發生相分離的現象。其較 佳為最多2%，一般為最多1.5%。以質量百分比表示，Zr〇2 含量一般為最多5%。 本發明之玻璃主要包含上述成分，但在未妨害本發明 之目的的範圍内，可含有其他成分。在含有其他成分的例 子中，此等成分的總含量較佳為最多10%，一般為最多5 %。現在將解釋說明上述的其他成分。
SrO及BaO各自具有降低離子交換速率之高功效，且 因此不包含此等成分，或即使包含，其總含量較佳為小於1 %。 可含有B2〇3，例如高達1%，以改良高溫下的熔融特 性，或玻璃強度。若其含量超過1%，有可能無法獲得均質 的玻璃，且玻璃的形成可能是困難的。一般而言，不包含 B2〇3。 作為熔融玻璃時的精煉劑，可適當地含有S〇3、一氯 化物或一氟化物。然而，為了增加顯示裝置的可見度，較 佳為儘可能降低原料中在可見光範圍内具有吸收之雜質的 13 201210972 巧染，例如FqO3、Ni〇或Cr2〇3 ’且以質量百分比表示， 其等各自的含量較佳為最多0 15%，更佳為最多〇 〇5%。 本發明之顯示裝置一般是關於可攜式裝置、行動電話 及個人數位助理(PDA)、智慧型手機、小筆電（net b〇ok)， 或汽車導航系統，以及關於未設想成被攜帶之裝置、平面 電視（包括3D電視），例如液晶電視或電漿電視，或例如桌 上型個人電腦之顯示器，或監視器之顯示器。再者，由另 一觀點，亦提及觸控面板。 現在，將參考實施例而詳細地描述本發明。然而，應 瞭解到，本發明未受限於此類特定的實施例。 製備由玻璃G1至G6及G51至G55製成的玻璃板，其 等各自具有以莫耳百分比表示’顯示於表1中义〇2至B2〇3 攔之組成’以及具有40 mm X 40 mm(尺寸）X 0.8 mm(厚 度）。G1至G6對應本發明之玻璃的實施例，以及G51至 G55對應比較例。表1中的Li/R代表Li2〇/R2〇。 關於玻璃G1至G6及G51至G54,上述玻璃板係如下 述般製備。換言之’適當地選擇常用的玻璃原料，例如氧 化物、氫氧化物、碳酸鹽及硝酸鹽，且稱重以獲得4〇〇 g 之玻璃’以及此外，雖然未顯示於上述組成中，將以S〇3 計算’對應0.2質量％之硫酸鈉添加入原料中，且混合原 料。接下來’將原料混合物放入鉑坩堝中，鉑坩堝係置於 1，600°C之電阻加熱型電爐中，使原料混合物熔融3小時、 精煉、均質化且繞注於模中，並在預定溫度下退火，以獲 得玻璃碑。將玻璃碑切割及拋光，且最後將二表面皆鏡面 14 201210972 拋光，以獲得具有40 mm χ 40 mm(尺寸）x 〇_8 mm(厚度） 的玻璃板。 關於所獲得之玻璃板，藉由根據JIS R1607標準之壓痕 破裂法（indentation-fracture method)(IF)測量破裂韌性值 Kc〇(單位：MPa.m1/2)。換言之，使用維氏硬度計（Vickers hardness tester )，在5 kgf之壓痕負載下達15秒之滯留時間 產生壓痕，且在15秒之後，藉由使用連接至硬度計的顯微 鏡測量壓痕的對角線長度及裂痕長度，以及此一操作重覆 進行10次，且破裂韌性值係根據下述公式計算： 破裂物性值=〇.〇26χ(Εχρ)丨/2xaxc_3/2 其中E為楊氏模量(Y_g，s mQdulus)，其係藉由超音波脈 衝法，對於厚度為4至1G _且尺寸為約4⑽X仏的 玻璃板進行測量，P為壓痕負載(單位：N)，& (單位 m)為裂痕 壓痕之對角線長度平均值的-半，以及e (單位： 長度平均值的—半。 J果顯示於表1中。由表1可明顯看出，本發明之玻 璃”有砂0·85ΜΡ請1/2之高破裂拿刃性值。 15 201210972 表1 玻璃 G1 G2 G3 G4 G5 G6 G51 G52 G53 G54 G55 Si〇2 61.9 64.5 62.0 63.5 65.0 65.0 62.0 62 62 68 66 ai2o3 13.0 12.0 13.0 11.5 10.0 10.0 13.0 13 13 7 10 Li20 10.7 12.8 10.0 10.0 10.0 8.0 6.7 5 5 10 0 Na20 6.8 5.5 5.0 5.0 5.0 10.0 6.7 10 5 5 14 K20 3.0 3.4 5.0 5.0 5.0 0 6.6 5 10 5 2 MgO 3.0 0 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0 3 3 3 6 CaO 0 0 0 0 0 4 0 0 0 0 1 Ti〇2 1.0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 Zr〇2 0.6 1.8 2.0 2.0 2.0 0 2.0 2 2 2 0 B2O3 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 1 Li/R 0.52 0.59 0.50 0.50 0.50 0.44 0.34 0.25 0.25 0.50 0 Kc〇 0.94 0.93 0.89 0.87 0.88 0.88 0.81 0.78 0.72 0.82 0.71 在400°C之溫度下，將G1至G6及G51至G54之玻璃 板浸潰於包含5 mol%之LiN03、45 mol%之NaN03及50 mol%之KN〇3的熔融鹽中達〇·5小時以進行化學回火處理 (實施例A1至A10)。 關於接受化學回火處理的玻璃板，破裂韌性值KC|係 以與Kc。之測量相同的方式測量，以及表面壓縮應力s(單 位：MPa)及壓縮應力層之厚度t(單位：μιη)係藉由東京儀 器股份有限公司（Tokyo Instruments，Inc.)製造之雙折射成 像糸統Abrio (商品名）’自40 mm X 40 mm(尺寸）χ 〇·8 mm(厚度)之玻璃板，測量上述的s及t，切割具有40 mm 之長度、約1 mm之寬度及0.8 mm之厚度的小片，以及將 二40 mm X 0.8 mm之相向表面鏡面拋光以獲得具有〇.3 mm寬度的測試樣品。 16 201210972 結果顯示於表2中。在表2中’ Kc比例意指Κχ,/Kco ° 再者，在實施例A9中’玻璃在化學回火處理後’加工以形 成樣品時破裂，以及無法測量S、t及Kci。此被§忍為是因 為實施例A9使用之玻璃G53所含有的大量K：2〇 ’此K2〇 與熔融鹽中的Li或Na離子交換，且結果在實施例Α9的表 面形成抗張應力層而非壓縮應力層。 由含有大量Na20之玻璃G55製成的玻璃板未接受此 化學回火處理，且此被認為若進行此化學回火處理的話， 抗張應力層將以與實施例A9相同的方式形成在表面上。 由上述說明明顯可知，於本發明之玻璃的化學回火處 理之後，S為至少100 MPa且t為至少3〇 _，以及在〇 5 小時之短時間内藉由化學回火處理獲得所欲壓縮應力層 (實施例A1至A6)。再者，Kc比例為至少丨5，其高於使 用比較例之玻璃的例子（實施例A7、A8及A10)。
Ex. A1 A2 A3 A4 A5 玻璃 G1 G2 G3 G4 G5 S 150 180 130 130 100 t 50 50 40 35 30 Kc, 1.6 1.7 1.4 1.3 1.3 Kc 1.7 1.8 1.6 1.5 1.5 比例 1.5
A7 A8 A9 A10 G51 G52 G53 G54 30 0 - 50 25 - - 25 1.0 0.70 - 1.0 1.2 0.9 - 1.2 再者，在4〇〇°C之溫度下’將G1 S G6之玻璃板浸潰 於包含0 moi%之LiN〇3、50 m，之他戰及5〇 —%之 17 201210972 ΚΝ〇3的熔融鹽中達0.5小時以進行化學回火處理（實施例 B1至B6)。對於接受化學回火處理的此玻璃板，測量KC|。 結果與Kc比例一起顯示於表3中。在表3中，S與t的值 為由組成等計算出的估算值。 表3
Ex. B1 B2 B3 B4 B5 B6 玻璃 G1 G2 G3 G4 G5 G6 S 230 230 230 200 180 180 t 50 50 40 35 30 30 Kc, 1.9 1.9 1.9 1.8 1.7 1.7 Kc比例 2.0 2.0 2.1 2.1 1.9 1.9 再者，在350°C之溫度下，將G1之玻璃板浸潰於各自 具有以莫耳百分比表示且顯示於表4之LiN03至KN〇3欄 的組成之不同熔融鹽中達2小時。對於接受化學回火處理 的此玻璃板，測量S、t及KCl。結果顯示於表4中（實施例 C1 至 C7)。 在實施例C1至C4中，其為用於製造本發明之用於顯 示裝置之玻璃板的實施例，S為至少130 MPa且Kc比例為 至少1.7 ;而實施例C5至C7，其為比較例，S為最多30 MPa，且Kc比例為最多1·4。 18 201210972 - 表4
Ex. Cl C2 C3 C4 C5 C6 C7 LiN〇3 0 0 0 5 0 10 15 NaNO, 25 50 75 45 0 40 35 kno3 75 50 25 50 100 50 50 s 200 250 350 130 30 30 0 t 40 50 60 50 35 50 - Kc, 2.0 1.8 2.0 1.6 1.2 1.3 0.89 Kc比例 2.1 1.9 2.1 1.7 1.3 1.4 0.95 再者，以與上述相同的方法，製造由玻璃D1至D4製 成之玻璃板，其具有以莫耳百分比表示且顯示於表5及6 中Si〇2至Zr〇2攔的組成，具有40 mm X 40 mm(尺寸）x 1 ·〇 mm(厚度）。再者，對於D1至D3、D5及D8測量KcQ ’且 對於其他玻璃，藉由自組成計算來測量Kc〇。 在400°C之溫度下，將此等玻璃板浸潰於包含1〇〇 mol %之NaN03之熔融鹽中達1小時以進行化學回火，且以與 上述相同的方式測量S及t。結果顯示於表5及6中。 再者，以相同方式使由表1之玻璃G2製成之玻璃板亦 接受化學回火處理，及結果S為286 MPa及t為58 μηι。 接受化學回火處理之此等玻璃板所具有的S大於實施 例Β1至Β6及C1至C7，且因此即使企圖藉由上述方法在 玻璃板上形成壓痕，沒有壓痕可被產生，或玻璃破裂，且 因此無法測量Kcl。再者，表6中的玻璃D15至D20對應 本發明之玻璃的實施例，利用此玻璃，當玻璃板在400°C之 溫度下，被浸潰於包含100 mol%之NaN03之熔融鹽中達1 19 201210972 小時以進行化學回火處理時，獲得至少250 MPa的極大S。 然而，以相同方式對表1中的玻璃G54進行化學回火處理 時，S 為 220 MPa，及 t 為 55 μηι。 表5 玻璃 D1 D2 D3 D4 D5 D6 D7 D8 D9 DIO Si〇2 64.0 64.0 64.0 64.0 64.0 66.0 62.0 64.0 64.0 64.0 ΑΙΑ 12.0 12.0 12.0 12.0 13.0 10.0 14.0 12.0 12.0 12.0 Li20 12.0 12.0 16.0 12.0 16.0 16.0 16.0 14.4 12.8 16.0 Na2〇 8.0 4.0 4.0 4.0 4.0 4.0 4.0 3.6 3.2 2.0 K20 0 4.0 0.0 0 0 0 0 0 0 2.0 MgO 2.0 2.0 2.0 6.0 2.0 2.0 2.0 4.0 6.0 2.0 CaO 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 Zl〇2 2.0 2.0 2.0 2.0 1.0 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 Li/R 0.60 0.60 0.80 0.75 0.80 0.80 0.80 0.80 0.80 0.80 Kc〇 0.94 0.96 0.92 1.01 1.02 0.99 1.00 1.02 1.02 0.98 S 441 518 528 484 576 468 506 592 557 489 t 88 76 81 65 86 72 73 68 65 52 20 201210972 表6 玻璃 Dll D12 D13 D14 D15 D16 D17 D18 D19 D20 Si〇2 65.0 65.5 68.0 66.0 67.5 66.0 67.0 66.0 67.5 70.0 Al2〇3 12.0 12.0 8.0 10.0 12.0 13.0 10.0 11.0 9.0 8.5 Li20 16.0 16.0 16.0 12.8 13.0 13.0 15.0 13.0 16.0 14.0 Na20 4.0 4.0 4.0 3.2 4.0 5.0 2.0 4.0 5.0 3.5 K20 0 0 0 0 0 0 2.0 0 0 0 MgO 2.0 2.0 2.0 6.0 2.0 3.0 2.0 4.0 0 2.0 CaO 0 0 0 0 0 0 0 1.0 0 0 Zl〇2 1.0 0.5 2.0 2.0 1.5 0 2.0 1.0 2.5 2.0 Li/R 0.80 0.80 0.80 0.80 0.76 0.72 0.79 0.76 0.76 0.80 Kc〇 1.02 1.03 0.98 1.02 1.11 1.07 1.01 1.03 0.98 1.07 S 513 510 350 530 478 421 473 451 435 426 t 80 86 84 71 90 91 65 73 88 87 本發明可應用於例如顯示裝置之蓋玻璃。 於2010年6月18曰提出申請的曰本專利申請案第 2010-139396號及於2011年4月7日提出申請的日本專利 申請案第2011-085445號之整個揭露内容，包括說明書、 申請專利範圍及概述係以全文併入本文中以供參考。 C圖式簡單說明：！ 無 【主要元件符號說明】 無 21
Claims (1)
- 201210972 七、申請專利範圍： 1. 一種用於顯示裝置之玻璃，其以下述氧化物為主且以莫耳 百分比表示，包含61至72%之Si02、8至17%之Al2〇3、6 至 18%之Li20、2至 15%之Na20、0至8%之K20、0至6%之 MgO、0至6% 之CaO、0至4% 之Ti02，及0至2.5% 之Zr02， 以及Li20、Na20及K20的總含量R20為15至25%，Li20含 量相對於R20的比例Li20/R20為0.35至0.8，以及MgO與 CaO的總含量為0至9%。 2. 如申請專利範圍第1項之用於顯示裝置之玻璃，其含有 最多68%之Si02，最多15%之Al2〇3，最多16%之 Li20，最多 13%之 Na20，最多 7%之 K20，0 至 5% 之MgO，0至5%之CaO，及0至2%之Ti02，且具有 16 至 23%之 R20 及至少 0.4 之 Li20/R20。 3. 如申請專利範圍第1項之用於顯示裝置之玻璃，其含有 最多70%之Si02，最多15%之Al2〇3，至少10%之 Li20，最多10%之Na20，及0至6%之K20，且具有 最多22%之R20及至少0.6之Li20/R20。 4. 如申請專利範圍第1項之用於顯示裝置之玻璃，其含有 最多68%之Si02，最多15%之Al2〇3，至少12%之 Li20，最多6%之Na20，0至3%之K20，至少1%之 MgO，0至2%之CaO，及0至1%之Ti02，且具有最 多22%之R20及至少0.7之Li20/R20。 5. 如申請專利範圍第卜2、3或4項之用於顯示裝置之玻 璃，其破裂勃性值（fracture toughness value)為至少0.85 22 201210972 MPa.mi/2。 6. 一種玻璃板，其係藉由浮法或溶融法製造，由如申請專 利範圍第1至5項中任一項所定義之用於顯示裝置的玻 璃製成。 7. —種用於顯示裝置之玻璃板，其係藉由使一玻璃板接受 化學回火處理而獲得，該玻璃板係由如申請專利範圍第 1至5項中任一項所定義之用於顯示裝置的玻璃製成。 8. 如申請專利範圍第7項之用於顯示裝置之玻璃板，其中 該玻璃板係藉由浮法或熔融法製成，且表面為未被磨光 的一火焰磨光表面。 9. 如申請專利範圍第7或8項之用於顯示裝置之玻璃板， 其破裂韋刃性值（fracture toughness value)為至少1.0 MPa.m"2。 10. —種製造用於顯示裝置的玻璃板之方法，其包含將一由 用於顯示裝置之玻璃製成的玻璃板，浸潰於一熔融鹽中 以進行化學回火處理，該玻璃以下述氧化物為主且以莫 耳百分比表示，包含61至72%之Si02、8至17%之 Al2〇3、6 至 18%之 Li20、2 至 15%之 Na20、0 至 8 %之 K20、0 至 6%之 MgO、0 至 6%之 CaO、0 至 4 %之 Ti02，及 0 至 2.5%之 Zr02，以及 Li20、Na2〇 及K20的總含量R20為15至25%，Li20含量相對於 R20 的比例 Li20/R20 為 0.35 至 0.8,以及 MgO 與 CaO 的總含量為0至9%，其中該熔融鹽以莫耳百分比表 示，包含0至7%之LiN03，10至100%之NaN03，及 23 201210972 0 至 90% 之 ΚΝ〇3。 11. 如申請專利範圍第10項之製造用於顯示裝置的玻璃板 之方法，其中該化學回火處理係藉由在最高425°c之溫 度下，將該玻璃板浸潰於該熔融鹽中達最多2小時之浸 潰時間來進行。 12. —種具有蓋玻璃之顯示裝置，其中該蓋玻璃為如申請專 利範圍第7、8或9項所定義之用於顯示裝置之玻璃板。 13. —種可攜式裝置，其配備有如申請專利範圍第12項所 定義之顯示裝置。 14. 一種電視機，其配備有如申請專利範圍第12項所定義 之顯示裝置。 15. —種觸控面板，其配備有如申請專利範圍第12項所定 義之顯示裝置。 16. —種用於顯示裝置之底盤，其中容納一顯示裝置，該底 盤具有如申請專利範圍第7、8或9項所定義之用於顯 示裝置之玻璃板。 24 201210972 四、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：無 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明：無 五、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式：
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104937479A (zh) * | 2012-11-07 | 2015-09-23 | 康宁股份有限公司 | Lcd组件及其制备方法 |
Families Citing this family (55)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9302937B2 (en) | 2010-05-14 | 2016-04-05 | Corning Incorporated | Damage-resistant glass articles and method |
| EP2646243B1 (en) * | 2010-11-30 | 2016-02-03 | Corning Incorporated | Glass with surface and central regions under compression |
| JP2012232882A (ja) * | 2011-04-18 | 2012-11-29 | Asahi Glass Co Ltd | 化学強化ガラスの製造方法および化学強化用ガラス |
| TWI572480B (zh) | 2011-07-25 | 2017-03-01 | 康寧公司 | 經層壓及離子交換之強化玻璃疊層 |
| US9359251B2 (en) | 2012-02-29 | 2016-06-07 | Corning Incorporated | Ion exchanged glasses via non-error function compressive stress profiles |
| WO2013130665A2 (en) | 2012-02-29 | 2013-09-06 | Corning Incorporated | Low cte, ion-exchangeable glass compositions and glass articles comprising the same |
| JP6032468B2 (ja) * | 2012-07-09 | 2016-11-30 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス基板の製造方法 |
| US9139469B2 (en) | 2012-07-17 | 2015-09-22 | Corning Incorporated | Ion exchangeable Li-containing glass compositions for 3-D forming |
| WO2014038559A1 (ja) * | 2012-09-04 | 2014-03-13 | 三菱化学株式会社 | 有機電界発光素子及びその製造方法 |
| CN104837783A (zh) * | 2012-10-12 | 2015-08-12 | 旭硝子株式会社 | 分相玻璃的制造方法和分相玻璃 |
| US9308616B2 (en) | 2013-01-21 | 2016-04-12 | Innovative Finishes LLC | Refurbished component, electronic device including the same, and method of refurbishing a component of an electronic device |
| JP5867649B2 (ja) * | 2013-02-19 | 2016-02-24 | 旭硝子株式会社 | 光学装置 |
| US11079309B2 (en) | 2013-07-26 | 2021-08-03 | Corning Incorporated | Strengthened glass articles having improved survivability |
| US9517968B2 (en) | 2014-02-24 | 2016-12-13 | Corning Incorporated | Strengthened glass with deep depth of compression |
| CN107814476A (zh) | 2014-05-15 | 2018-03-20 | 旭硝子株式会社 | 玻璃物品以及玻璃物品的制造方法 |
| US9902644B2 (en) * | 2014-06-19 | 2018-02-27 | Corning Incorporated | Aluminosilicate glasses |
| TWI697403B (zh) | 2014-06-19 | 2020-07-01 | 美商康寧公司 | 無易碎應力分布曲線的玻璃 |
| TWI725945B (zh) | 2014-10-07 | 2021-05-01 | 美商康寧公司 | 具有已定應力輪廓的玻璃物件 |
| CN108046589A (zh) * | 2014-10-08 | 2018-05-18 | 康宁股份有限公司 | 包含金属氧化物浓度梯度的玻璃和玻璃陶瓷 |
| US10150698B2 (en) | 2014-10-31 | 2018-12-11 | Corning Incorporated | Strengthened glass with ultra deep depth of compression |
| WO2016073539A1 (en) | 2014-11-04 | 2016-05-12 | Corning Incorporated | Deep non-frangible stress profiles and methods of making |
| US10259745B2 (en) * | 2015-02-27 | 2019-04-16 | Corning Incorporated | Low temperature chemical strengthening process for glass |
| US10579106B2 (en) | 2015-07-21 | 2020-03-03 | Corning Incorporated | Glass articles exhibiting improved fracture performance |
| US11613103B2 (en) | 2015-07-21 | 2023-03-28 | Corning Incorporated | Glass articles exhibiting improved fracture performance |
| CN108137396B (zh) * | 2015-10-14 | 2022-04-26 | 康宁股份有限公司 | 具有确定的应力分布的层压玻璃制品及其形成方法 |
| TWI697463B (zh) | 2015-12-11 | 2020-07-01 | 美商康寧公司 | 具有金屬氧化物濃度梯度之可熔融成形的玻璃基物件 |
| KR20180103972A (ko) * | 2016-01-13 | 2018-09-19 | 코닝 인코포레이티드 | 초-박형, 비-취약성 유리 및 이의 제조방법 |
| CN115650601B (zh) * | 2016-01-21 | 2024-07-12 | Ａｇｃ株式会社 | 化学强化玻璃以及化学强化用玻璃 |
| WO2017126605A1 (ja) * | 2016-01-21 | 2017-07-27 | 旭硝子株式会社 | 化学強化ガラス及び化学強化ガラスの製造方法 |
| KR102396849B1 (ko) * | 2016-03-18 | 2022-05-11 | 코닝 인코포레이티드 | 강화된 리튬-계 유리 제품의 제조방법 및 리튬-계 유리 제품 |
| KR20200091500A (ko) | 2016-04-08 | 2020-07-30 | 코닝 인코포레이티드 | 두 영역을 포함하는 응력 프로파일을 포함하는 유리-계 물품, 및 제조 방법 |
| CN111423110A (zh) * | 2016-04-08 | 2020-07-17 | 康宁股份有限公司 | 包含金属氧化物浓度梯度的玻璃基制品 |
| WO2018056170A1 (ja) * | 2016-09-21 | 2018-03-29 | 旭硝子株式会社 | 化学強化ガラスおよび化学強化用ガラス |
| WO2018074335A1 (ja) | 2016-10-18 | 2018-04-26 | 旭硝子株式会社 | 化学強化用ガラス、化学強化ガラスおよび化学強化ガラスの製造方法 |
| KR101911621B1 (ko) * | 2017-02-27 | 2018-10-24 | 주식회사 엘지화학 | 접합 유리 및 접합 유리의 제조 방법 |
| WO2018186402A1 (ja) | 2017-04-06 | 2018-10-11 | Ａｇｃ株式会社 | 化学強化ガラス |
| WO2019021911A1 (ja) * | 2017-07-26 | 2019-01-31 | Ａｇｃ株式会社 | 半導体パッケージ用支持ガラス |
| US10633279B2 (en) | 2017-11-29 | 2020-04-28 | Corning Incorporated | Glasses with low excess modifier content |
| US10906834B2 (en) * | 2017-11-29 | 2021-02-02 | Corning Incorporated | Ion-exchangeable mixed alkali aluminosilicate glasses |
| US20200317558A1 (en) * | 2017-12-26 | 2020-10-08 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Cover glass |
| JP7303482B2 (ja) * | 2017-12-26 | 2023-07-05 | 日本電気硝子株式会社 | カバーガラス |
| JP6798629B2 (ja) * | 2018-02-05 | 2020-12-09 | Ａｇｃ株式会社 | 化学強化用ガラス |
| JP7310791B2 (ja) * | 2018-02-16 | 2023-07-19 | Ａｇｃ株式会社 | カバーガラス、およびインセル型液晶表示装置 |
| JP2021070590A (ja) * | 2018-02-16 | 2021-05-06 | Ａｇｃ株式会社 | カバーガラス、およびインセル型液晶表示装置 |
| WO2019194110A1 (ja) * | 2018-04-04 | 2019-10-10 | Ａｇｃ株式会社 | 化学強化用ガラス |
| EP3802451B1 (en) * | 2018-06-08 | 2024-02-14 | Corning Incorporated | Fracture resistant stress profiles in glasses |
| CN116332504A (zh) * | 2018-12-11 | 2023-06-27 | Ａｇｃ株式会社 | 玻璃、化学强化玻璃和包含化学强化玻璃的电子设备 |
| KR102746130B1 (ko) | 2019-01-18 | 2024-12-26 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 화학 강화 유리 및 그 제조 방법 |
| CN109704564A (zh) * | 2019-03-21 | 2019-05-03 | 南通向阳光学元件有限公司 | 一种高强度超薄玻璃的制备方法 |
| JP7234856B2 (ja) * | 2019-08-20 | 2023-03-08 | Ａｇｃ株式会社 | リチウムアルミノシリケートガラスの製造方法、およびフロートガラス板 |
| CN111087174B (zh) * | 2019-12-19 | 2022-03-18 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 一种具有高弹性模量的玻璃陶瓷、强化玻璃陶瓷及其制备方法 |
| CN112960904B (zh) * | 2021-02-09 | 2022-02-15 | 醴陵旗滨电子玻璃有限公司 | 锂铝硅玻璃、锂铝硅化学强化玻璃及其制备方法与应用 |
| EP4430007A1 (en) * | 2021-11-10 | 2024-09-18 | Corning Incorporated | Fusion formable high fracture toughness glasses |
| KR20240116922A (ko) | 2021-11-29 | 2024-07-30 | 코닝 인코포레이티드 | 투명 베타-스포듀멘 유리-세라믹 |
| CN114230196B (zh) * | 2022-01-04 | 2023-11-24 | 四川虹科创新科技有限公司 | 一种具有抗划伤性能的强化玻璃及其制备方法 |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1596961A (zh) | 1968-04-19 | 1970-06-22 | ||
| JPH11171597A (ja) | 1997-12-10 | 1999-06-29 | Nikon Corp | 化学強化用ガラス、化学強化ガラス及び情報記録媒体用ガラス基板 |
| DE60006176T2 (de) * | 1999-03-25 | 2004-04-22 | Central Glass Co., Ltd., Ube | Glaszusammensetzung, durch Ionenaustausch verstärkter Glasgegenstand und Verfahren zu dessen Herstellung |
| JP4034056B2 (ja) | 2000-09-13 | 2008-01-16 | 日本板硝子株式会社 | 非晶質材料の加工方法 |
| JP2002174810A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-06-21 | Hoya Corp | ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ |
| DE102004022629B9 (de) | 2004-05-07 | 2008-09-04 | Schott Ag | Gefloatetes Lithium-Aluminosilikat-Flachglas mit hoher Temperaturbeständigkeit, das chemisch und thermisch vorspannbar ist und dessen Verwendung |
| WO2007129744A1 (ja) | 2006-05-10 | 2007-11-15 | Asahi Glass Company, Limited | ディスプレイ基板用フロートガラス及びその製造方法 |
| SG171640A1 (en) * | 2006-06-08 | 2011-06-29 | Hoya Corp | Glass for use in substrate for information recording medium, substrate for information recording medium and information recording medium, and their manufacturing method |
| JP5875133B2 (ja) | 2006-10-10 | 2016-03-02 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス基板 |
| KR101351366B1 (ko) | 2006-10-10 | 2014-01-14 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 강화 유리 기판 |
| TWI486320B (zh) | 2007-03-02 | 2015-06-01 | Nippon Electric Glass Co | 強化板玻璃及其製造方法 |
| US7666511B2 (en) | 2007-05-18 | 2010-02-23 | Corning Incorporated | Down-drawable, chemically strengthened glass for cover plate |
| KR101451197B1 (ko) | 2007-06-07 | 2014-10-15 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 강화유리기판 및 그 제조방법 |
| JP5206261B2 (ja) | 2007-10-26 | 2013-06-12 | 旭硝子株式会社 | 情報記録媒体基板用ガラス、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク |
| US8232218B2 (en) * | 2008-02-29 | 2012-07-31 | Corning Incorporated | Ion exchanged, fast cooled glasses |
| JP5444846B2 (ja) | 2008-05-30 | 2014-03-19 | 旭硝子株式会社 | ディスプレイ装置用ガラス板 |
| JP5429684B2 (ja) * | 2008-11-11 | 2014-02-26 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス基板及びその製造方法 |
| JP2010139396A (ja) | 2008-12-12 | 2010-06-24 | Panasonic Corp | 電池寿命検出装置、蓄電装置、及び電池寿命検出方法 |
| JP5645099B2 (ja) | 2009-09-09 | 2014-12-24 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス |
| JP2011085445A (ja) | 2009-10-14 | 2011-04-28 | Yokogawa Electric Corp | 電池特性模擬装置 |
-
2011
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104937479A (zh) * | 2012-11-07 | 2015-09-23 | 康宁股份有限公司 | Lcd组件及其制备方法 |
| TWI587040B (zh) * | 2012-11-07 | 2017-06-11 | 康寧公司 | Ｌｃｄ組件與製造其之方法 |
| CN104937479B (zh) * | 2012-11-07 | 2018-11-23 | 康宁股份有限公司 | Lcd组件及其制备方法 |
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