TW201211005A - Novel microbiocidal dioxime ether derivatives - Google Patents
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Description
201211005 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於新穎殺微生物活性、转 β 讨别疋殺真菌活性 環狀雙肟衍生物。$-步係關於用於製備該等化合物之中 間物、包含該等化合物之組成物及其用於農業或園藝中以 控制或預防植物感染植物病原性微生物、較佳真菌之用途。 【先前技術】 ' 殺真菌活性雙肟描述於w〇〇8〇7441 8中。 【發明内容】 令人驚奇地,已發現基於雙環片段之新賴雙月亏衍生物 具有殺微生物活性。 因此,本發明係關於式⑴之雙肟衍生物,
其中X 表示 X-2、X. z~# X-2 χ-4 或 χ_5 : #-2-Ζ4-Ζ5~# Χ-3 #—ζ6-ζ7-ζ8-ζ9—# Χ-4 # Χ-5 Ζ1、Ζ2、Ζ3、76 η 7u ^ ζ ' ζ、ζ7、ζ8 ' ζ9、ζ10、ζ"、ζ 彼此獨立地表干ϊ 2 衣不 CR R、C = CR3R4 或 〇〇 ; 13 201211005 Z及Z彼此獨立地表示c = &c=o ; CR5R6、SiR7R8 或 Ο R1及R2各彼此獨立地表示Μ、 上Ρ甘 虱_素、〇H、Cl-C4烷基、 C1-C4鹵烧基、C3-C6環烧基、c, p j- _環烷基、C丨-c4烷硫 基、C^-Ca烧基亞石黃醯基、C丨-* ^坑基磺醯基、苯基或CN, 其中該苯基視情況經一或多個獨 ' ^ ^ ^ Ώ避自以下之基團取 代:* 素、CN、CVC4 烷基、Cl_c . ^ f,· W…氧基及 或R1及❼同其所連接之碳原子_起可形成^環 院基或C3-C6鹵環烧基; R3及R4各彼此獨立地表示氫、齒素々A烧基或 鹵烷基; R5、R6、R7及R8各彼此獨立地表 吧衣不虱、鹵素、〇H、 烧基、Cl-c4鹵烧基、(:3_(:6環烷基、_環境基、 苯基或CN’其中苯基視情況經一或多則蜀立地選自以下之 C.-C, ❹ 基團取代:鹵素、CN、(VC4烷基、c ^ 1 i 鹵烧基' ci_c 烷氧基及CrQ鹵烷氧基; 或R5及R6連同其所連接之碳原子—起可形成C 烷基或C3-C6鹵環烷基; 且其中該等基團X-2、X-3、X-4及χ_5可含有至多一 個環(亦即環烷基或鹵環烷基),其含有僅—個基團ζ1至 Z14、或兩個基團Z1至Z14、或三個基團zi s 7丨4 4、 z 、或四個 基團Z1至Z14作為環成員;且其中基團Z1、Z2、Z3 5JL· 、 z6、Z9、Z1G及z14不會經OH取代; 5 201211005 Υ1、Y2、Y3、Y4、γ5及γ6彼此獨立地表示氩、鹵素、 CN、Ν〇2、CrCs 烷基、Ci-C^ 烷氧基-CVC4 烷基、Ci-C* 烷 氧基-Ci-C^烷氧基-Ci-C^烷基、c3-C8環烷基、c2-c8烯基、 C2-C8炔基、苯基、口比咬基、嘴〇定基、c〇R9、〇Rio、SH '
CrCs烷硫基、CVCs烷基亞石黃醯基、Cl-C8烷基石夤醯基、 N(R")2、co2R10、o(co)R9、C0N(R")2、nr"cor9 或 CR9N-OR1G ’其中該烷基、環烷基、烯基、炔基 '苯基、嘧 啶基及吡啶基視情況經一或多個獨立選自以下之基團取 代:* 素、CN、丽2、N02 ' OH、Cl_c4 烷基、Cl_c4 _ 烷 基、C^C:4烷氧基、Ct-C4鹵烷氧基、Ci_c4烷硫基、Ci_c4 燒基亞磺醯基及CVC4炫基磺醯基; 或Y丨及Y2、Y2及Y3、,及γ5、¥5及γ6獨立地連同 f所連接之吡啶環之月段一起可形成部分或完全不飽和5 貝至7員碳環或含有1至3個獨立地選自〇 s、N及N(Rl2) ^雜原子的5員至7貞雜環,其_條件為該雜環不含相 鄰2氧原子、相鄰硫原子或相鄰硫及氧原子,且其中由,及 Y2、Y2 及 γ3、γ4 及 γ5 5 及Υ所形成之環視情況經一或 夕個獨立地選自以下之基團敢七. Γ <丞圏取代.鹵素、CN、ΝΗ2、Ν02、 OH、C!-C4 燒基、C丨-Cd 南按其 Γ1 Γ< 1Λ. ¥ # 4 ®烷基C,-C4烷氧基及c丨_c4鹵烷 乳基; R各彼此獨立地表示氫、C C j^苴 Γ η „ L 说基、C3-C8環烷基、 2 8烯基、C2-Cs块基、苄基、笼其 卞暴本基或吡啶基,其中該姨 土 哀烧基、稀基、块基、苯基、 一+夕, 冬 卞基及吡啶基視情況經 或夕個獨立選自以下之基團 團取代.鹵素、CN、NH2、N〇2、 201211005 OH、Cl-C4烧基、κ鹵貌基、Ci_C4烷氧基及Ci_c4齒烧 氧基; R10各彼此獨立地表示氫、Ci_Cs烷基、匕-“環烷基、 C3_cs稀基、(VC8块基、苄基、苯基或11比啶基,其中該烷 基裒烧I彳基、块基、苯基、节基及^比。定基視情況經 或多個獨立選自以下之基團取代:齒素、cn、丽2、Ν〇2、 Ο 0H Cl C4院基、Cl-C4齒燒基、C「C4烧氧基、CVC4鹵烧 氧基及CVC:4烷氧基_Ci_c4烷基; R11各彼此獨立地表示氫、〇H、Ci_Cs烧基、Ci_Cs烧氧 基、Cl-C8烧氧基-Cl-C4烧基、C3_C8浠基、c3_c8炔基或 COR ’其中該貌基、烧氧基、稀基及炔基視情I經一或多 個鹵素取代; 其中當兩個基團R11連接至同—氮原子時,此等基團可 相同或不同; 其中當兩個基團R"連接至同_氮原子時,此等兩個基 團並不都可為0H' Cl-C4院氧基或以函燒氧基· 且其中當兩個基團Rl1連接至同-氮原子時,此等兩個 基團連同其所連接之氮原子—起可形成環B]、B_2 b 3 B-4 、 B-5 、 B-6 、 B-7 或 B-8 :
201211005 其中該所形成之環視情況經一或多個獨立地選自以下 之基團取代:_素、CN、簡2、NQ2、〇H、CVC4烧基、Cl_C4 鹵烷基、CrC4烷氧基及Ci_c4鹵烷氧基; G G G及g5彼此獨立地表*_c(r12r13>_; G及G6彼此獨立地表示-C(R12R13)-、〇、叫尺’或s ; 或G1及或⑴及G3、或以及、或〇4及g5、 或&及2 G6、或G4及G4 —起表示-CR12=CRn_ ; R12及R13各彼此獨立地表示氫、_素、。丨_。4烷基、C「C4 函烷基4、Μ,烷氧基或c丨_C4函烷氧基; 表7Γ氫、0H ' Cl-C4烧基、Cl_C4燒氡基、C3-C6環 烧基、Cl-C8院基幾基或C1-C8鹵烧基幾基;及 P及q各獨立地為0、1或2; 或其鹽或N-氧化物。 鹵素作為獨立取代基或與另一取代基組合(例如㈣ 基)一般為氟、氯、溴或碘,且通常為氟、氯或溴。 各烧基部分(包括烧氧基、院硫基等之烧基部分)為 5 :支鏈^'視其所含之碳原子數目而定為例如甲 ί二丁乙ΐ、、:丙基、Λ丁基、正戊基、正己基、異丙基、 土 〃丁基、第二丁基、新戊基、正庚基或1,3-二甲 基丁基,且通常為甲基或乙基。 稀基及块基可+ 土了為早不飽和或二不飽和 係衍生自上述烷基。 圏I其只例 處烷基部分為經一或多個相同或 瞻分,且為例如單㈣、二氟甲基、代: 201211005 氣甲基、二氯曱基、三氯甲基、2,2,2-三氟乙基、2 2_二氟 乙基、2-氟乙基、u二氟乙基、卜氟乙基、2_氯乙基、五 氟乙基、M-二氟_2,2,2-三氣乙基、2,2,3,3_四氟乙基及2_ 二氯乙基,且典型地為三氯甲基、二氟氯甲基、二氟甲美、 二氟*甲基及一氣敦曱基。 烷氧基為例如曱氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧其、 正丁氧基、異丁氧基、第二丁氧基及第三丁氣基,且 為甲氧基或乙氧基。 〇 鹵烷氧基為例如氟甲氧基、二氟甲氧基、三氟甲氧美、 氟曱氧基、2_氣乙氧基及三氟甲氧基。
為曱硫基或乙硫基。 2,2:2-三氟乙氧基、i山2,2_四1乙氧基、2_氟乙氧基乳2土-氣 ^氧基、2,2-二l乙氧基及2,2,2_三氣乙氧基,且通常為二 第二丁硫基或第三丁倚基、 異丙硫基、 基、且通常
第三丁磺醯基,且 且通常為甲磺醯基或乙磺醯基。
烧基亞續醯 磺醯基、異丙亞 第二丁亞磺醯基 或乙亞績酿基。 基,較佳為完全飽 環戊基或環己基。 環烷基可為飽和 和環烧》基,且為例如 或部分不飽和環烷基, &内基、環丁基、環点 9 201211005 甲氧基乙基、乙氧基 正丙氧基乙基、異丙 燒氧基烷基為例如甲氧基甲基 甲基、乙氧基乙基、正丙氧基甲基 氧基甲基或異丙氧基乙基。 芳基包括苯基 、萘基、蒽基 為苯基 苐基及節滿基,但通常 碳環包括環烷基及芳基。 雜環烷基為可能飽和或部分 刀不飽和、較佳完全飽和之 非方% ’其含有碳原子作為環 M ^ ^ ^ 及至少—個選自〇、s及 之雜原子作為環成員。實例包括 .卜 τ例匕括王展乳乙燒基、氧雜環丁烧 土、四氣呋喃基、四氫哌喃基 ^ ^ l·3 —氧% 戊烷基、1,4-二 暍烷基、氮丙啶基、四氫吖唉基、 谷疋基、《底啶基、噁嗪
基、嗎琳基、硫嗎琳基、D来峡吩I 二 f 定基、吡唑啶基及哌D井基, 較佳為嗎啉基、D比略啶基、哌 疋丞辰疋基及哌〇井基,更佳為嗎啉 基及π比洛咬基。 雜芳基為例如單價單環或雙環芳族煙基。單環基團之 實例包括吼咬基、。答畊基…密咬基、。比畊基、η比洛基、。比 唾基、咪嗤基、三。坐基、四唾基、。夫喃基…塞吩基 '。惡唾 基 '異。惡唾|惡二嗤基、隹唾基、異嘆。坐基及隹二。坐基。 雙環基團之實例包括㈣基、料基、啥林基、苯并味 唑基、苯并噻吩基及苯并嚷二唑基。單環雜芳基較佳,較 佳為吡啶基、吡咯基、咪唑基及三唑基,例如丨,2,4三唑基、 At* °定基及Π米嗤基最佳。 術語「雜環(heterocycle)」及「雜環(heter〇cycHc ring)」 可互換使用且定義為包括雜環烷基及雜芳基。本文中任何 201211005 提及雜環較佳係指上文雜芳基及雜環烷基之定義所指定之 寺疋Μ例且較佳為嗎琳基、Π比Ρ各咬基、旅D定基、派JJ井基。比 啶基、吡咯基、咪唑基及三唑基,例如i,2,4三唑基,更佳 為嗎啉基、吡咯啶基、吡啶基及咪唑基。 術。口 —氯乙醯亞胺醋基(trichloroacetimidate )』係指 以下基團: 曰
NH
CI 在部分表示為(視情況)經取代之例如烷基之情況下, 此部分包括作為較大基團之一部分之彼等部分,例如烷硫 基中之烧基、院氧基中之院基等。在部分表示為視情況經 -或多個其他基團取代之情況下,較佳存在…個視情 况選用之取代基、更佳1至3個視情況選用之取代基。 以下取代基定義,包括較佳定義可以任何組合^行组 合: X 表示 Χ-2、Χ-3、Χ-4 或 Χ-5 : #-Z-Z-Z—# #—2-7^-7§-79 * Χ·2 Μ X-4 Z'# #_Z11Z11Z12.Z13.Z11# X-5 X較佳表示X_3或x_5。X更佳表示x_3。
Zl、Z2、Z3、〜、Z7、Z、Z9、z10、z11、z13a 彼此獨立地表示CR!R2、OO或〇CR3R4e zl、z2、Z3、 11 201211005 z5、z ^、^、^、^^"、广及…較佳彼此獨立地 表不亞甲基、幽亞甲基、CH(CH3)或C(CH3)”Z1、Z2、Z3、 Z3 ' z{ 、z、〜9、210'2"、汐3及2“更佳表示 Z4及z 亞甲基 彼此獨立地表示CR5R6、SiR7R8、OO或 Z及Z較佳彼此獨立地表示cr5r6、SiR7R8或 OCW ’更佳表示cr5r6或c = cr3r4,更佳表示CW。 R及R各彼此獨立地表示氫、鹵素、〇h、Ci_C4烷基、 cvcu鹵燒基、C3_C6環烧基、c3_C6函環烧基' Ci-q烷硫 基、CrC4烷基亞磺醯基、Ci_C4烷基磺醯基、苯基或cN, 其中。亥笨基視^況經__或多個,例如^至5個獨立地選自 以下之基團取代:_素、CN、Ci_c4烷基、Ci_c4 ^烧基、 Ci-C4烷氧基及Cl_C4鹵烷氧基;或…及R2連同其所連接 之碳原子一起可形成C3_C6環烷基或c3_c6i環烷基。 R3及R4各彼此獨立地表示氫、函素、Ci_C4烷基或Ci_C4 鹵烧基。 R及R4較佳各彼此獨立地表示氫、鹵素、甲基或鹵甲 基。 c=cr3r‘ R、R6、R及R8各彼此獨立地表示氫、鹵素、〇H、 CVC4烷基、C丨-C4鹵烷基、C3-C6環烷基、c3-C6鹵環烷基、 本基或CN ’其中本基視ί月况經一或多個,例如1至$個獨 立地選自以下之基團取代:鹵素、CN、Ci-C4烷基、CVC4 鹵烧基、C1-C4烧氧基及CpC:4鹵烧氧基;或R5及R6連同 其所連接之碳原子一起可形成C3-C6環烷基或c3-c6鹵環烷 基0 12 201211005 ^ r5、r6、r7及r8較佳各彼此獨立地表示氫、齒素、〇H、
(VC4烷基、CVC4鹵烷基、c3_c6環烷基、苯基或,其 中苯基視情況經一或多個獨立地選自以下之基團取代:鹵 素、CN、Cl-C4焼基、Ci-C4齒烷基、Ci_C4烷氧基及LA 鹵烷氧基;或R及R6連同其所連接之碳原子一起可形成 c3-c6環烷基或c3-c6鹵環烷基; R5、R6、R7及R8更佳各彼此獨立地表示氫、鹵素、 烷基、Ci_C4鹵烷基或苯基,其中該苯基視情況經一或多個 〇 獨立地選自以下之基團取代:南素、CN、曱基、函甲基、 甲氧基及1¾曱氧基’或R及R6連同其所連接之碳原子一起 可形成視情況經鹵素取代之C3_C6環烧基。 Y、Y2、Y3、Y4、Y5及Y6彼此獨立地表示氫、齒素、 CN、N02、CVC8 烧基、C丨-Cj 氧基 _Cl_C4 炫基、Ci_Cj 氧基-c丨-C4院氧基-c丨-C4烷基、(:3-(:8環烷基、c2-c8晞基、 C2-C8炔基、苯基、。比啶基、嘧啶基、c〇R9、〇Rl0、SH、 ◎ CVCs烷硫基、Cl-C8烷基亞磺醯基、Ci_c8烷基磺醯基、 N(R")2、C〇2r10、〇(c〇)R9、c〇n(ri 丨)2、nr11c〇r9 或 cr9n-or1() ’其中該烷基、環烷基、烯基、炔基、苯基、嘧 咬基及°比咬基視情況經一或多個,例如1至5個獨立選自 以下之基團取代:鹵素、CN、NH2、N〇2、〇H、Cl-C4烷基、 cvc4卣烷基、〇1_〇4烷氧基、Ci_C4 _烷氧基、烷硫 基、Ci-C4燒基亞續醯基及CrC*烧基續醯基; 或Y1及Y2、Y2及γ3、Y4及Υ5、Y5及Y6獨立地連同 其所連接之吡啶環之片段一起可形成部分或完全不飽和5 13 201211005 員至7員碳環或含有1至3 之雜原子的5員至7員雜产A地選自〇、S、N及N(R") 鄰氧原子、相鄰條件為該雜環不含相 ^及二二或相鄰硫及氧原子’且其中心及 Υ及Υ、Υ4及γ5或γ 或多個獨立地選自以下 ^ 環視情況經一 也k自以下之基團取代:鹵素、c OH、cvc4 烷基、Ci_c 齒 2 2 氧基。 基Cl~C4烷虱基及CVC4函烷
素、二二213、¥4、〜6較佳彼此獨立地表示氫、鹵 京、N(R )2、CN、Ν02、Γ r P 甘 P 1-C8烷基、Cl_C6烷氧基-CVC4 環烧基、c2-C6稀基、C2_C6块基、苯基…比咬 土 OR、SH、c,-c8^硫基、Ci_c8^基亞績醯基或 烧基續醯基’ λ中該烧基、環烧基、烯基、块基、苯基及 匕定基視f月況經一或多個獨立地選自以下之基團取代:鹵 素、CN、NH2、N〇2、〇H、CiC4 烧基、CiC ^ 烧基、 燒氧基及Ci-C4鹵烧氧基; 或Y及Y、Y2及γ3、Y4及γ5、γ5及γ6獨立地連同 其所連接之吼咬環之片段一起可形成部分或完全不飽和5 員至7員後環,其中由該Υ1及Υ2、Υ2及γ3、Υ4及γ5或 γ及Υ6所形成之環視情況經一或多個獨立地選自以下之基 團取代:自素、CN、NH2 ' N02、OH、CVC4 烧基、CVC4 鹵烷基、Ci-C4烷氧基及Cl_C4鹵烷氧基; 其中R10各彼此獨立地表示氫、Cl_c4烷基、c3-C6環烷 基、C3_(:6烯基、C3_C6炔基、苄基、笨基或π比啶基,其中 違烧基、環烷基、烯基、炔基、苯基、苄基及D比啶基視情 14 201211005 況經一或多個獨立選自以下之基團取代:_素、CN、Nh2、 N02、OH、Ci-C4 烧基、(VC4 _ 貌基、Cl_c4 燒氧基、C1_C4 函烧氧基及CVC4烷氧基-CVC4烷基; R"各彼此獨立地表示氫或d-c:8烷基,其中該烷基視 情況經一或多個鹵素取代; 其中當兩個基團R11連接至同一氮原子時,此等基團可 相同或不同; 且其中當兩個基團R11連接至同一氮原子時,此等兩個 基團連同其所連接之氮原子一起可形成環B-1、B_2、B_3、 B-4或B-5,其中該所形成之環視情況經一或多個獨立地選 自以下之基團取代:鹵素、甲基及鹵甲基。 Y、Y2、Y3、γ4、γ5及Y6較佳彼此獨立地表示氫、鹵 素、MR%、CN、N〇2、Cl_C6 烧基、Ci_C4 院氧基_ci_c4 烷基、C3-C6環烷基、c2_c6烯基、c2_c6炔基、苯基、吼啶 基、CVC4烷氧基、Cl_C4烯氧基、Ci_C4炔氧基、苯氧基、 ^ SH、CrC:8烷硫基、Cl_C8烷基亞磺醯基或q — q烷基磺醯 基,其中該院基、環烧基、稀基、炔基、苯基及吼咬基視 情況經一或多個獨立地選自以下之基團取代:自素、cn、 NH2、N02、OH、曱基及鹵曱基; 或Y1及Υ2、Yl γ3、丫4及Y5、Yi γ6獨立地連同 其所連接之吡啶環之片段一起可形成部分或完全不飽和5 員至7員碳環,其中該由γΐ及γ2、γ2及γ3、γ4及γ5、γ5 及Υ6所形成之環視情況經一或多個獨立地選自以下之基團 取代:齒素、CN、ΝΗ2、Ν〇2、ΟΗ、曱基及函甲基; 15 201211005 其中R"各彼此獨立地表示氫或Ci_C8烷基,其中該烷 基視情況經一或多個齒素取代; 其中當兩個基團尺"連接至同-氮原子時,此等基團可 相同或不同; i @ j 且其中當兩個基團Rll連接 一 A mΑ 门虱原子時,此等兩個 基團連同其所連接之氮原子—起可形成環m-m、 或 八十°亥所形成之環視情況經-或多個獨立地選 自以下之基團取代:齒素、甲基及商甲基。
Yl ' Υ2、γ3、γ4 5 較佳彼此獨立地表示氫、鹵 素、N(R )2、CN、Ν〇 1 6烷基、Cl_C4烷氧基_C,-C4 =基、c3-c6钱基、C2_c6烯基、C2_C6块基、苯基…比咬 H炫氧基、㈣稀氧基、C1_C4块氧基、苯氧基、 ^8炫硫基、Cl_C8^基亞續酿基或Ci_c8^基續醯 .衣烷基烯基、炔基、苯基及吡啶基視 :二-或多個獨立地選自以下之基團取代:i素、CN、 2、no2、0H、f基及-甲基; 或 Y1 及 Y2、Y2 » v3 \r4 < 豆 Y、Y及γ、Y5及Y6獨立地連同 ’員 之吡啶環之片段-起可形成部分或完全不飽和5 二至7貝碳環,其中該由γ,及γ2、γ^γ3、γ4Αγ5、γ5 取代所^成之環視情況經—或多個獨立地選自以下之基團 代2素:C—斗ΟΗ'甲基及函甲基; R各彼此獨立地表示氫或匸心院基,其中該烷 基視情況經一或多個齒素取代; 〃 $兩個基團R"連接至同一氮原子時,此等基團可 16 201211005 相同或不同; 且其中當兩個基團R丨1遠桩 .^ , 基團連同其所連接之氮;等兩個 W眾千一起可形成環Β-1、Β-2、Β 3 B-4或B_5,其中該所形成之環視情況經一或多 地選 自以下ι之基團取,4素、甲基及㈣基。 遥 及γ較佳彼此獨立地表示氫、南、 N(Rn)2、CN、N02、CU 卜苴 π 广 ’、 * C6烷基、cvc4烧氧基-Cl_C4烷基、 Ο c3-c6環烧基、c2_C6稀基、c2_C6快基、苯基、# π定基、CiA 烷氧基、Cl-C4烯氧基、Ci_c4炔氧基、苯氧基、SH、c:_c: 院硫基、cvc8烧基亞續酿基或Ci_C8烧基績酿基其中該 烧基、環烧基、稀基、炔基、苯基及Μ基視情況經一或 多個獨立地選自以下之基團取代:鹵素、CN、迎2、Ν〇2、 OH、曱基及鹵甲基; y及y彼此獨立地表示氫、鹵素、Ci_C4烷基或Ci_C4 鹵烷基; 或及y y及Y5獨立地連同其所連接之吼咬環之 片1又(例如經由片段-CH2-CH2-CH2-CH2-或-CH=CH-CH-CH2·) —起可形成部分或完全不飽和6員碳環,其中該 由Y及Y或Y及γ5所形成之環視情況經一或多個獨立地 選自以下之基團取代:鹵素、CN、NH2、N02、OH、C丨-C4 炫基、Cl_C4幽燒基、Ci-C4烷氧基及C〗-C4鹵烷氧基; 其中R 1各彼此獨立地表示氫或Cl_c8烷基,其中該烷 基視情況經一或多個_素取代; 其中當兩個基團Rn連接至同一氮原子時,此等基團可 17 201211005 相同或不同; 且其中當兩個基團"連接至同—氮原 基團連同其所連接之氨 、夺此4兩個 乳原子一起可形成環B-i、b 2、R q B-4或B-5,其中嗲辦求士 Β'2 Β'3 ' w所形成之環視情況經一 自以下之基團取代:_素、 一個獨立地選 囚京、甲基及鹵甲基。 在化合物之一個群組中丨 τ ϊ汉γ彼此獨立地 烷基、CrCs烷氧基、& Γ ρ p^ Cl_Cs C3'C8裱烷基、N(RU)2、苯基、吡啶 基、嘧啶基' cvc8烷护其 π r 土比定 8沉坆基、Cl_Cj基亞磺醯基、 基磺醯基,其中該烷基、環 8 巷環烷基、本基、嘧啶基及吡啶基 視情況經-或多個獨立地選自以下之基團取代:齒素、⑶、 簡2、CVC4烧基、Cl_C4心基、Ci_C4^氧基、函燒 氧基、CrC4烧硫基、CA院基亞績醢基及Ci_c4院基石黃酿 基。Y1及Y4更佳彼此獨立地表示Ci_C4烷基、Ci_G鹵烷 基、OH、CVC4烷氧基、Ci_C4鹵烷氧基、苯基及吡啶基, 其中該苯基及吡啶基視情況經一或多個獨立地選自以下之 基團取代:鹵素、CN、NH2、N02、OH、CVC4 烷基、Cl_c4 鹵烷基、C1-C4烷氧基及Ci-Cj鹵烷氧基。 在化合物之另一群組中,Y2、γ3、γ5及Y6彼此獨立地 表示氫、CN、OR10、NH2、鹵素、Ci-Cs烷基、cVCs鹵烷 基、C2-C8稀基、C2-C8快基、C3-C8環烧基、SH、院 硫基、N(Rn)2、NR"COR9或苯基,其中苯基視情況經—或 多個獨立地選自以下之基團取代:鹵素、甲基、CN、曱氧 基、鹵甲基及鹵曱氧基。Y2、Y3、Y5及Y6更佳彼此獨立地 表示氫、CN、OH、NH2、鹵素、CVC4烷基、C〗-C4鹵烷基、 18 201211005 C1-C4院氧基、C1-C4鹵烧氧基、(:3·(:6環院基、n(Ru)2、 NR11 COR9或苯基,其中苯基視情況經一或多個獨立地選自 以下之基團取代:鹵素、甲基、CN、甲氧基、鹵曱基及鹵 甲氧基。 在化合物之另一群組中,Υ1、γ2、γ3、γ4、γ5及γ6 彼此獨立地表示氫、鹵素、OH、CN、CVCs烷基、C丨-C8鹵 烷基、(VCs烷氧基、Ci-C8鹵烷氧基、c3-C8環烷基、苯基、 吡啶基、或NRnC0R9,其中苯基及吡啶基視情況經 一或多個,例如1至5個獨立地選自以下之基團取代··自 素、CN、(VC4烷基、CVC4鹵烷基、烷氧基及(VC4 鹵烷氧基。 在化合物之另一群组中,γ!、γ2、γ3、γ4、γ5及γ6 彼此獨立地表示氫、CN、〇Η、鹵素、C】_C4烷基、Ci_C4齒 烧基、Ci-C4貌氧基'Ci-C4鹵烷氧基、C3_C6環烷基、N(Rn)2、 NR COR或苯基,其中苯基視情況經一或多個,例如1至 5個獨立地選自以下之基團取代:_素、CN、c丨_C4烷基、 Cj-C4鹵烷基、CVC4烷氧基及c丨_c4鹵烷氧基。 在化合物之另一群組中,γΐ、γ2、γ3、γ4、γ5及γ6 彼此獨立地表示氫、CN、〇Η、ΝΗ2、鹵素、c丨_C4烷基、 Cl_C4函烧基、Cl-C4烷氧基、CVC4齒烷氧基、C3-C6環烷 基、N(R h、NRnC〇R9或苯基,其中苯基視情況經一或多 個,例如1至5個獨立地選自以下之基團取代:鹵素、甲 基、CN、曱氧基、鹵曱基及鹵曱氧基。 在化合物之另一群組中,Y2、Y3、Y5及Y6彼此獨立地 19 201211005
表示氫、Κ4烷基、CN 經一或多_线選自以下^4;^基,其巾縣視情況 燒氧基W氧基團取代:鹵素、CN、C々 在化合物之另—群組中,γ1'
彼此獨立地表示氫、c 及Y 产美相卜、 4烷基、CN或Cl_c4烷氧基,其中 烷基視月况經一或多個獨 紊、 獨立地璉自以下之基團取代:i 、、1_C4烷氧基及CVC4 _烷氧基。 在6化合物之另一群組中,^及γ2、γ& γ3 γ^ γ5、 Υ及γ獨立地連同1邮、s & 八ο 4门,、所連接之吡啶環之片段-起可形成部 刀或元全不餘和5員至7員碳環或含有…個獨立地選 鉻:J Ν及N(Rll)之雜原子的5員至7員雜環,其限制 '' ‘、忒雜%不含相鄰氧原子、相鄰硫原子或相鄰硫及氧 原子,且其中由Y1及Y2、Y2及Y3、Y4及Y5或丫5及γ6 所形成之環視情況經—或多個獨立地選自以下之基團取 代 ^ 素、CN、則2、Ν〇2、OH、Cl-C4 烧基、Cl_C4 函烷 土 4 Cl匸4烧氧基及Cl-C4鹵烧氧基;γ1及Υ2、Y2及γ3、 及γ、Υ5及Υ6較佳獨立地連同其所連接之吼啶環之片 &起可形成部分或完全不飽和5員至7員碳環或含有( 至3個獨立地選自N & N(Rll)之雜原子的5員至7員雜環, 且其中由Y1及γ2、γ2及γ3、γ4及γ5或γ5及γ6所形成之 王衣視情況經一或多個獨立地選自以下之基團取代:_素、 CN、ΝΗ2、ν〇2、〇Η、Cl_c4 烧基、Cl_c4 _ 燒基、C”C4^ 氧基及Ci-C4鹵烷氧基。 在化合物之另一群組中,γι及γ2、γ4及γ5獨立地連 20 201211005 同其所連接之吡啶環之片段一起可形成部分或完全不飽和 5員至7員碳環,其中該由¥】及γ2、丫4及γ5所形成之環 視情況經-或多個獨立地選自以下之基團取代:画素、CN、 2 OH、烧基、烧基、Ci_c4 烷氧基 及C1-C4鹵烷氧基。
在化合物之另一群組中,γ1及Y2、Y4及Y5獨立地連 '其所連接之呢咬環之片段一起可形成部分或完全不飽和 貝碳王哀(例如經由片段心广叫-叫心广或韻 =c:2:);其中該由γ1及γ2或〜所形成之環視情況經 -或夕個獨立地選自以下之基團取代:齒素、CN、簡、 在化合物之—個独中’ ¥2及¥5彼此獨立 鹵素、(:丨-(:4烷基^cr占 、氮 土次G-C4齒烷基,較佳表示氫、 基或鹵甲基,較佳表示氫。 ” R各彼此獨立地表示氫、 C C榼其n r, 1 C8烷基、C3-C8環烷基、 CVCs烯基、(VC8炔基、节基、笨基或美 基、環烷基、烯基、炔A、 一 土 中該烷 一或多個’例如1至5個獨立地選/兄、、二 素、⑽…〜咖 選自以下之基團取代:画 1:1 Li-C4烷基、c丨_c4鹵烷基、 烷氧基及CVC4鹵烷氧基。 A Cl_C4 R9較佳各彼此獨立地表示k 更佳表示…基或…貌基。 ^坑基, R1Q各彼此獨立地& 表不虱、c卜c8烧基、C3_C8環燒基、 21 201211005 C3_C8烯基、cvc8炔基、苄基、苯基或π比啶基,其中該烷 基、環烷基、烯基、炔基、笨基、节基及吡啶基視情況經 一或多個,例如1至5個獨立地選自以下之基團取代:鹵 素、CN、NH2、N〇2、OH、Ci_C4 烷基、Ci C4 函烧基、Ci_C4 烷氧基、CVC4鹵烷氡基及Ci_C4烷氧基_C〗_C4烷基。
Ru各彼此獨立地表示氫、〇H、Ci_Cs烷基、c丨_C8烷氧 基、cvc8烷氧基-Cl-C4烷基、c3_c8烯基、c3_c8炔基或 COR9 ’其中該烧基、烧氧基、烯基及快基視情況經一或多 個A素取代;其中當兩個基團Rll連接至同一氮原子時,此 等基團可相同或不同;其中當兩個基團Rll連接至同一氮原 子時’此等兩個基團並不都可為〇H、Cl_c4^氧基或Cl_c4 齒烧氧基;且其中當兩個基團R11連接至同—氮原子時,此 等兩個基團連同其所連接之I原子-起可形成環B]、 B-2 、 B-3 、 B-4 、 B-5 、 B_6 、 B B_8 :
其中該所形成之環視情況經—或多個,例如1至5 獨立地選自以下之基團取代:鹵素、CN、随2、n〇2、〇 C1-C4焼基、C1-C4鹵燒其甘 基C〗-C4烷虱基及Cl_C4鹵烷氧j R 較佳各彼此獨立祕本* 立地表不虱、Ci-Cs烷基或C〇R9 ; 中當兩個基團RU連接至 % m a-t 释至同一虱原子時,此等基團可相同 22 201211005 ‘不同,·且其令當兩個基團連接 # /m M. m r-t *4- 同 氮原子時’此尊兩 個基圏連同其所連接之氮原 兩 R , D ^ 起可形成環β-〗、B_2、 -3m B_5’其中該所形成之環視情況經 例如…個獨立地選自以下、, 鹵甲基。 印私代.鹵素、f基及 r1更佳各彼此獨立地表示氣 . 飞次C丨_C4烷基;其中當兩 日甘士 ^ 虱原子時,此等基團可相同或不同; 且其中當兩個基圓R丨1連接至同—氮焉+拄 Ο it Π ^ ^ ^ 氮原子時,此#兩個基團 連同其所連接之氮原子一起 〜j 办成% β-1、B-2、B-3、B_4 或-5,其中該所形成之環視情況經—或多個,例如 個獨立地選自以下之基團取 ,2 悉囡取代·鹵素、甲基及鹵甲基。 6 〇 〇及G彼此獨立地表*_c(r12r】3)_ · G彼此獨立地表示-C(RUr13\ „ c2 ' . 3 ( R )-、〇、N(Rl4)或 S;或 G丨及 G、或 G2 及 G3、或 G1 及 Gi、十、w Ώ 5 s 或G及G 、或G5及g6、 或 G 及 G — 起表示 _CR12=CR13 . A ^ CR 。為免生疑問,若p為2, 〇 Gl以及G2及G3可表示CR12=CR门,以便該環含有 兩個雙鍵部分。同樣地’若…,則〇4及〇4以及…及 G 可表示 cr12=cr13。 G、G、G、G4、G5及g6較佳彼此獨立地表示 -。(尺1 2ru)_。
Gl、G2、G3、G4、G5及G6甚至更佳表示亞甲基。 R及R各彼此獨立地表示氫、自素、C〖_C4烷基、 由烷基广-c4烷氧基或Cl_c4齒烷氧基。
Rl4表示氫、0H、烷基、CrC4烷氧基、c3_c6環 23 201211005 烷基、C「cs烷基羰基或q_C8 _烷基羰基; Ρ及q各彼此獨立地為〇、!或2。 P及q較佳各彼此獨立地為1或2。 p及q更佳為1。 在化合物之一個群組中,χ表示χ_2、χ_3、χ_4 r.1 _< , 2乂 Χ-5 : 、ζ11 ζ Ζ 、Ζ5、Ζ6、ζ Ζ' 、Ζ ζ 及 ζ彼此獨立地表示CRiR2、c = CR3R4或c = 〇 ; Z及Z12彼此獨立地表示c = CR3R4、cr5r6、s 8 R或 C = 0 ; R及R各彼此獨立地表示氫、_素、〇H、CiC4烷基、 CVC4鹵烧基、c3-c6環院基、C3_C6鹵環貌基、^访 基、q-C:4烷基亞磺醯基、C]_C4烷基磺醯基、苯基或 其中該苯基視情況經一或多個獨立地選自以下之基團取 代:il素、CN、CVC4烷基、Cl_c4鹵烷基、^丨-山烷氧基及 CVC4鹵烧氧基; 或R1及R2連同其所連接之碳原子—起可形成CrC6環 烧基或C3-C6鹵環烧基; R及R4各彼此獨立地表示氫、齒素、烷基或CrC4 鹵烧基; ^ R5、R6、R7及R8各彼此獨立地表C1-C4院基、Ci-C*鹵烧基、〇3-(^6環燒義 苯基或CN,其中苯基視情況經—或多 & 以下之 夕彳固獨立地遠自以r 基團取代:1S素、CN、CVC4烷基、 C4 ^ 卜^4鹵炫基 烷氧基及鹵烷氧基; 示氫、鹵素 c3-c6 鹵
、〇H 環烷基 24 201211005 或R及R連同其所連接之碳原子一起可形成c c;環 烷基或c3-c6鹵環烷基; 且其中該等基團X-2、X-3、X-4及X-5可含有至多一 個環(亦即環烷基或鹵環烷基),其含有僅—個基圏ζι至 Z14、或兩個基團Z1至Z14、或三個基團2丨至zM、或四個 基團Z1至Z14作為環成員;且其中基團2;i、Z2、z3、z5、 z6、Z9、Z1G及Z14不會經OH取代; Ο Ο γ6彼此獨立地表示氫、鹵素、 CN、N02、Cl-C8 烧基、Cl_C4 烧氧基_Ci_C4 貌基、Ci_ca 氧基-CrC4烷氧基-Cl-C4烷基、C3_C8環烷基、C2_C8烯基、 C2-C8炔基、苯基、吡啶基、嘧啶基、c〇r9、〇r1G、、 q-C8烷硫基、Cl_C8烷基亞磺醯基、Ci_C8烷基磺醯基、 自烧硫基、Cl-C:8齒烧基亞磺醯基、Ci_c8 _烷基磺醯基、 N(R")2、c〇2Rl。、0(co)r9、C0N(Rll)2、nr11c〇r9 或 cr9n-orw’其中該烷基、烷氧基、環烷基、烯基、炔基、 苯基、嘧啶基及吡啶基視情況經一或多個獨立地選自以下 之基團取代:鹵素、CN、腦2、N〇2、〇H、C丨_c4烷基、Ci_C 齒烧基A-Cd氧基、Cl_C4函炫氧基、Ci_c4院硫基、Ci_c 烧基亞磺醯基及Cl_C4烷基磺醯基; R9各彼此獨立地表示氫、Cl_Cs烷基、C3_C8環烷基、 稀基、CVC8块基、节基、苯基或吼咬基其中該烧 土衣院& #基、炔基、苯基、节基及口比口定基視情況經 -或多個獨立選自以下之基團取代:南素、CN、NH2、N02、 OH C, c4燒基、Ci_c4鹵烧基、Ci_C4燒氧基及函烧 25 201211005 氧基; . R10各彼此獨立地表示氫、Cl_c8烷基、C3-C8環烷基、 c3-c8烯基、c3-c8炔基、苄基、苯基或n比咬基,其中該烧 基、環烧基、烯基、炔基、苯基、苄基及也啶基視情況經 一或多個獨立選自以下之基團取代:鹵素、CN、NH2、N〇2、 〇H、Cl_C4烧基、c!_c4 _炫•基、CVC4烧氧基、C〗-C4鹵烷 軋基及C ! - C 4烧氧基_ C〗-C 4院基; R各彼此獨立地表示氫、〇H、Ci_C8烷基、CrC8烷氧 基、CVC8烷氧基_Ci_C4烷基、c3_c8烯基、c3_c8炔基或 COR9 ’其中該烧基、烷氧基、烯基及炔基視情況經一或多 個鹵素取代; 其中當兩個基團R"連接至同一氮原子時,此等基團可 相同或不同; 其中當兩個基團R11連接至同一氮原子時,此等兩個基 團並不都可為〇H、Ci_C4烧氧基或函燒氧基; 且其中當兩個基團接至同—氮原子時, 基團連同其所連接之氮原子-起可形成環 B-4 、 B-5 、 B-6 、 B-7 或 B-8 ; 其中該所形成之環視情況經—或多個獨立地 之基團取代:齒素、CN、NH2、N〇2、〇 _烷基、CVC4烷氧Γ r a G烷基、(VC4 基及Ci-C4鹵烷氧基; ^、G2 ' G4及G5彼此獨立地表示·c(rur13)_ ; G及G6彼此獨立地表示 .Γ« R 2 7 ( R )·、0、_")或 s ; 或G及G、或(^及g3、 飞0及G、或G4及G5 ' 26 201211005 或G及G6、或G4及G4 —起表示_CRl2 = CR13_ ; 12 R及R13各彼此獨立地表示氫、鹵素、Cl_c4烷基、Ci_c4 鹵烷基、c丨-c:4烷氧基或c丨·C4鹵烷氧基; R14表示氫、〇H、c丨·c4烷基、c丨_C4烷氧基、^心環 烷基、CrC8烷基羰基或Ci_C8鹵烷基羰基;及 P及q各獨立地為〇、1或2; 或其鹽或N-氧化物。
在化合物之一個群組中, X表示X-3 ; Z3及Z5彼此獨立地表示亞甲基、齒亞甲基、c 3) 或 c(ch3)2 ; Z4表示 R3 及 R4 鹵院基; C=Cr3r4、CR5R6、SiR7R8 或 C = 〇 ; 彼此獨立地表示氫、卣素、C]_C4烷基或 C 1 -C4 R、R、R7及R8各彼此獨立地表示氫、_素、OH、 烷基、Cl_C4鹵烷基、C3_C6環烷基、苯基或⑶ t該苯基視情況經―或多個獨立地選自以下之基團.、 函素、CN、Cl_c4烷基、Cl_C4^烷基、Ci_C4烷氧基及c c 鹵烷氧基; 1 或R5及R6連同其所連接之碳原子—起可形成 烧基或c3-c6鹵環烷基; & γΐ、Υ2、γ3、γ4、γ5 及 γ6 ^ 彼此獨立地表承風、南素、 CN、Ν02、Cl_C8 烷基、Cl_c 烷 /、 尽廿 4也虱基-^4烷晷、cvc4 氧基-C丨-C4燒氧基_c丨-C4烧基、c Γ番 ρ 签L3-C8環烷基、c2-C8烯基、 27 201211005 c2-c8炔基、苯基、吡啶基、嘧啶基、c〇r9、〇rw、阳、 CVC8烷硫基、c!_cs烷基亞磺醯基、Ci_c8烷基磺醯基、 N(R")2、co2R10、0(c〇)r9、con(r")2、nr1】c〇r9 或 口密 W丨。,其"亥貌基、環炫基、婦基、块基、苯基 。定基及吡唆基視情況經一或多個獨立選自以下之基團取 代:函素、CN、NH2、N〇2、〇H、Ci_C4^、Ci C4a 基、C,-C4烷氧基、Ci_C4齒烷氧基、C1_C4烷硫基' Cl心 烷基亞磺醯基及Cl_C4烷基磺醯基; 直或Yl*Y2、Y2及丫3、^5、丫5及,立地連同 :所連接之㈣環U段—起可形成部分或完全不飽和5 貝至7貝碳環或含有1至3個獨立地選自〇、S、N及N(R") 之雜原子的5員至7昌μ ί® 鄰4 mi 員至7員雜核,其限制條件為該雜環不含相 鄰乳原子、相鄰硫原子或相 γ2、γ、 ,相=及,原子’且其中由¥1及 .及Y或Y及Y6所形成之環視情況經一 〇H 、 土 團取代:_ 素、CN、NH2、N02、 烧基、Cl_C4i燒基、Ci_Ca氧基及K識 乳暴。R9各彼此獨立妯矣 ~ c c 、”虱、C丨-C8烷基、c3-c8環烷基、 L8烯基、c2_c8炔美、笔坡 ^ 美、JSE 、土 苄土、本基或吡啶基,其中該烷 土 衣烷基、烯基、炔基'笼其 —β 一志夕加, 本基、卞基及吡啶基視情況經 0Η、 下之基團取代:_素、cn、nh2、n〇2、 氧基;1 “ 土、Cl-c4 *烷基、c”c4烷氧基及Cl-C4 ii烷 R各彼此獨立地表示氣、 …基、W炔基、节广:8:士 Μ環烧基、 卞基、笨基或吼啶基,其中該烷 28 201211005 基、祕基、雄基、快基、苯基、f基及㈣基視情況經 -或多個獨立選自以下之基團取代··齒素、CN、NH2、N02、 on、Cl-C4規基、cvc4鹵炫基、Ci_Cj氧基、Ci_c4函烷 氧基及C1-C4娱;氧基貌基; RH各彼此獨立地表示氫、OH、c,_c8炫基、Cl_C8烧氧 基C! c8烷氧基-c】_c4烷基、C3_C8烯基、C3_c8炔基或 COR9,其中該烧基、烧氧基、稀基及炔基視情況經一或多 個鹵素取代; Ο 其中當兩個基團R11連接至同—氮原子時,此等基團可 相同或不同; 其中當兩個基團R"連接至同一氮原子時,此等兩個基 團並不都可為0H、C1_C4^氧基或C1_C4齒烧氧基;土 且其中當兩個基團R"連接至同一氮原子時,此等兩個 基團連同其所連接之氮原子—起可形料
B-4 、 B-5 、 B-6 、 B-7 或 B-8 : 八中該所形成之環視情況經一或多個獨立地 :基團取代:M、cn、NH2、n〇2、oh、Ci_C4m、Ci_c 自烷基、C丨-C4烷氧基及CVC4鹵烷氧基; 1 1 G、G2、G4及G5彼此獨立地表示_c(r12ri3 29 201211005 G3及G6彼此獨立地表示-C(RI2R,、0、N(R,或s. 或G1及G2、或G2另>广丨 , 及G、或G及G、或G4及G5、 或G及G、或少及g4 —起表示_cr12 = cr,3_; R及R各彼此獨立地表示氯、函素、貌基、 鹵烷基、Ci-C4燒氧基或G-c, _烧氧基; 4 R14 表示氫、OH、r r a « ^
CpC4烷基、Cl_c4烷氧基、 烧基、CA烧基幾基或Ci_c8齒烧基幾基;及 、 p及q各獨立地為〇、1或2· 在化合物之另一群組中, X表示X-3 ; Z3及Z5彼此獨立地表千 也录不亞甲基、鹵亞甲基、ch(ch 或 c(ch3)2 ; v 3) Z4 表示 OCR3R4、cr5r6、SiR7R8 或 c=〇 ; R3及R4彼此獨立地*千气 函烧基; …鹵…4燒基或Cl_C4 R5、R0H R8各彼此獨立地表示氫、處辛、〇H Cl-C4炫基、Cl-C“院基、C3_c6環烧基、苯基或⑶装 中苯基視情況經一或多個獨立地選自以下之基團取代^ 素、CN、Cl-C4烷基、Cl_C4自燒基、Ci_c^氧基及 鹵烷氧基; 4 或R5及R6連同其所連接之碳 反眾卞起可形成C3-C6環 烷基或C3-C6鹵環烷基; R9各彼此獨立地表示氫、Ci_C8烷基、以環烷基、 q-c:8烯基、cm炔基、节基、苯基或。比啶基,其中該烷 30 201211005 基、環烧基、婦基、炔基、苯基、节基及吼咬基視情況經 -或多個獨立選自以下之基團取代:鹵素、CN、NH2、N02、 OH、CVC4烧基、CVCU鹵院基、Ci_c4烷氧基及函院 氧基; Ο ο R10各彼此獨立地表示氫、Ci_C8烧基、C3_Cpt燒基、 CVC8烯基、CVC8炔基、苄基、苯基或吼啶基,其中該烷 基、環烧基、婦基、炔基、苯基、节基及吼咬基視情況經 .-或多個獨立選自以下之基團取代:齒素、CN、贿2、N〇2、 ⑽、Cl-C4烧基、Cl_c4函燒基、Ci_C4烧氧基、Ci_c4函烧 氧基及CrC4烷氧基_Cl_c4烷基; R11各彼此獨立地表示氫、〇H、Ci_C8烷基、Ci_C8烷氧 基、烧氧基_Cl_c4院基、C3_C8烯基、C3_c8炔基或 C0R,其卞該燒基、烧氧基、稀基及炔基視情況經—或多 個鹵素取代; 其中當兩個基團R11連接至同一 相同或不同; 兔原子時’此等基團可 其中當兩個基團尺"連接至同一氮原子時 團並不都可為OH、Ci-C4院氧基或Ci_C4_基· 且其中當兩個基團m接至同—氮原子時, 基團連同其所連接之氮原子一起 31 201211005
中4所形成之環視情況經一或多個獨立地選自以下 之基團取代:_素、CN、贿2、N02、OH、Cl-C4烧基、Cl_C4 函炫•基、C丨-C4烷氧基及Ci_c4鹵烷氧基; 及Y彼此獨立地表示Ci-〇8烧基、C!-C8烧氧基、 C3-C8 %烷基、N(R丨1)2、苯基、吡啶基、嘧啶基、烷 硫基、CrC:8烷基亞磺醯基、Cl_c8烷基磺醯基,其中該烷 基烧氧基、環烷基、苯基、嘧啶基及吡啶基視情況經一 或多個獨立地選自以下之基團取代:鹵素、cN、nh2、n〇2、 OH、CVC4烧基、Cl_c4鹵烷基、Ci_c4烷氧基、Ci_c4鹵烷 氧基、CrC4烷硫基、Crh烷基亞磺醯基及(^-(:4烷基磺醢 基; γ、γ3、Y5及Y6彼此獨立地表示氫、鹵素、CN、N〇2、 Ci-C8烷基、C「C4烷氧基-CVC4烷基、crC4烷氧基-CVC4 烧氧基-CVC4烷基、c3-c8環烷基、c2-C8烯基、c2-c8炔基、 苯基、吼咬基、嘧啶基、COR9、OR1G、SH、Ci-Cs烷硫基、 Ci-C8烷基亞磺醯基、CVCs烷基磺醯基、N(RU)2、c〇2R10、 0(C0)R9、CON(R")2、NR"COR9 或 CR9N-OR10,其中該烷 基、環烷基、烯基、炔基、苯基、嘧啶基及吼啶基視情況 經一或多個獨立選自以下之基團取代:鹵素、CN、NH2、 N〇2、OH、Ci-h 烧基、CVC4 -燒基、c C4 烧氧基、C]_c4 32 201211005 鹵烷氧基、G-C4烷硫基、C 磺醯基; CU.烧基亞續醯基及
Cl-C4烷基 或 γ 及 γ2、γ2 及 γ3、γ4 及 γ5 甘ώί·、志4* 1及Υ獨立地連同 八所連接之吡啶環之片段— 員至7員碳環或含有…:二成選= 完全不飽和5 之雜原子的5員至7員雜/ : Μ,, m 員雜核,其限制條件為該雜環不含相 :广二子、,鄰,原子或相鄰硫及氧原子,且其中由
及γ、γ4及¥5或γ5及γ6所形成之環視情況經-或多個獨立地選自以下之基團取代:齒素、cN、NH2、N〇、 ⑽、基、㈣a基、以院氧基及Ci_c^2院 氧(基·, G、G2、G3、G4、G5及G6表示亞甲基; P及q彼此獨立地表示1或2。 在化合物之另一群組中,X表示χ_ 3. Ζ3及Ζ5表示亞曱基; Ζ4 表示 C = CR3R4、CR5R6 或 SiR7R8 ; R3及R4彼此獨立地表示氫、齒素、曱基或鹵甲基; R5及H6、R7及R8彼此獨立地表示氫、鹵素、〇h、Ci_C4 烷基、CVC4鹵烷基或苯基’其中該苯基視情況經一或多個 獨立地選自以下之基團取代:齒素、CN、曱基、函甲基、 甲氧基及iS曱氧基; 或R5及R連同其所連接之碳原子一起可形成視情況經 鹵素取代之C3-C6環烧基; R9各獨立地表示Ci-C:4烧基或Cl_c4_烷基; 33 201211005 R"各彼此獨立地表示氫或(2丨-(^4院基; 其中S兩個基團R11連接至同一氮原子時,此等基團可 相同或不同; 且其中當兩個基團Rii連接至同一氮原子時,此等兩個 基團連同其所連接之氮原子一起可形成環b_1b_2 b_3、 4或B 5,其中a亥所形成之環視情況經一或多個獨立地 選自以下之基團取代:鹵素、曱基及鹵曱基; 其中Y1及Y4彼此獨立地表示Ci_C4烷基、鹵烷 基OH CVC4燒氧基、C]-C4鹵烧氧基、苯基或吼啶基, 其中該苯基及吼咬基視情況經一或多個獨立地選自以下之 基團取代4素' CN、腿2、N〇2、〇H、Ci_C4烧基、C| C4 鹵烧基、C1-C4烷氧基及CVC4鹵烷氧基; Y Y、Y及Y彼此獨立地表示氫、CN、OH、NH2、 鹵素、C】-C4烧基、Cl-C4齒院基、Ci_c4烧氧基、Ci_c4函 ,氧基、C3-C6環烷基、n(rh)2、Nr11c〇r9或苯基,其中 苯基視情況經一或多個獨立地選自以下之基團取代:函 素、曱基、CN、曱氧基 '鹵甲基及鹵甲氧基; 或Y1及Y2、V及Y、丫4及γ5、¥5及γ6獨立地連同 ,所連,之㈣環之片段—起可形成部分或完全不飽和5 貝至6?貝碳環,其中該由γ丨及γ2、γ2及γ3、γ4及γ5、γ5 G2、G: 及γ所形成之環視情況經一或多個獨立地選自以下之基團 取代:_素、(^、丽2、购2,、甲基及鹵曱基;(}1、 G4、G5及G6表示亞曱基; ρ及q彼此獨立地表示1或2 34 201211005 在化合物之另一群組中’ γ2、γ3、γ5及γ6彼此獨立地 表不氮、CN、OR1。、νη2、_素、Ci_c8烧基、c】_c8鹵烷 基、c2-c8稀基、c2_c8炔基、C3_C8環烷基、SH、Ci_c8烷 石瓜基、N(R )2、NR11 COR9或苯基,其中苯基視情況經一或 夕個獨立地選自以下之基團取代:鹵素、曱基、cN、甲氧 基、鹵甲基及鹵甲氧基; 或Y及Y2、γ2及γ3、γ4及γ5、γ5及γ6獨立地連同 其所連接之》比咬環之片段一起可形成部分或完全不飽和5 員至7員碳環,其中該由γ1及γ2、γ2及γ3、丫4及γ5、γ5 及Υ所形成之環視情況經一或多個獨立地選自以下之基團 取代.9鹵素、CN、贿2、NO!、ΟΗ、曱基及鹵曱基;
Riq各彼此獨立地表示Ci-C4烷基或Cl_C4鹵烷基; R各彼此獨立地表示表示氫、Ci_Cs烷基、c^C8環烷 3 8烯基C3-C8炔基、苄基、苯基或吡啶基,其中 該烧基、環烷基、烯基、炔其 ^ 诀基、本基、苄基及吡啶基視情 Ο 況經一或多個獨立還έ w 選自以下之基團取代:鹵素、CN、NH2、 Ν〇2λ OH% % η p ι- ^ y. _ 1-C4 _烷基、c丨-C4烷氧基、C丨-c4 鹵烷氧基及c^c:4烷氧基_Ci_c4烷基; R11各彼此獨立地表示氫或Ci_C4烧基; 其中當兩個基團R"逑桩 運接至同一氮原子時,此等基團可 相同或不同; 且其中當兩個基團R"連接 ^ 1*1 *4 Π # ^ 連接至同一氦原子時,此等兩個 基團連同其所連接之氮原 趄」形成環B-1、B_2、B_3、 B-4或B-5,其中該所形忐 衣視知況經一或多個獨立地選 35 201211005 自以下之基團取代:鹵素、甲基及鹵甲基。 在化合物之另一較佳群組中,γ2、γ3、Y5及Y6彼此獨 立地表示氫、CN、OH、腿2、鹵素、Ci_C4烷基、鹵 烧基、C)-C4燒氧基、Ci_C4齒院氧基、C3_C6環烧基、哪" NR COR或苯基’其中苯基視情況經—或多個選自以下之 基團:代1鹵素2、甲基' CN'甲氧基、鹵甲基及鹵甲氧基丨 或Y及Y、γ4及Y5獨立地連同其所連接之吡啶環之 片’又2 I T屯成部分或完全不飽和6員碳環’其中該由Y丨 及γ2或γ4及γ5所形成之環視情況經—或多個獨立地選自 以下之基團取代··齒素、CN、簡2、ν〇2、〇η 美 C,_c4鹵烷基、Cl_c4烷齑其B r 4烷基、 4说乳基及C1-C4鹵烷氧基; R各獨立地表示p p (^廿上、 " 1-4院基或Cl-c4鹵院基; R各彼此獨立地表示氫或Ci_C4烷基; 其中當兩個基團妙連接至同一氮原子 相同或不同; 等基團可 :其中當兩個基團RU連接至同— 基團連同其所連接之氮屌I ^ 了此萼兩個 接义虱原子—起可形成環B-1、B ) n B-4或B-5,其中該所形成 2、B_3、 自T夕且闽 成%視知况經一或多個獨 自以下之基團取代:齒素、甲基及歯甲基。 地遠 在化合物之另一較佳群組中, X表示X-3 ; z及Z5表示亞曱基; Z4 表示 CW、c=Cr3r^ siR7R8 R3及R4彼此獨立地表 乳因素、甲基或鹵甲基; 36 201211005 R5、R6、R7及R8彼此獨立地表示氫、鹵素、〇H、c丨_C4 烷基、Ci-C4鹵烷基或苯基,其中該苯基視情況經一或多個 獨立地選自以下之基團取代:卣素、CN、甲基、_曱基、 甲氧基及#曱氧基; 或R及R連同其所連接之碳原子一起形成C3_C6環烷 基或C3-C6鹵環炫基。 在化合物之另一較佳群組中, X表示X-3 ;
Z3及Z5表示亞甲基; Z4 表示 CR5R6 或 c = CR3R4 ; R3及R4彼此獨立地表示氫、㈣、甲基或_甲基; R5及R6彼此獨立地表示氫、㈣、Ci-C4烷基、c「c4 齒烷基或苯基,其中該笨基視情況經一或多個獨立地選自 以下之基團取代:齒素、CN、甲基、幽甲基、甲氧基及函
或R5及R6連同其所連接 基或Cs-C:6鹵環烷基。 之碳原子一起形成C3-C6環烷 ’ Y1表示與Y4相同之取代 且Y3表示與γ6相同之取 在化合物之另—較佳群組中 基、γ2表示與γ5相同之取代基 代基。 在化合物之另__鉍/土 Λ γ2 . 車乂佳群組中,Υ表示與Υ4相同之取代 基、Υ表示與Υ5相同 A J之取代基,且γ表示與γ6相同之取 代基,且其中P盘 _ Λ ρ ” q相冋且為1或2 (較佳為η,且其中 G表不與G4相 取代基’ G表示與g5相同之取代基且 37 201211005 G:表示與G”目同之取代基。在化合物之 Υ表示盘γ4相π ·» 車父佳群組中, 丁/、Υ相冋之取代基、,表 且Υ3表示與, 興¥相问之取代基’ 或2(較η之取代基,且其中P.q相同且為1 歲2 (較佳為1)’且其中〇丨 巧 表示與相同之取似且6相冋之取代基,G2 取代基,〜與-相同之取代基且^ 相同之取代基。 興 在較佳化合物之另一群組中, X表示X-3 ; Z3及Z5表示亞甲基; Z4 表示 C = CR3R4 CR5R6 或 SiR7R8 ; R3及R4彼此獨立地表示氫、齒素、甲基或由甲基;
R、R、R及R8彼此獨立地表示氫、鹵素' C1 C 烷基、CrC4鹵烷基或苯基,其中該苯基視情況經—或多個 獨立地選自以下之基團取代:鹵素' CN、甲基、南甲芙 甲氧基及鹵甲氧基; & 或R5及V連同其所連接之碳原子一起可形成視情況經 鹵素取代之c3-c6環烷基; Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及Y6彼此獨立地表示氫、鹵素、 N(R")2 CN、N〇2、Ci-Cs 烧基、CVC6 烧氧基 燒基、 C3-C8環炫基、C2-C6稀基、C2-C6快基、苯基、σ比u定基、〇r1〇、 SH、Ci-Cs烧硫基、Ci-Cs烧基亞續醯基或q-C8燒美續酿 基,其中該烷基、環烷基、烯基、炔基、苯基及吧咬基視 38 201211005 情況經一或多個獨立地選自以下之基團取代:函素、CN、 NH2、N02、OH、Cl_c4 烷基、Cl_c4 鹵烷基、C1_C4 烷氧基 及Ci-C;4鹵院氧基; 或Y1及Y2、Y2及γ3、,及γ5、丫5及γ6連同其所連 接之吡啶環之片段一起可形成部分或完全不飽和5員至7 員碳環,其中該由Y1及Υ2、Υ2及γ3、γ4及γ5、γ5及γ6 Ο 所形成之環視情況經一或多個獨立地選自以下之基團取 代:鹵素、CN、NH2、N02、OH、Cl_c4 院基、Ci_C4 鹵烷 基、CrC4烷氧基及^-^鹵烷氧基; R10各彼此獨立地表示氫、Ci_C4烷基、C3_C4環烷基、 3 C6烯基C3_C6炔基、苄基、苯基或D比咬基,其中該烧 基、環烧基、稀基、炔基、苯基、节基及吼咬基視情況經 -或多個獨立選自以下之基團取代:“、CN、NH2、N〇2、 C! C4烷基、Cl_C4鹵烧基、氧基、CIA齒烷 氧基及CrC4烷氧基_Cl_c4烷基; R11各彼此獨立地表示氫或Cl_C8院基,其中該烧基視 情況經一或多個鹵素取代; 其中當兩個基團R"連接至同—氮原子時,此等基團可 相同或不同; 且其中當兩個基團RU連接至同-氮原子時,此等兩個 基團連同其所連接之氮原子-起可形成環士 B-4或B-5 ’其中該所形成之環視情況經一或多個獨立地選 自以下之基團取代:鹵素、甲基及鹵曱基;
Gi、G\G'G4、GlG6表示亞甲基;及 39 201211005 p及q為1。 在化合物之另一較佳群組中,χ表示. Z3及Z5表示亞甲基; Z4 表示 〇CR3R4、CR5R6 或 SiR7R8 ; R3及^各彼此獨立地表示氫、齒素、甲基或齒甲基; R5、R 1及Μ各彼此獨立地表示氫、函素、〇H、 Cl-C4烧基、Cl-C4齒烧基或苯基,其中該笨基視情況妳一 或多個獨立地選自以下之基團取代:齒素、CN、甲基、、齒 曱基、甲氧基及_曱氧基; 或R5及R6連同其所連接之碳原子一起可形成視情況經 鹵素取代之C3_C6環烧基;及 Y1、Y2、Y3、γ4、γ5及γ6彼此獨立地表示氫、_素、 N(R% CN、N〇2、Cl_C6 烧基、Ci_C4 炫氧基 _CiC4 燒基、 c3-c6環烷基、C2-C6烯基、c2_c6炔基、苯基、吡啶基、Κ4 烷氧基、C丨-c4烯氧基、Ci_c4炔氧基、苯氧基、SH、Ci_c8 烷硫基、Ci-Cs烷基亞磺醯基或Ci_c8烷基磺醯基,其中該 烷基、環烷基、烯基、炔基、苯基及吡啶基視情況經一或 多個獨立地選自以下之基團取代:鹵素、CN、NH2、N〇2、 0H、甲基及鹵甲基; 或Y1及γ2、Y2及Y3、Y4及γ5、γ5及γ6連同其所連 接之吡啶環之片段一起可形成部分或完全不飽和5員至7 員石反環’其中該由Υ〖及γ2 ' γ2及γ3、γ4及γ5、γ5及 所形成之環視情況經一或多個獨立地選自以下之基團取 代南素、CN、ΝΗ2、Ν〇2 ' ΟΗ、甲基及鹵甲基; 40 201211005 R11各彼此獨立地表示氫或,其中該烧基視 情況經一或多個豳素取代; 其中當兩個基團R丨丨域5 F) i=. rr 丞固K連擇至冋—氮原子時,此等基團可 相同或不同; 且其t當兩個基團R丨】連接至同一氮料時,此等兩個 基團連同其所連接之氮原子一起可形成環b]、b_2、B小 Ο ο B-4或B-5,其中該所形成之環視情況經一或多個獨立地選 自以下之基團取代:齒素、甲基及_甲基; G 、G 2、3、("} 4 g 3 芬 p 6 古 ° (3及<3表示亞甲基;及 p及q為1。 在化合物之另一較佳群組中,X表示X 3 . Z3及Z5表示亞曱基; Z4 表示 C=CR3R4、CR5R1 SiR7R8 ; R3及R4各彼此獨立地表示氫、齒素、甲基或函甲基; R5、R6、R7 A R8各彼此獨立地表示氫、鹵素、〇H、 CA炫基、CA齒烧基或苯基,其中該苯基視情況經一 或多個獨立地選自以下之基團取仲.a主 ^ 土团取代.鹵素、CN、曱基、鹵 甲基、甲氧基及鹵甲氧基; 或R5及R6連同其所連接之磁周工 ^ 又厌原子—起可形成視情況經 鹵素取代之C3-C6環烷基;及 γ1、Y3、Y4及Y6彼此獨立地表 奶衣不虱、鹵素、N(RU)2 CN、
Ci-C6炫基、C3-C6環院基、c2-cfi嫌其γλ 2 k埽基、C2_C6炔基、苯基、 吡啶基、C1-C4烷氧基、C丨-c4烯4其 p 4卹礼基、C丨-c4炔氧基、苯氧 基、SH、Ci-Cs 烧硫基、Ci-CR 炫其;n;r«· * 8沉基亞磺醯基或CVC8烷基 41 201211005 磺醯基’其中該烷基、環烷基、烯基、炔基、苯基及„比啶 基視情況經一或多個獨立地選自以下之基團取代:函素、 CN、NH2、N〇2、〇H、甲基及鹵甲基; Y2及Y5彼此獨立地表示氫、鹵素、甲基、鹵甲基; 或Y1及Y2、Y4及Y5獨立地連同其所連接之吡啶環之 片段(例如-ch2-ch2-ch2-ch2-或-ch=ch-ch=ch2-) —起 可形成部分或完全不飽和6員碳環,其中該由γΐ及γ2、及 Υ及Υ5所形成之環視情況經一或多個獨立地選自以下之基 團取代:虐素、CN、ΝΗ2、Ν〇2、ΟΗ、甲基及鹵曱基; 尺1〗各彼此獨立地表示氫或Ci_C8烷基,其中該烷基視 情況經一或多個蟲素取代; 其中當兩個基團R11連接至同 相同或不同; —氮原子時,此等基團可 且其中當兩個基團R11連接至同 1M1 πΐΐ -tf 一氮原子時,此等兩個
Ρ及q為1。
式(IA)化合物
201211005 其 t z4、 所定義。闕 Y、Y2、Υ3、γ4、γ5及Y6係如式⑴化合物 於式⑴化合物所定義之Ζ4、Υ丨、Υ2、Υ3、Υ4、 之較佳定義亦適用於式⑽化合物β 在力一具體實 J中’本發明係關於式(ΙΒ)化合物,
Y Y Y係如式(IM匕合物 所ϋ。Μ + Υ3、Υ4、Υ5及Ϊ-你如式⑴化 ;式⑴化合物所定義之Z4、Y1、Y2、. γ3、 Υ5及Υ6之較佳#墓+ α 足義亦適用於式(ΙΒ)化合物。
在另—具體實例Φ ^ 1例中,本發明係關於式(IC)化合物,
(1C)
其中 Z4 ' γΐ、Y2 3 4 C 所定義。關於切、 γ、γ及γ6係如式⑴化合物 γ5:義關,式⑴化合物所定義之ζ4、γ1、γ2、γ3、γ4、 之車又佳定義亦適用於式(IC)化合物。 在如上所述Y!及γ2、γ2及γ3 同其所連接之吡啶環之## 及Υ、γ及Υ6連 ,α 片焱一起可形成部分哎宗入X釣·ί 5貝至7員碳環或5員至7員雜環 ::…飽和 /或γ4 g V5 〜具有由Y及Y2只 一 連同其所連接之吡π定環 之片段一起所形成之壤 43 201211005 的化合物較佳。 在本發明化合物之任— 群組中,可視情況排除Y1及 Y2、Y2 及 Y3、Y4 及 γ5、 及Υ中之任一者可形成部分或 完全不飽和5員至7員碳m七 。 厌展或5貝至7員雜環之化合物, 但較佳不排除此等化合物。 可用以製備式(I)化合物之宜b 士 物之某些中間物為新穎中間物且 因而亦形成本發明之一部分。 因此’在另-態樣中,本發明提供—種式⑻化合物, R15—x-o.
其中R表示-ONH;2、鹵素、_〇_s〇2_Ri6、三氯乙醯亞 胺酯基、-ONH-CO-R9、_ONH_c〇_〇rio ; I 6 R表示CVC4烧基、Cl_c4鹵烷基或苯基,其中該苯基 視情況經一或兩個獨立地選自以下之取代基取代:甲基、 三鹵曱基、N02、CN、CVC7炫氧羰基; 且X、G4、G5、G6、γ4、γ5、Y6及q係如式⑴化合物 所定義;或其鹽或N -氧化物。 在式(II)化合物之一個群組中,γ4、γ5或γ6中之至少 一者表示嘧啶基、CrCs鹵烷硫基、CrCs鹵烷基亞磺醯基 或c 1 - C s鹵烷基磺醯基,其中該嘧啶基視情況經一或多個獨 立地選自以下之基團取代:鹵素、CN、NH2、N〇2 ' OH、 44 201211005 CVC4烷基、CVC4鹵烷基、CVC4烷氧基、Ci-G鹵烷氧基、 CrC4烷硫基、Crq烷基亞磺醢基及Ci-CU烷基磺醯基。 在式(II)化合物之一個群組中,G6表示N(R14),其中 R14表示C3-C6環烷基。 關於式(I)化合物所定義之X、G4、G5、G6、Y4、Y5、 Y6及q之較佳定義亦適用於式(π)化合物。 R 5 較佳表示- onh2、-〇-so2-R16 、 三氣乙醮亞胺酉旨基 或鹵素。 R15較佳表示-ONH2、甲苯磺酸酯基、甲磺酸酯基、三 氣甲續酸酯基或三氣乙醯亞胺酯基。 在另一態樣中,本發明提供一種式(ΠΙ)化合物,
其中X’表示基團χ,_ 1 或χ'_3中之一者: #—Ζ—# X'-1 #-Z8—z9—# #—Z1LZ2ZH_# X'-2 X.-3 z z 及ζ14係如式(ι)化合物所定 » Ώ 18 . 一 只1 7 不^ 工、V上J IU 口 4々尸汀我, 美及广彼此獨立地表示氫、函素、Cl-C4燒基、C!-C4 至5他苯基或⑶’其中苯基視情況經一或多個,例如1 遠自下之基團取代:_素、CN、Ci_c4烷基、 45 201211005 C^-C4鹵烷基、Ci-C4烷氧基及(VC4鹵烷氧基;及 G4、G5、G6、Y4、Y5、Y6及q係如本文所述之式⑴化 合物所定義,或其鹽或N-氧化物。 在式(III)化合物之一個群組中,γ4、γ5或Y6中之至少 一者表示嘧啶基、CpCs鹵烷硫基、Cl_c8鹵烷基亞磺醯基 或C1 -cs鹵烷基磺醯基’其中該嘧啶基視情況經一或多個獨 立地選自以下之基團取代:鹵素、CN、NH2、N〇2、OH、 C「C4烷基、C「C4鹵烷基、Cl-c4烷氧基、CVC4鹵烷氧基、 C1-C4烷硫基、Ci-C4烷基亞磺醯基及Cl_c4炫基磺醯基。 在式(III)化合物之另—群組中,G6表示n(R14),其中 R14表示C3-C6環烷基。 R17及R18較佳彼此獨立地表示氫、鹵素、Cl-c4烷基、 Ci-CU鹵烷基、苯基或CN,其中該苯基視情況經一或多個 獨立地選自以下之基團取代:鹵素、CN、甲基、鹵甲基、 甲氧基及幽曱氧基。 關於上文式(I)化合物所定義之z5、z8、z9、z12、zi3、 Z14、G4、G5、G6、Y4、γ5、 Υό及q之較佳定義亦適用於式 (III)化合物。 X'較佳表示X' -1。 在另一態樣中,本發明提供一種式(IV)化合物,
46 201211005 ' 其中G4、G5、G6、Υ4、Υ5、Y6及q係如式(I)化合物所 定義,其限制條件為: 若 q 為 1 且 G4、G5、G6 為-CH2-,貝ij Υ4、Y5 及 Y6 不全 為Η ; 若 q 為 1,G4、G5、G6 為-CH2-且 Υ5 及 Υ6 為 Η,貝|J Υ4 不為甲氧基; 若 q 為 1,G4、G5、G6 為 CH2-且 Y4 及 Y6 為 Η,貝ij Y5 0 不為曱基; 若 q 為 1,G4、G5 為-CH2-且 Υ4、Y5 及 Y6 為 Η,貝G6 不為Ο ; 若q為1,G4及G5 —起形成CH=CH,Υ4、Y5及Y6為 Η,貝|J G6 不為 C(CHC12)(CH3); 若 q 為 2 且 G4、G5、G6 為-CH2-,貝|J Υ6、Y7 及 Y8 不全 為Η ; 若q為0,G6為-CH2-且Υ6、Υ7及Υ8為Η,貝ij G5不為 〇 CH(CH2CH3); 或其鹽或N-氧化物。 Y4較佳表示鹵素、CN、N02、Ci-Cs烷基、CVC4烷氧 基-CVC4烷基、CVC4烷氧基-CVC4烷氧基-CVC4烷基、c3-c8 環烷基、c2-c8烯基、c2-c8炔基、苯基、吡啶基、嘧啶基、 COR9、OR10'、SH、Ci-Cs 烷硫基、Ci-Cs 烷基亞磺醯基、Ci-Cg 烷基磺醯基、N(R")2、C02r1q、0(C0)R9、CON(Rn)2、 NRnCOR9或CR9N-OR10,其中該烷基、環烷基、烯基、炔 基、苯基、嘧啶基及吡啶基視情況經一或多個獨立選自以 47 201211005 下之基團取代:鹵素、CN、NH2、N02、OH、C丨-C4炫基、 CVC4鹵烷基、Cl_C4烷氧基、Ci_C4鹵烷氧基、Ci_C4烷硫 基、C,-C4烷基亞磺醯基及Cl-c4烷基磺醯基。 Y更佳表示Ci_C8烧基、C2-Cs烧氧基、C3-C8環烧基、 N(Rn)2、苯基、吡啶基、嘧啶基、Cl-C8烷硫基、c丨-C8燒 基亞續醯基、CVQ烷基磺醯基、CVCs鹵烷硫基、齒 烧基亞續醒基或Cl_C8鹵烷基磺醯基,其中該烷基、環燒 基 本基、哺α定基及β比咬基視情況經一或多個獨立地選自 以下之基團取代:鹵素、CN、ΝΗ2、Ν02、OH、C丨-C4烷基、 CVC4鹵烧基、Cl-c4烧氧基、CVC4鹵烧氧基、Cd貌硫 基、CrC4烷基亞磺醯基及Cl-c4烷基磺醯基。 Y甚至更佳表不C1-C4烧基、Ci_C4_^基、〇Η、(^2、〇4 院氧基、C^C4鹵烷氧基 '苯基或π比啶基,其中該苯基及0比 °定基視情況經一或多個獨立地選自以下之基團取代:齒 素、CN、NH2、N02、OH、CVC4 烧基、CVC4 鹵院基、Ci_c4 烧氧基及Crq鹵烷氧基。 R1()l表示氫、C2_C8烷基、c3-c8環烷基、CVC8烤基、 C3_(:8炔基、苄基、苯基或11比啶基,其中該烷基、環烧基、 烯基、块基、苯基及吡啶基視情況經一或多個獨立地選自 以下之基團取代:鹵素、CN、NH2、N〇2、OH、CrQ院基、 C1-C4齒烧基、Cl_c4烷氧基、Cl-C4鹵烷氧基及Cl_c4烷氧 基-Crh烷基。 在式(IV)化合物之另一群組中,γ4、Y5或Y6中之至少 —者表示嘧啶基、Cl-C8鹵烷硫基、Ci-C:8鹵烷基亞續醯基 48 201211005 或C^-Cs鹵烷基磺醯基,其中該嘧啶基視情況經一或多個獨 立地選自以下之基團取代:鹵素、cn、nh2、no2、cm、 Cl-C4烷基、Cl-C4 _烷基、CVC4烷氧基、CVC4鹵烷氧基、 Cl_C4烷硫基、C1-C4烷基亞磺醯基及烷基磺醯基。 在式(IV)化合物之另一群組中,G6表示N(Rl4),其中 R14表示C3_C6環烷基或其鹽或N-氧化物。 G3、G5'沪、γ4、γ5、,及9之較佳定義係如上文關 於式⑴化合物所定義,亦適用於式(IV)化合物。 【實施方式] 在另一態樣中’本發明提供一種式⑴化合物之製備方 法,其包含如流程Α中所示使式(lib)化合物與式(V)化合物 反應:
流程A
Y4 Vs (I) 其中R15表示幽素、-〇_s〇2_Ri6或三氯乙醯亞胺酯基; R16表示Ci-C4烷基、c^c:4鹵烷基或苯基,其中該苯基 視情況經一或兩個獨立地選自以下之取代基取代:甲基、 三鹵甲基、N02、CN、C丨-c7烷氧羰基;及 〇 X、G丨、G2、G3、G4、G5、G6、Y1、Y2、Y3、γ4、γ5、 Υ6、Ρ及q係如式(I)化合物所定義。 49 201211005 上文關於式(I)化合物所定義之χ、G1、G2、G3、G4、 G5、(^、Υι、γ2、γ3、γ4、γ5、γ6、p 及 q 之較佳定義亦 適用於化合物(lib)及(V)。 在另一態樣中’本發明係關於一種式⑴化合物之製備 方法,其包含如流程B中所示使式(VIa)化合物與式(VIIa) 化合物反應產生式(Ila)化合物且使式⑴化合物與式(vnia) 化合物反應:
流程B
(|) 其中 X、G1、G2、G3、G4、G5、G6、γι、γ2、γ3、γ4、 Υ5、Υ6、ρ及q係如式⑴化合物所定義且其中(vna)係例如 以其自由形式使用或在諸如HC1、HBr、CH3COOH、草酸、 硫酸、對甲苯磺酸之一或多種酸存在下使用。酸之適合量 為例如催化里或可呈現為相對於化合物(VIIa)至多i或2或
2當量以上。上文關於式⑴化合物所定義之χ、Gl、G
G5 、 G6 、 γ1 、 γ2 、 γ3 Υ4、Υ5、γ6、P 及 q 之較 50 201211005 佳定義亦適用於式(Ila)、式(Via)、式(Vila)及式(Villa)化合 物。 在另一態樣中,本發明係關於一種式(I)化合物之製備 方法’其包含如流程C中所示使式(Via)化合物與式(Vina) 化合物及式(Vila)化合物反應:
流程C
Υ4 Υ5 ο γ1、γ2、γ3、γ 其中 X、G1、G2、G3、G4、G5、 、υ、ρ及q係如式(ι)化合物所定義且其中(VIIa)係例 自由形式使用或在諸如HC1、、cH3C00H、草酉 爪馱對甲苯磺酸之一或多種酸存在下使用。酸之適合 q如催化量或可呈現為相對於化合物(Vih)至多工或2 51 201211005 田里、上上文關於式(I)化合物所定義之x、g1、G2、 G3 、 G4 、 G5 、 G6 、 Yi 2 v3 v4 5 6 Y Y、Y、γ5、Y6、p 及 q 之較 佳定義亦適用於式(IIa)、/Λ,Τ、 L> U ia)、式(Via)、式(VIIa)及式(VIIIa)化合 物。 式⑴化合物可以不同幾何或光學異構體形式存在或呈 不同互艾異構形式。此等化合物可藉由熟去口(通常層析) 技術刀開且为冑’且所有比例之所有該等異構體及互變異 構體及其混合物以及同位素形式(諸如氣化化合物)均為 本發月之口ρ Λ。特別是,式⑴化合物之碳-氣雙鍵允許如 下所示四種順式/反式異構體⑴至(iv):
(H) ⑽ 本發明包括每一此等異構體。本發明可提供僅呈一種 此等異構體或呈一或多種異構體之任何比率混合物之式⑴ 化合物。較佳化合物為異構體⑴之彼等化合物。 同樣地’本發明亦包括本文所述令間物之相應異構 體,例如化合物(II)、(111)及(IV)。另外,在反應流程描述 一種幾何異構體之合成的情況下,該流程亦儘可能包括其 他幾何異構體的合成。舉例而言,上文所示流程A涵蓋以 52 201211005
表1至表24中之化合物說明式(I)化合物。 表X表示表1(當X為1)、表2(當X為2)、表3(當 X為3)、表4(當X為4)、表5(當X為5)、表6(當X 為6)、表7(當X為7)、表8(當X為8)、表9(當X為 9)、表10(當X為10)、表11(當X為11)、表12(當X 為12)、表13(當X為13)、表14(當X為14)、表15(當 X為15)、表16(當X為16)、表17(當X為17)、表18 53 201211005 (當X為18)、表19(當X為19)、表20 (當X為20)、表 21(當X為21)、表22(當X為22)、表23(當X為23)、 表24 (當X為24)。
表X
化合物 Y1 Y2 Y3 Y4 Y5 Y6 X.001 Η H H H fi H X.002 ch3 H H H H H X.003 CH2CH3 H H H H H X.004 OCH3 H H H H H X.005 OCH2CH3 H H H H H X.006 苯基 H H H H H X.007 3-F-苯基 H H H H H X.008 3,5-二氣-苯基 H H H H H X.009 OH H H H H H X.010 nh2 H H H H H X.011 NH(CH3) H H H H H X.012 N(CH3)2 H H H H H X.013 /^N H H H H H X.014 H ch3 H H H H X.015 ch3 ch3 H H H H X.016 CH2CH3 ch3 H H H X.017 OCH3 ch3 H H H H X.018 H H ch3 H H H X.019 ch3 H ch3 H H H X.020 CH2CH3 H ch3 H H H X.021 OCH3 H ch3 H H H X.022 NH(CH3) H ch3 H H H X.023 N(CH3)2 H ch3 H H H X.024 H ch3 ch3 H H H X.025 ch3 ch3 ch3 H H H X.026 CH2CH3 ch3 ch3 H H H X.027 OCH3 ch3 ch3 H H H X.028 H H ch3 ch3 H H X.029 ch3 H ch3 ch3 H H X.030 CH2CH3 H ch3 ch3 H H X.031 OCH3 H ch3 ch3 H H X.032 H H OCH3 H H H X.033 ch3 H OCH3 H H H X.034 CH2CH3 H OCH3 H H H X.035 OCH3 H OCH3 H H H X.036 NH(CH3) H OCH3 H H H 54 201211005
X.037 N(CH3)2 Η och3 Η H H X.038 Η Η ch3 Η H ch3 X.039 Η Η OCH3 Η H OCH3 X.040 Η ch3 Η Η ch3 H X.041 Η OCH3 Η Η och3 H X.042 Η ch3 Η Η H ch3 X.043 Η OCH3 Η Η H OCH3 X.044 Η Η ch3 Η ch3 H X.045 Η Η OCH3 Η och3 H X.046 Η Η Η ch3 H H X.047 ch3 Η Η ch3 H H X.048 CH2CH3 Η Η ch3 H H X.049 CH(CH3)2 Η Η ch3 H H X.050 c(ch3)3 Η Η ch3 H H X.051 環丙基 Η ch3 H X.052 環己基 Η ch3 H H X.053 cf3 Η Η ch3 H H X.054 chf2 Η Η ch3 H H X.055 ch2f Η Η ch3 H H X.056 CC13 Η Η ch3 H H X.057 CHCli Η Η ch3 H H X.058 ch2cn Η Η ch3 H H X.059 CH20CH3 Η Η ch3 H H X.060 CH2SCH3 Η Η ch3 H H X.061 ch2so2ch3 Η Η ch3 H H X.062 CHO Η Η ch3 H H X.063 F Η Η ch3 H H X.064 Cl Η Η ch3 H H X.065 Br Η Η ch3 H H X.066 CN Η Η ch3 H H X.067 OH Η Η ch3 H H X.068 OCH3 Η Η ch3 H H X.069 OCH2CH3 Η Η ch3 H H X.070 OCH(CH3)2 Η Η ch3 H H X.071 och2ch2ch3 Η Η ch3 H H X.072 och2ch=ch2 Η Η ch3 H H X.073 och2ch^ CH Η Η ch3 H H X.074 OCHF2 Η Η ch3 H H X.075 O-環丙基 Η Η ch3 H H X.076 OCH2CH2OCH3 Η Η ch3 H H X.077 0-苯基 Η Η ch3 H H X.078 0-4-C1-苯基 Η Η ch3 H H X.079 0-3-CH3-苯基 Η Η ch3 H H X.080 0-2,4-二氯-苯 基 Η Η ch3 H H X.081 ◦-3-CN-苯基 Η Η ch3 H H 55 201211005
X.082 nh2 Η Η ch3 H H X.083 NH(CH3) Η Η ch3 H H X.084 N(CH3)2 Η Η ch3 H H X.085 N(CH2CH3)2 Η Η ch3 H H X.086 nhch2ch=ch2 Η Η ch3 H H X.087 #-N Η Η ch3 H H X.088 NHCOCH3 Η Η ch3 H H X.089 N(CH3)COCH3 Η Η ch3 H k X.090 n(coch3)2 Η Η ch3 H H X.091 NHC0CHC12 Η Η ch3 H H X.092 S-CH3 Η Η ch3 H u X.093 S-CH2CH3 Η Η ch3 H H X.094 SO-CH3 Η Η ch3 ii \h. X.095 S02-CH3 Η Η ch3 H H X.096 S-CHF2 Η Η ch3 H H X.097 苯基 Η Η ch3 H H X.098 2-CH3-苯基 Η Η ch3 H H X.099 4-CH3-苯基 Η Η ch3 H H X.100 2,4-二甲基苯 基 Η Η ch3 H H X.101 2-F-苯基 Η Η ch3 H H X.102 3,5-二敗-苯基 Η Η ch3 H H X.103 2,6-二氯-苯基 Η Η ch3 H H X.104 4-α-苯基 Η Η ch3 H H X.105 2,4-二氯-苯基 Η Η ch3 H H X.106 3-CN-苯基 Η Η ch3 H H X.107 3-OCH3-苯基 Η Η ch3 H H X.108 4-OCH3-苯基 Η Η ch3 H H X.109 。比〇定-2-基 Η Η ch3 H H X.110 6-CH3- 0比 °定-2-基 Η Η ch3 H H X.lll 4,6-二甲基-吡 0定-2-基 Η Η ch3 H H X.112 6-Br- 口比 口定-2-基 Η Η ch3 H H X.113 6-OCH3-Dttin^.-2- 基 Η Η ch3 H H X.114 6-ch3-4-〇ch3- 口比°定-2-基 Η Η ch3 H H X.115 3,5-二氣-吡口定 -2-基 Η Η ch3 H H X.116 3,5 - °比°定-2 -基 Η Η ch3 H H X.117 6-CH3-4-Cl-吼 。定-3-基 Η Η ch3 H H 56 201211005
X.118 /=^N Η Η ch3 Η Η X.119 #—V Η Η ch3 Η Η X.120 k #-N Γ Η Η ch3 Η Η X.121 H Η Η Η Η Η X.122 ch3 Η Η ch3 Η Η X.123 CH2CH3 Η Η CH2CH3 Η Η X.124 CH(CH3)2 Η Η ch(ch3)2 Η Η X.125 c(ch3)3 Η Η c(ch3)3 η Η X.126 環丙基 μ Η 環丙基 Η Η X.127 環己基 Η Η 環己基 Η Η X.128 cf3 Η Η cf3 Η Η X.129 chf2 Η Η chf2 Η Η X.130 ch2f Η Η ch2f Η Η X.131 CC13 Η Η CC13 Η Η X.132. CHC12 Η η CHCb Η Η X.133 ch2cn Η Η ch2cn Η Η X.134 CH20CH3 Η Η CH20CH3 Η Η X.135 ch2sch3 Η Η ch2sch3 Η Η X.136 ch2so2ch3 Η Η CH2S02CH3 Η Η X.137 CHO Η Η CHO Η Η X.138 F Η Η F Η Η X.139 Cl Η Η Cl Η Η X.140 Br Η Η Br Η Η X.141 CN Η Η CN Η Η X.142 OH Η Η OH Η Η X.143 OCH3 Η Η OCH3 Η Η X.144 OCH2CH3 Η Η OCH2CH3 Η Η X.145 OCH(CH3)2 Η Η OCH(CH3)2 Η Η X.146 OCH2CH2CH3 Η Η OCH2CH2CH3 Η Η X.147 OCH2CH=CH2 Η Η och2ch=ch2 Η Η X.148 OCH2CHe CH Η Η OCH2CHeCH Η Η X.149 ochf2 Η Η ochf2 Η Η X.150 0-¾丙基 Η Η 0-環丙基 Η Η X.151 OCH2CH2OCH3 Η Η OCH2CH2OCH3 Η Η X.152 0-苯基 μ Η 0-苯基 Η μ X.153 0-4-C1-苯基 Η 0-4-C1-苯基 Η X.154 0-3-CH3-苯基 Η Η 0-3-CH3-苯基 Η Η X.155 〇-2,4-二氯-苯 基 Η Η 0-2,4-二氣-苯基 Η Η X.156 0-3-CN-苯基 Η Η 0-3-CN-苯基 Η Η 57 201211005 X.157 nh2 Η Η νη2 Η Η X.158 NH(CH3) Η Η NH(CH3) Η Η X.159 N(CH3)2 Η Η N(CH3)2 Η Η X.160 N(CH2CH3)2 Η Η N(CH2CH3)2 Η Η X.161 nhch2ch=ch2 Η Η nhch2ch=ch2 Η X.162 #-N V-1 Η Η #-N Η Η X.163 NHCOCH3 Η Η NHCOCH3 Η Η X.164 N(CH3)COCH3 Η Η N(CH3)COCH3 Η Η X.165 N(COCH3)2 μ Η n(coch3)2 Η Η X.166 NHCOCHC12 Η Η NHCOCHC12 Η Η X.167 S-CH3 Η Η S-CH3 Η Η X.168 S-CH2CH3 Η Η S-CH2CH3 Η Η X.169 SO-CH3 Η Η SO-CH3 Η Η X.170 S02-CH3 Η Η so2-ch3 Η Η X.171 S-CHF2 Η Η s-chf2 Η Η X.172 苯基 Η Η 苯基 μ Η X.173 2-CH3-苯基 μ Η 2-CH3-苯基 Η Η X.174 4-CH3-苯基 Η Η 4-CH3-苯基 Η Η X.175 2,4-二甲基-苯 基 Η Η 2,4-二甲基-苯基 Η Η X.176 2-F-苯基 Η Η 2-F-苯基 Η Η X.177 3,5-二氟-苯基 Η Η 3,5-二氟-苯基 Η Η X.178 2,6_二氟-苯基 Η Η 2,6-二氟_苯基 Η Η X.179 4-C1-苯基 Η Η 4-C1-苯基 Η Η X.180 2,4-二氣-苯基 Η Η 2,4-二氣-苯基 Η Η X.181 3-CN-苯基 Η Η 3-CN-苯基 Η Η X.182 3-OCH3-苯基 Η Η 3-OCH3-苯基 Η Η X.183 4-OCH3-苯基 Η Η 4-OCH3-苯基 Η Η X.184 吡啶-2-基 Η Η 0比〇定-2-基 Η Η X.185 6-CH3· 口比 口定-2- 基 Η Η 6-013-11比贫-2-基 Η Η X.186 4,6-二曱基-11比 啶-2-基 Η Η 4,6-二甲基-。比。定 -2-基 Η Η X.187 6-Br-atb^-2-基 Η Η 6-ΒΓ-σ 比口定-2-基· Η Η X.188 6-OCH3-°tb°^-2- 基 Η Η 6-OCH3-吡啶-2-基 Η Η X.189 6-CH3-4-OCH3-°比〇定-2-基 Η Η 6-CH3-4_OCH3-吡 。定-2-基 Η Η X.190 3,5-二氣-°比σ定 -2-基 Η Η 3,5-二氣-吼。定-2-基 Η Η X.191 3,5』比。定-2-基 Η Η 3,5-吡啶-2-基 Η Η X.192 6-CH3-4-Cl- D 比 啶-3-基 Η Η 6-CH3-4-Cl-。比啶 -3-基 Η Η 58 201211005
X.193 /^N #-N\^ H H /^N #— H H X.194 /^N #—V H H /^N #—V H H X.195 k #-N r H H #-令 H H X.196 ch3 H ch3 ch3 H H X.197 ch3 H CH2CH3 ch3 H H X.198 ch3 H CH(CH3)2 ch3 H H X.199 ch3 H c(ch3)3 ch3 H H X.200 ch3 H 環丙基 ch3 H H X.201 ch3 H 環己基 ch3 H k X.202 ch3 H cf3 ch3 H H X.203 ch3 H chf2 ch3 H P X.204 ch3 H ch2f ch3 H k X.205 ch3 H CC13 ch3 H H X.206 ch3 H CHC12 ch3 H H X.207 ch3 H ch2cn ch3 H H X.208 ch3 H CH20CH3 ch3 H H X.209 ch3 H CH2SCH3 ch3 H H X.210 ch3 H CH2S02CH3 ch3 H H X.211 ch3 H CHO ch3 H H X.212 ch3 H COOH ch3 H H X.213 ch3 H COOCH2CH3 ch3 H H X.214 ch3 H con(ch3)2 ch3 H H X.215 ch3 H F ch3 H H X.216 ch3 H Cl ch3 H H X.217 ch3 H Br ch3 H H X.218 ch3 H CN ch3 H H X.219 ch3 H OH ch3 H H X.220 ch3 H OCH3 ch3 H H X.221 ch3 H OCH2CH3 ch3 H H X.222 ch3 H OCH(CH3)2 ch3 H H X.223 ch3 H OCH2CH2CH 3 ch3 H H X.224 ch3 H OCHaCH-CH 2 ch3 H H X.225 ch3 H och2ch 三 CH ch3 H H X.226 ch3 H OCHF2 ch3 H H X.227 ch3 H 0-環丙基 ch3 H H X.228 ch3 H OCH2CH2OC h3 ch3 H H X.229 ch3 H 0-苯基 ch3 H H X.230 ch3 H 0-4-C1-苯基 ch3 H H 59 201211005
X.231 ch3 H 0-3-CH3-苯 基 ch3 H H X.232 ch3 H 0-2,4-二氣-苯基 ch3 H H X.233 ch3 H 0-3-CN-苯基 ch3 H H X.234 ch3 H nh2 ch3 H H X.235 ch3 H hh(ch3) ch3 H H X.236 ch3 H H(ch3)2 ch3 H H X.237 ch3 H n(ch2ch3)2 ch3 H H X.238 ch3 H nhch2ch=c h2 ch3 H H X.239 ch3 H #-N ch3 H H X.240 ch3 H NHCOCH3 ch3 H H X.241 ch3 H N(CH3)COC h3 ch3 H H X.242 ch3 H N(COCH3)2 ch3 H H X.243 ch3 H NHCOCHCb ch3 H H X.244 ch3 H S-CH3 ch3 H H X.245 ch3 H S-CH2CH3 ch3 H }i X.246 ch3 H SO-CH3 ch3 H H X.247 ch3 H S02-CH3 ch3 H H X.248 ch3 H S-CHF2 ch3 H H X.249 ch3 H 苯基 ch3 H H X.250 ch3 H 2-CH3-苯基 ch3 H H X.251 ch3 H 4-CH3-苯基 ch3 H H X.252 ch3 H 2,4-二曱基-苯基 ch3 H H X.253 ch3 2-F-苯基 ch3 H H X.254 ch3 H 3,5-二氟-苯 基 ch3 H H X.255 ch3 H 2,6-二氟-苯 基 ch3 H H X.256 ch3 H 4-C1-苯基 ch3 H H X.257 ch3 H 2,4-二氯-苯 基 ch3 H P X.258 ch3 H 3-CN-苯基 ch3 H H X.259 ch3 H 3-OCH3-苯基 ch3 H H X.260 ch3 H 4-OCH3-苯基 ch3 H H X.261 ch3 H °比0定-2-基 ch3 H H X.262 ch3 H 6-CH3- 0比 0定 -2-基 ch3 H H X.263 ch3 H 4,6-二甲基-0比π定-2·基 ch3 H H 60 201211005
X.264 ch3 H 6-Br- 0比 -2- 基 ch3 H H X.265 ch3 H 6-OCH3- 口比 口定 -2-基 ch3 H H X.266 ch3 H 6-CH3-4-OC 氏-吼11定-2-基 ch3 H H X.267 ch3 H 3,5-二氣-口比 。定-2-基 ch3 H H X.268 ch3 H 3,5-口比淀-2-基 ch3 H H X.269 ch3 H 6-CH3-4-Cl- 。比淀-3-基 ch3 H H X.270 ch3 H /^N ch3 H H X.271 ch3 H /^N 卜V ch3 H H X.272 ch3 H k #-N Γ ch3 H H X.273 CH3 ϊί ch3 ch3 H ch3 X.274 ch3 H CH2CH3 ch3 H CH2CH3 X.275 ch3 H ch(ch3)2 ch3 H CH(CH3)2 X.276 ch3 H c(ch3)3 ch3 H C(CH3)3 X.277 ch3 H 環丙基 ch3 H 環丙基 X.278 ch3 H 環己基 ch3 H 環己基 X.279 ch3 H cf3 ch3 H cf3 X.280 ch3 H chf2 ch3 H chf2 X.281 ch3 H ch2f ch3 H ch2f X.282 ch3 H CC13 ch3 H CC13 X.283 ch3 H CHCb ch3 H CHC12 X.284 ch3 H ch2cn ch3 H ch2cn X.285 ch3 H CH20CH3 ch3 H ch2och3 X.286 ch3 H CH2SCH3 ch3 H CH2SCH3 X.287 ch3 H ch2so2ch3 ch3 H CH2S02CH3 X.288 ch3 CHO ch3 CHO X.289 ch3 H COOH ch3 H COOH X.290 ch3 H COOCH2CH3 ch3 H COOCH2CH3 X.291 ch3 H con(ch3)2 ch3 H con(ch3)2 X.292 ch3 H F ch3 H F X.293 ch3 H Cl ch3 H Cl X.294 ch3 H Br ch3 H Br X.295 ch3 H CN ch3 H CN X.296 ch3 H OH ch3 H OH X.297 ch3 H OCH3 ch3 H 〇CH3 X.298 ch3 H OCH2CH3 ch3 H OCH2CH3 X.299 ch3 H OCH(CH3)2 ch3 H och(ch3)2 61 201211005 X.300 ch3 H OCH2CH2CH 3 ch3 H OCH2CH2CH3 X.301 ch3 H och2ch=ch 2 ch3 H OCH2CH=CH2 X.302 ch3 H OCH2CH Ξ CH ch3 H och2ch^ch X.303 ch3 H ochf2 ch3 H OCHF2 X.304 ch3 H 0-環丙基 ch3 H 0-環丙基 X.305 ch3 H OCH2CH2OC h3 ch3 H och2ch2och3 X.306 ch3 H 0-苯基 ch3 H 0-苯基 X.307 ch3 H 0-4-C1-苯基 ch3 H 0-4-C1-苯基 X.308 ch3 H 0_3-CH3-苯 基 ch3 H 0-3-CH3-苯基 X.309 ch3 H 0-2,4-二氯-苯基 ch3 H 0-2,4-二氣-苯 基 X.310 ch3 H 0-3-CN-苯基 ch3 H 0-3-CN-苯基 X.311 ch3 H nh2 ch3 H nh2 X.312 ch3 H NH(CH3) ch3 H NH(CH3) X.313 ch3 H N(CH3)2 ch3 H N(CH3)2 X.314 ch3 H n(ch2ch3)2 ch3 H N(CH2CH3)2 X.315 ch3 H nhch2ch=c h2 ch3 H nhch2ch=ch2 X.316 ch3 H /^1 #-N V-1 ch3 H #-N X.317 ch3 H NHCOCH3 ch3 H NHCOCH3 X.318 ch3 H N(CH3)COC h3 ch3 H N(CH3)COCH3 X.319 ch3 H N(COCH3)2 ch3 H n(coch3)2 X.320 ch3 H NHCOCHC12 ch3 H NHCOCHC12 X.321 ch3 H S-CH3 ch3 H S-CH3 X.322 ch3 H s-ch2ch3 ch3 H S-CH2CH3 X.323 ch3 H SO-CH3 ch3 H S0-CH3 X.324 ch3 H S02-CH3 ch3 H S〇2*CH3 X.325 ch3 H S-CHF2 ch3 H S-CHF2 X.326 ch3 H 苯基 ch3 H 苯基 X.327 ch3 H 2-CH3-苯基 ch3 H 2-CH3-苯基 X.328 ch3 H 4-CH3-苯基 ch3 H 4-CH3-苯基 X.329 ch3 H 2,4-二甲基-苯基 ch3 H 2,4-二甲基-苯 基 X.330 ch3 H 2-F-苯基 ch3 H 2-F-苯基 X.331 ch3 H 3,5-二氣-苯 基 ch3 H 3,5-二氟-苯基 X.332 ch3 H 2,6-二氟-苯 基 ch3 H 2,6-二氣-苯基 X.333 ch3 H 4-α-苯基 ch3 H 4-C1-苯基 62 201211005
X.334 ch3 H 2,4-二氣-苯 基 ch3 H 2,4-二氣-苯基 X.335 ch3 H 3-CN-苯基 ch3 H 3-CN-苯基 X.336 ch3 H 3-OCH3-苯基 ch3 H 3-OCHr苯基 X.337 ch3 H 4-OCH3-苯基 ch3 H 4-OCH3-苯基 X.338 ch3 H 。比°定-2-基 ch3 H °比唆-2-基 X.339 ch3 H 6-CH3- 口比咬 -2-基 ch3 H 6-CH3·11 比淀-2-基 X.340 ch3 H 4,6-二甲基-11比。定-2-基 ch3 H 4,6-二曱基-吼 咬-2-基 X.341 ch3 H 6-Br- °比。定-2- 基 ch3 H X.342 ch3 H 6-OCH3- ° 比嗔 -2-基 ch3 H 6-OCH3_afcCT定-2-基 X.343 ch3 H 6-CH3-4-OC 1^3-。比唆-2-基 ch3 H 6-ch3-4-〇ch3- 吼11 定-2-基 X.344 ch3 H 3,5-二氯-°比 °定-2-基 ch3 H 3,5-二氯·吡啶 -2-基 X.345 ch3 H 3,5-σΛσ定-2-基 ch3 H 3,5·°比咬-2-基 X.346 ch3 H 6-CH3-4-Cl- °比淀-3-基 ch3 H 6-CH3-4-Cl-吡 咬-3-基 X.347 ch3 H /^N #—Vi ch3 H /^N #—Vi X.348 ch3 H /^N #—V ch3 H #-V X.349 ch3 H k #-N r ch3 H k #-N r X.350 CH2CH3 H ch3 ch3 H H X.351 環丙基 H ch3 ch3 H H X.352 cf3 H ch3 ch3 H H X.353 ch2f H ch3 ch3 H H X.354 chf2 H ch3 ch3 H H X.355 Cl H ch3 ch3 H H X.356 OCH3 H ch3 ch3 H H X.357 OCH2CH3 H ch3 ch3 H H X.358 nh2 H ch3 ch3 H H X.359 NH(CH3) H ch3 ch3 H H X.360 N(CH3)2 H ch3 ch3 H H X.361 NHCOCH3 H ch3 ch3 H H X.362 sch3 H ch3 ch3 H H X.363 schf2 H ch3 ch3 H H X.364 苯基 H ch3 ch3 H H X.365 2-CH3-苯基 H ch3 ch3 H μ 63 201211005 X.366 4-CH3-苯基 Η ch3 ch3 Η Η X.367 2,4-二曱基-苯 基 Η ch3 ch3 Η Η X.368 2-F-苯基 Η ch3 ch3 Η Η X.369 3,5-二鼠-苯基 Η ch3 ch3 Η Η X.370 2,6-二氟-苯基 Η ch3 ch3 Η Η X.371 4-C1-苯基 Η ch3 ch3 Η Η X.372 2,4-二鼠-苯基 Η ch3 ch3 Η Η X.373 3-CN-苯基 Η ch3 ch3 Η Η X.374 3-OCH3-苯基 Η ch3 ch3 Η e X.375 4-OCH3-苯基 Η ch3 ch3 Η Η X.376 ϋ比喘-2-基 Η ch3 ch3 Η Η X.377 6-CH3- °比 0定-2-基 Η ch3 ch3 Η Η X.378 4,6-二曱基-0比 。定-2-基 Η ch3 ch3 Η Η X.379 6-ΒΓ-σΛ°$;-2·基 Η ch3 ch3 Η Η X.380 基 Η ch3 ch3 Η Η X.381 6-ch3-4-〇ch3- 。比°定-2-基 Η ch3 ch3 Η Η X.382 /^Ν Η ch3 ch3 Η Η X.383 /^Ν #—V Η ch3 ch3 Η Η X.384 ch2ch3 Η ch3 CH2CH3 Η ch3 X.385 環丙基 Η ch3 環丙基 Η ch3 X.386 cf3 Η ch3 cf3 Η ch3 X.387 ch2f Η ch3 ch2f Η ch3 X.388 chf2 Η ch3 chf2 Η ch3 X.389 ch3 Η H Cl Η H X.390 Cl Η ch3 Cl Η ch3 X.391 OCH3 Η ch3 OCH3 Η ch3 X.392 OCH2CH3 Η ch3 OCH2CH3 Η ch3 X.393 nh2 Η ch3 nh2 1η ch3 X.394 NH(CH3) Η ch3 NH(CH3) Η ch3 X.395 N(CH3)2 Η ch3 N(CH3)2 Η ch3 X.396 NHCOCH3 Η ch3 NHCOCH3 Η ch3 X.397 sch3 Η ch3 sch3 Η ch3 X.398 SCHF2 Η ch3 schf2 Η ch3 X.399 苯基 Η ch3 苯基 Η ch3 X.400 2-CH3-苯基 Η ch3 2-CH3-苯基 Η ch3 X.401 4-CH3-苯基 Η ch3 4-CH3-苯基 Η ch3 X.402 2,4-二曱基-苯 基 Η ch3 2,4-二甲基-苯基 Η ch3 64 201211005
X.403 2-F-苯基 Η ch3 2-F-苯基 H ch3 X.404 3,5-二氟-苯基 Η ch3 3,5-二氟-苯基 H ch3 X.405 2,6-二氣-苯基 Η ch3 2,6-二氟-苯基 H ch3 X.406 4-C1-苯基 Η ch3 4-C1-苯基 H ch3 X.407 2,4-二氣-苯基 Η ch3 2,4-二氯-苯基 H ch3 X.408 3-CN-苯基 Η ch3 3-CN-苯基 H ch3 X.409 3-OCH3-苯基 Η ch3 3-OCH3-苯基 H ch3 X.410 4-OCH3-苯基 Η ch3 4-OCH3-苯基 H ch3 X.411 基 Η ch3 0比淀-2-基 H ch3 X.412 6-CH3· 0比 σ定-2-基 Η ch3 6-CH3_d 比咬-2-基 H ch3 X.413 4,6-二曱基-吡 °定-2·基 Η ch3 4,6-二甲基-°比啶 -2-基 H ch3 X.414 6-Br-atL°定-2-基 Η ch3 6-Br-ntba定-2-基 H ch3 X.415 6-OCHr 吡啶-2-基 Η ch3 6-OCH3-吡啶-2-基 H ch3 X.416 6-ch3-4-〇ch3- °比^^-2-基 Η ch3 6-CH3-4-OCH3-吼 °定-2-基 H ch3 X.417 /^N #- Η H /^N #—Vi H ch3 X.418 /^N #-V Η H /^N #—V H ch3 X.419 ch3 Η H OCH3 H H X.420 OCH3 Η H OCH3 H H X.421 OCH2CH3 Η H OCH3 H H X.422 sch3 Η H OCH3 H H X.423 schf2 Η H OCH3 H H X.424 n(ch3)2 Η H OCH3 H H X.425 /^N Η H OCH3 H H X.426 苯基 Η H OCH3 H H X.427 3-C1-苯基 Η H OCH3 H H X.428 3-CH3-苯基 Η H OCH3 H H X.429 3,5-二氟-苯基 Η H och3 H H X.430 。比嗔_2_基 Η H och3 H H X.431 6-CH3- °比啶-2-基 Η H OCH3 H H X.432 6-OCH3-afc°定-2-基 Η H OCH3 H H X.433 4,6-二甲基-吼 ϋ定-2-基 Η H OCH3 H H X.434 ch3 Η H ch3 H ch3 X.435 och3 Η H ch3 H ch3 X.436 OCH2CH3 Η H ch3 H ch3 65 201211005 X.437 sch3 Η Η ch3 H ch3 X.438 schf2 Η Η ch3 H ch3 X.439 n(ch3)2 Η Η ch3 H ch3 X.440 /^N #-N\^ Η Η ch3 H ch3 X.441 苯基 μ Η ch3 H ch3 X.442 3-C1-苯基 Η Η ch3 H ch3 X.443 3-CH3-苯基 Η Η ch3 H ch3 X.444 3,5-二氣-苯基 Η Η ch3 H ch3 X.445 〇比〇定-2-基 Η Η ch3 H ch3 X.446 6-CH3-11 比 σ定-2-基 Η Η ch3 H ch3 X.447 6-OCH3-° 比。定-2-基 Η Η ch3 H ch3 X.448 4,6-二甲基_ °比 。定_2_基 Η Η ch3 H ch3 X.449 ch3 Η Η ch3 H OCH3 X.450 och3 Η Η ch3 H 〇CH3 X.451 OCH2CH3 Η Η ch3 B OCH3 X.452 SCH3 Η Η ch3 H OCH3 X.453 SCHF2 Η Η ch3 H OCH3 X.454 n(ch3)2 Η Η ch3 H OCH3 X.455 /^N #-N\^ Η Η ch3 H OCH3 X.456 苯基 Η Η ch3 H 〇CH3 X.457 3-C1-苯基 Η Η ch3 H OCH3 X.458 3-CHr苯基 Η Η ch3 H OCH3 X.459 3,5-二氟-苯基 Η Η ch3 H OCH3 X.460 0比0定-2-基 Η Η ch3 H 〇CH3 X.461 6-CH3- 0比 σ定-2-基 Η Η ch3 H OCH3 X.462 6-OCH3-° 比喊-2- 基 Η Η ch3 H OCH3 X.463 4,6-二甲基-°比 口定-2-基 Η Η ch3 H OCH3 X.464 ch3 Η Η ch3 H sch3 X.465 och3 Η Η ch3 H sch3 X.466 OCH2CH3 Η Η ch3 H sch3 X.467 SCH3 Η Η ch3 H sch3 X.468 SCHF2 Η Η ch3 H sch3 X.469 N(CH3)2 Η Η ch3 H sch3 X.470 /^N #-N\^ Η Η ch3 H sch3 X.471 苯基 Η Η ch3 H sch3 X.472 3-C1-苯基 Η Η ch3 H sch3 66 201211005
X.473 3-CH3-苯基 H H ch3 H sch3 X.474 3,5-二氟-苯基 H H ch3 H sch3 X.475 吡啶-2-基 H H ch3 H sch3 X.476 6-CH3- °比 °定-2-基 H H ch3 H sch3 X.477 6-OCH3~0tbn^-2- 基 H H ch3 H sch3 X.478 4,6-二甲基-°比 淀-2-基 H H ch3 H sch3 X.479 ch3 H sch3 ch3 H H X.480 och3 sch3 ch3 H H X.481 SCH3 sch3 ch3 e H X.482 苯基 H sch3 ch3 H H X.483 3-CH3-苯基 H sch3 ch3 H H X.484 /^N #-Nv=J H sch3 ch3 H H X.485 ch3 H sch3 ch3 H ch3 X.486 och3 H sch3 ch3 H ch3 X.487 sch3 H sch3 ch3 H ch3 X.488 苯基 H sch3 ch3 H ch3 X.489 3-CH3-苯基 H sch3 ch3 H ch3 X.490 /^N #— H sch3 ch3 H ch3 X.491 ch3 H sch3 ch3 H OCH3 X.492 och3 H sch3 ch3 H OCH3 X.493 sch3 H sch3 ch3 H OCH3 X.494 苯基 H sch3 ch3 H OCH3 X.495 3-CH3-苯基 H sch3 ch3 H OCH3 X.496 /^N H sch3 ch3 H OCH3 X.497 ch3 H sch3 och3 H H X.498 och3 ΪΙ sch3 OCH3 H H X.499 sch3 H sch3 OCH3 H H X.500 苯基 H sch3 OCH3 H H X.501 3-CH3-苯基 H sch3 OCH3 H H X.502 /^N #—VJ H sch3 OCH3 H H X.503 ch3 H sch3 OCH3 H OCH3 X.504 och3 H sch3 OCH3 H OCH3 X.505 sch3 H sch3 OCH3 H OCH3 X.506 苯基 H sch3 OCH3 H OCH3 X.507 3-CH3-苯基 H sch3 OCH3 H 〇CH3 X.508 /^N H sch3 OCH3 H OCH3 67 201211005 X.509 ch3 H sch3 ch3 H sch3 X.510 OCH3 H sch3 ch3 H sch3 X.511 sch3 H sch3 ch3 H sch3 X.512 苯基 H sch3 ch3 H sch3 X.513 3-CH3-苯基 H sch3 ch3 H sch3 X.514 /^N #-N\^ H sch3 ch3 H sch3 X.515 ch3 H H ch3 H sch3 X.516 och3 H H ch3 H sch3 X.517 sch3 H H ch3 H sch3 X.518 苯基 H H ch3 H sch3 X.519 3-CH3-苯基 H H ch3 H sch3 X.520 /^N H H ch3 H sch3 X.521 ch3 H H sch3 H H X.522 och3 H H sch3 H H X.523 sch3 H H sch3 H H X.524 苯基 H H sch3 jH H X.525 3-CHr苯基 H H sch3 H H X.526 /^N H H sch3 H H X.527 ch3 H OCH3 ch3 H H X.528 och3 H 〇CH3 ch3 H μ X.529 sch3 H OCH3 ch3 H P X.530 苯基 H OCH3 ch3 H H X.531 3-CH3-苯基 H 〇CH3 ch3 H H X.532 /^N #—VJ H OCH3 ch3 H X.533 ch3 H OCH3 ch3 H ch3 X.534 och3 H OCH3 ch3 H ch3 X.535 sch3 H OCH3 ch3 H ch3 X.536 苯基 H OCH3 ch3 H ch3 X.537 3-CH3-苯基 H OCH3 ch3 H ch3 X.538 /^N #—VJ H OCH3 ch3 H ch3 X.539 ch3 H ch3 ch3 H H X.540 och3 H ch3 och3 H H X.541 sch3 H ch3 sch3 H H X.542 苯基 H ch3 苯基 H H X.543 3-CH3-苯基 H ch3 3-CH3-苯基 H H X.544 /^N H ch3 /^N #—N\^ H H X.545 ch3 H ch3 ch3 H ch3 X.546 och3 H ch3 och3 H ch3 X.547 sch3 H ch3 sch3 H ch3 X.548 苯基 H ch3 苯基 H ch3 68 201211005
X.549 3-CH3-苯基 H ch3 3-CH3-苯基 H ch3 X.550 /^N #_N^J H ch3 /^N H ch3 X.551 ch3 H ch3 ch3 H ch3 X.552 ch3 H OCH3 ch3 H OCH3 X.553 ch3 H sch3 ch3 H sch3 X.554 ch3 H 苯基 ch3 H 苯基 X.555 ch3 H 3-CH3-苯基 ch3 H 3-CHr苯基 X.556 ch3 H /^N ch3 H /=^N X.557 och3 H ch3 ch3 H ch3 X.558 OCH3 H och3 ch3 H och3 X.559 OCH3 H sch3 ch3 H sch3 X.560 OCH3 H 苯基 ch3 H 苯基 X.561 OCH3 H 3-CH3-苯基 ch3 H 3-CHr苯基 X.562 OCH3 H /=^N #_N\^ ch3 ti /^N X.563 OCH3 H ch3 och3 H ch3 X.564 OCH3 H och3 OCH3 H och3 X.565 OCH3 H sch3 OCH3 H sch3 X.566 OCH3 H 苯基 OCH3 H 苯基 X.567 OCH3 H 3-CH3-苯基 OCH3 H 3-CH3-苯基 X.568 OCH3 H /^N OCH3 H /^N X.569 sch3 H ch3 ch3 H H X.570 sch3 H och3 ch3 H H X.571 sch3 H sch3 ch3 H H X.572 sch3 H 苯基 ch3 H H X.573 sch3 H 3-CH3-苯基 ch3 H H X.574 sch3 H /^N ch3 H H X.575 sch3 H ch3 sch3 H ch3 X.576 sch3 H och3 sch3 H OCH3 X.577 sch3 H sch3 sch3 H sch3 X.578 sch3 H 苯基 sch3 H 苯基 X.579 sch3 H 3-CH3-苯基 sch3 H 3-CHr苯基 X.580 sch3 H /^N sch3 H X.581 ch3 OCH3 H ch3 H H X.582 och3 OCH3 H ch3 H H X.583 sch3 OCH3 fl ch3 ti H X.584 苯基 OCH3 H ch3 H H X.585 3-CH3-苯基 OCH3 H ch3 H H X.586 /^N OCH3 H ch3 H H X.587 ch3 OCH3 H ch3 OCH3 H 69 201211005 X.588 och3 〇CH3 H OCH3 〇ch3 H X.589 sch3 OCH3 H sch3 〇CH3 H X.590 苯基 OCH3 H 苯基 〇CH3 H X.591 3-CHr苯基 OCH3 H 3-CH3-苯基 〇CH3 H X.592 /^N OCH3 H #—VJ 〇CH3 H X.593 ch3 H H ch3 H H X.594 H ch3 U H ch3 H X.595 H H ch3 H Ή ch3 X.596 ch3 ch3 H ch3 ch3 P X.597 ch3 H ch3 ch3 H ch3 X.598 H ch3 ch3 H ch3 ch3 X.599 ch3 ch3 ch3 ch3 ch3 ch3 X.600 OCH3 H H OCH3 H X.601 H OCH3 H H OCH3 H X.602 H H OCH3 n OCH3 X.603 OCH3 OCH3 H OCH3 〇CH3 H X.604 OCH3 H OCH3 OCH3 H 〇CH3 X.605 k OCH3 OCH3 H 〇CH3 OCH3 X.606 ch3 OCH3 H ch3 〇CH3 P X.607 OCH3 ch3 H OCH3 ch3 H X.608 ch3 H OCH3 ch3 H 〇CH3 X.609 OCH3 H ch3 och3 H ch3 X.610 H ch3 OCH3 H ch3 OCH3 X.611 H OCH3 ch3 H 〇CH3 ch3 X.612 sch3 H ch3 sch3 H ch3 X.613 sch3 ch3 H sch3 ch3 H X.614 H H CH2OH ch3 H H X.615 H H CH2OH H H CH2OH X.616 H H CH2F H H ch2f X.617 CH2OCH3 H ch3 ch3 H H X.618 H H H CH=CH-CH=CH H X.619 ch3 H H CH=CH-CH=CH H X.620 ch3 H ch3 CH=CH-CH=CH H X.621 ch3 H CH2CH3 CH=CH-CH=CH H X.622 ch3 H OCH3 CH=CH-CH=CH H X.623 ch3 H OCH2CCH CH=CH-CH=CH H X.624 ch3 H Cl CH=CH-CH=CH H X.625 OCH3 H H CH=CH-CH=CH H X.626 OCH3 Cl H CH=CH-CH=CH H X.627 H H H CH=CH-CH=CH ch3 X.628 ch3 H H CH=CH-CH=CH ch3 X.629 ch3 H ch3 CH=CH-CH=CH ch3 X.630 ch3 H CH2CH3 CH=CH-CH=CH ch3 X.631 ch3 H OCH3 CH=CH-CH=CH ch3 X.632 ch3 H OCH2CCH CH=CH-CH=CH ch3 X.633 ch3 H Cl CH=CH-CH=CH ch3 X.634 OCH3 H H CH=CH-CH:CH ch3 X.635 〇CH3 Cl H CH=CH-CH=CH ch3 70 201211005
X.636 Η H H CH=CH-CH=CH OCH3 X.637 ch3 H H CH=CH-CH=CH OCH3 X.638 ch3 H ch3 CH=CH-CH-CH OCH3 X.639 ch3 H CH2CH3 CH=CH-CH=CH OCH3 X.640 ch3 H OCH3 CH=CH-CH=CH OCH3 X.641 ch3 H OCH2CCH CH=CH-CH=CH OCH3 X.642 ch3 H Cl CH=CH-CH=CH OCH3 X.643 OCHj H H CH=CH-CH=CH OCH3 X.644 OCH3 Cl H CH=CH-CH=CH OCH3 X.645 ch3 H H CH=CH-CH=CH 苯基 X.646 CH=CH-CH=CH H CH=CH-CH=CH H X.647 CH=CH-CH=CH H CH=CH-CH=CH ch3 X.648 CH=CH-CH=CH ch3 CH=CH-CH=CH ch3 X.649 CH=CH-CH=CH 苯基 CH=CH-CH=CH 苯基 X.650 H H CH2-CH2-CH2-CH2 H X.651 ch3 H H CH2-CH2-CH2-CH2 H X.652 ch3 H ch3 CH2-CH2-CH2-CH2 H X.653 ch3 H CH2CH3 CH=CH-CH=CH a X.654 ch3 H OCH3 CH2-CH2-CH2-CH2 H X.655 ch3 H OCH2CCH CH2-CH2-CH2-CH2 H X.656 ch3 U Cl CH2-CH2-CH2-CH2 H X.657 OCH3 H H CH2-CH2-CH2-CH2 H X.658 OCH3 Cl H CH2-CH2-CH2-CH2 H X.659 Cl Cl H CH2-CH2-CH2-CH2 H X.660 H H H CH2-CH2-CH2-CH2 ch3 X.661 ch3 H H CH2-CH2-CH2-CH2 ch3 X.662 ch3 H ch3 CH2-CH2-CH2-CH2 ch3 X.663 ch3 H CH2CH3 CH2-CH2-CH2-CH2 ch3 X.664 ch3 H OCH3 CH2-CH2-CH2-CH2 ch3 X.665 ch3 H OCH2CCH ch2-ch2-ch2-ch2 ch3 X.666 ch3 H Cl ch2-ch2-ch2-ch2 ch3 X.667 och3 H H ch2-ch2-ch2-ch2 ch3 X.668 OCH3 Cl H CH2-CH2-CH2-CH2 ch3 X.669 Cl Cl H CH2-CH2-CH2-CH2 ch3 X.670 H H H ch2-ch2-ch2-ch2 och3 X.671 ch3 H H CH2-CH2-CH2-CH2 OCH3 X.672 ch3 H ch3 CH2-CH2-CH2-CH2 OCH3 X.673 ch3 H CH2CH3 CH2-CH2-CH2-CH2 OCH3 X.674 ch3 H OCH3 ch2-ch2-ch2-ch2 OCH3 X.675 ch3 H OCH2CCH CH2-CH2-CH2-CH2 OCH3 X.676 ch3 H Cl CH2-CH2-CH2-CH2 OCH3 X.677 och3 H H ch2-ch2-ch2-ch2 OCH3 X.678 OCH3 Cl H CH2-CH2-CH2-CH2 OCH3 X.679 Cl Cl H CH2-CH2-CH2-CH2 och3 X.680 H H H CH2-CH2-CH2-CH2 Cl X.681 ch3 H H CH2-CH2-CH2-CH2 Cl X.682 ch3 p ch3 CH2-CH2-CH2-CH2 Cl X.683 ch3 H OCH3 CH2-CH2-CH2-CH2 Cl X.684 CH2-CH2-CH2-CH2 H CH2-CH2-CH2-CH2 H 71 201211005 Χ.685 CH2-CH2-CH2-CH2 ch3 ch2-ch2-ch2-ch2 H Χ.686 CH2-CH2-CH2-CH2 ch3 CH2-CH2-CH2-CH2 ch3 Χ.687 ch2-ch2-ch2-ch2 Cl CH2-CH2-CH2-CH2 H Χ.688 CH2-CH2-CH2-CH2 Cl ch2-ch2-ch2-ch2 ch3 Χ.689 CH2-CH2-CH2-CH2 Cl CH2-CH2-CH2-CH2 Cl Χ.690 CH2-CH2-CH2-CH2 OCH3 CH2-CH2-CH2-CH2 H Χ.691 CH2-CH2-CH2-CH2 OCH3 CH2-CH2-CH2-CH2 ch3 Χ.692 CH2-CH2-CH2-CH2 OCH3 CH2-CH2-CH2-CH2 och3 表1 :此表揭示式(Ι-I)之化合物1.001至1.692
其中Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及Y6具有表中所給出之特 定含義。 ’ 表2 :此表揭示式(I-II)之化合物2.001至2.692 其中 定含義。 表3
Y3 Υ6
Y4 Υ5 γ1、γ2、γ3、γ4、γ5及γ6具有表中所給出之特 :此表揭示式(Ι-ΙΙΙ)之化合物3_001至3.692 72 201211005
其中γ1、γ2、γ3、γ4、γ5及γ6具有表中所給出之特 定含義。 表4 :此表揭示式(I-IV)之化合物4.001至4.692
Ο 其中Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、Υ5及Υ6具有表中所給出之特 定含義。
表5 :此表揭示式(I-V)之化合物5.001至5.692
(I-V) 其中Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、Υ5及Υ6具有表中所給出之特 定含義。 73 201211005 表6 :此表揭示式(I-VI)之化合物6.001至6.692
(I-VI) 其中Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及Y6具有表中所給出之特 定含義。 表7 :此表揭示式(I-VII)之化合物7.001至7.692
丫6 其中Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、Υ5及Υ6具有表中所給出之特 定含義。 表8 :此表揭示式(I-VIII)之化合物8.001至8.692
丫 3 丫6 74 201211005 其中Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、Y5及Y6具有表中所給出之特 定含義。 表9 :此表揭示式(Ι-ΙΧ)之化合物9.001至9.692
CI
Υ3 Υ6 其中Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、Υ5及Υ6具有表中所給出之特 定含義。 表10 :此表揭示式(Ι-Χ)之化合物10.001至10.692
其中Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、Υ5及Υ6具有表中所給出之特 定含義。 表11 :此表揭示式(Ι-ΧΙ)之化合物11.001至11.692 75 201211005
其中Y1、Y2、γ3、γ4、γ5及γ6具有表中所給出之特 定含義。 表12 :此表揭示式(Ι-ΧΙΙ)之化合物12.001至12.692
Υ3 Υ6 其中Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、Υ5及Υ6具有表中所給出之特 定含義。 表13 :此表揭示式(Ι-ΧΙΙΙ)之化合物13.001至13.692
其中Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、Υ5及Υ6具有表中所給出之特 定含義。 表14 :此表揭示式(I-XIV)之化合物14.001至14.692 76 201211005
(l-XIV) 其中γ1、γ2、γ3、γ4、γ5及γ6具有表中所給出之特 定含義。 表15 :此表揭示式(I-XV)之化合物15.001至15.692
D 其中Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、Υ5及Υ6具有表中所給出之特 定含義。 表16 :此表揭示式(I-XVI)之化合物16.001至16.692
Y4 (i-xvi) Y5 其中γΐ、γ2、Υ3、γ4、γ5及γ6具有表中所給出之特 定含義。 77 201211005 表17 :此表揭示式(I-XVII)之化合物17.001至17.692 ΟΗ
其中Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、Υ5及Υ6具有表中所給出之特 定含義。 表18 :此表揭示式(I-XVIII)之化合物18.001至18.692
F
丫6 其中Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、Υ5及Υ6具有表中所給出之特 定含義。 表19 :此表揭示式(Ι-ΧΙΧ)之化合物19.001至19.692
其中Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、Υ5及Υ6具有表中所給出之特 78 201211005 ψ 定含義。 表20 :此表揭示式(Ι-XX)之化合物20.001至20.692
(Ι-ΧΧ) 其中Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、Υ5及Υ6具有表中所給出之特 定含義。 表21 :此表揭示式(Ι-ΧΧΙ)之化合物21.001至21.692
(Ι-ΧΧΙ) 其中Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、Υ5及Υ6具有表中所給出之特 定含義。 表22 :此表揭示式(Ι-ΧΧΙΙ)之化合物22.001至22.692
79 201211005 其中 Υ】、Y2、γ3、 4、γ5 具有表中所給出 定含義。 之特 〇〇1 至 23.692 表23 ·此表揭示式(Ι_χχΐΠ)之化合物
Yc (l-XXIII) 其中 γΐ、Y2 ' Y3、Y4、γ5 及 6 及Y具有表中所給出 定含義。 05之特 24-001 ^ 24.692 表24 :此表揭示式(Ι_χχιν)之化合物
(I-XXIV) 其中 Υ1、Υ2、Υ3、Υ4、γ5 定含義。 及丫具有表中所給出之特 表1至表24中之化合物包括所有異構體、互 及其混合物,其包括上文所示之順式/反式異構體。異構體 本發明化合物可藉由流裎1至流程7中所示之多蘇 法來製備。流程中所述之化合物亦指示任何異構體及二 異構體,特別是由肪及月亏喊部分產生之幾何異構體。- 80 201211005
i)如流程1所示,式⑴化合物可藉由使式(IIa)化合 物與式(VIII)化合物反應來製備’在式(IIa)化合物中x、G4、 ο G5、G6、q、Υ4、γ5及γ6係如本文式⑴化合物所定義,在 式(VIII)化合物中G1、G2、G3、p、Y1、Y2及γ3係如本文 式(I)化合物所定義,且Τ1及丁2為CVC8烷氧基,或τι及 T2連同其所連接之碳一起形成羰基或式亞烷基 -0)之縮醛或縮酮官能基’藉此亞烷基片段可視情況經Ci_C6 炫》基單取代至四取代。 下文給出縮合反應之一般說明且此類反應之典型反應 條件可見於 Journal of Organic Chemistry,52(22), 4978-84; 1987 ; Chemical & Pharmaceutical Bulletin, 51(2), 138-151; 2003 ; Organic Letters,10(2),285-288; 2008 ; Journal of the American Chemical Society, 130(12), 4196-4201; 2008 ; 81 201211005
Chemistry & Biology, 9( 1), 113-129; 2002 ; Organic
Preparations and Procedures International, 32(2), 153-159; 2000 ; Scientia Pharmaceutica, 66(1), 9-21; 1998 ; Journal of Medicinal Chemistry, 49(17), 5177-5186; 2006 ; Journal of Agricultural and Food Chemistry, 38(3), 839-44; 1990 ; Tetrahedron: Asymmetry, 8(2), 253-263; 1997 ; Journal of Medicinal Chemistry, 44(21), 3339-3342; 2001 ; Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 12(3), 341-344; 2002 ; US 2007032470 > WO 07/058504 ; Journal of Organic Chemistry, 73(5), 2007-2010; 2008 ; Bioorganic & Medicinal Chemistry
Letters, 19(10), 2683-2687; 2009;及 Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 19(10),2654-2660; 2009 中。 2) 式(Ha)之羥胺衍生物可藉由使式(VI)化合物與式 (VII)之雙羥胺衍生物反應來製備,在式(VI)化合物中g4、 G5、G6、q、Y4、Y5及γό係如本文式⑴化合物所定義,且 T及T為Ci-Cg烧氧基,或τ1及T2連同其所連接之碳一 起开> 成羰基或式(:(〇-(:!-C6亞烧基-〇)之縮酿或縮酮官能 基,藉此亞烧基片段可視情況經Cl-c6烷基單取代至四取 代,在式(VII)之雙羥胺衍生物中X係如本文式⑴化合物所 定義,且R及R20為氫或適合保護基,諸如第三丁氧基羰 基(BOC)、烯丙氧羰基、薙基曱氧基羰基(FM〇c)、甲醯 基、乙醯基、丙醯基、三氟乙醯基、苯曱醯基、經取代之 苯曱醯基、STABASE、Si(0-C 丨-C8 烷基)3、雙 Si(0_Cl_C8 烷基)3、雙苄基、經取代之雙苄基、雙烯丙基、經取代之雙 82 201211005 .烯丙基、雙Ci-Cs烷氧基-烷基、N_苯基亞甲基、經取代之 N-苯基亞甲基、三苯甲基、二苯甲基、經取代之二苯甲基, 或R及R0連同其所連接之氮原子一起可形成鄰苯二甲醯 基(流程1 )。下文可見此類縮合反應之一般條件。 §R及R為氫時,為使化合物(iia)之產率最佳,較 佳可使用比中間物(IV)過量之中間物(V)。若Ri9或R2〇不為 氫,則可使用熟習此項技術者熟知之技術使羥胺衍生物脫 ◎ 除保護基。實例可見於Greene,T. W.,Wuts,P. G. N.,
Protective Groups in Organic Synthesis, John Wiley & Sons 公司,2006 〇 雙經胺之單保護已描述於Tetrahedron (1997),53(15), 548 5-5492中。將瞭解,可以使用類似用以獲得單保護二胺 之方法以獲得單保護雙羥胺衍生物。此類反應之典型條件 可見於 Synthetic Communications (2007), 37(5),737-742 ; Organic Preparations and Procedures International (2009), 41(4), 301-307 ; Tetrahedron: Asymmetry (2003), 14(11), CJ · 1559-1 563 ; Bulletin of the Korean Chemical Society (1994), 15(12),1025-7 ; Synthesis (1990), (4), 366-8 ;及 Synthesis (1984),(12),1032-3 中。 雙羥胺衍生物在文獻中已知。其製備之描述可見於WO 08/074418 ; Inorganic Chemistry Communications (2009), 12(3), 234-236; WO 99/493 14; Synthesis (1997), (1), 38-40 ; 及 Gazzetta Chimica Italiana (1 954),84 915-20 中。 83 201211005 流程2
(VI)
〇、χ/〇、 (Vila) nh2
3)或者’如流程2所示,式⑴化合物可藉由在式(viia) 化合物(即及R20皆為氫之式(V⑴化合物)存在下使式 (iv)化合物與式(VIII)化合物反應來製備。式(νι)及式(viii) 之化合物係描述於流程1中。 縮合反應之典型反應條件參見下文,且此特定縮合反 應之典型條件參見以下參考文獻:Nature Chemical Biology, 5(6),407-413; 2009 ; Acta Crystallographica, Section E: Structure Reports Online, E65(7), 〇1657; 2009 ; Acta 84 201211005
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85 201211005 定義’在該式(V)化合物中G1、G2、G3、p、X1、Y2及Υ3 係如本文式(I)化合物所定義(流程3 )。 下文可見諸如此反應之烷基化反應之典型反應條件。 此等條件進一步示於 Chinese Journal of Chemistry, 27(1), 33-42; 2009 ; WO 09/049846 ; Journal of Antibiotics,61(10), 603-614; 2008 ; Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 18(24), 6471-6475; 2008 ; Journal of Medicinal Chemistry, 5 1 (15), 4601-4608; 2008 ; WO 06/123 145 ; Archiv der Pharmazie (Weinheim, Germany), 340(4), 202-208; 2007 ; Synthetic Communications, 37(7), 1 155-1 1 65; 2007 ; Russian Journal of Organic Chemistry, 42(5), 735-738; 2006 ;
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6) 式(IV)之肟可藉由縮合反應獲得,藉此式(VI)化合 物與羥胺或替代地與羥胺之鹽反應,在式(VI)化合物中G4、 (\ 5 ^ G,G、q、γ4、γ5及γ6係如本文式⑴化合物所定義且τ1 及T2為C^-C8烷氧基,或T1及T2連同其所連接之碳一起形 成.基或式(^(O-C^-C6亞烧基-〇)之縮經或縮酮官能基,藉 此亞烧基片段可視情況經C ! - c 6烧基單取代至四取代。可使 用類似條件由式(VIII)化合物獲得式(V)之肟。下文給出縮合 製程之更詳細說明。 相關參考文獻包括以下:Journal of Heterocyclic Chemistry, 46(1), 116-118; 2009 ; Journal 〇f Medicinal 87 201211005
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88 201211005
89 201211005
流程5 H〇、n
(XIV)
Y (IV) 7)或者,如流程5所示,式(ΐν)之肟可藉由式(χιν) 化合物與驗及亞硝酸烧基酯之亞硝化反應獲得,在式(χιν) 化合物中G4、G5、G6、q、γ4、γ6係如本文式⑴化合 物所定義。典型鹼包括二異丙基胺基鋰(LDA )、六甲基二 丞规、苐三丁基鋰 矽氮烷鋰、正丁基鋰、第二 酸納或第三丁酸卸。典划巧瑞酿p A, 八i兑邮k坑基酯包括亞硝酸異戊酯 及亞石肖酸第二丁酿。可你用尤ρη «j . ΑΛ. j使用不同化學計算量之式(XIV)化合 物、亞石肖酸烧基醋或驗,並中久—十添 八τ谷忒劑可相對於其他過量。 該專反應較佳在非水性條株下太4 r條件下在遠如己烧、庚烧、環己烧、 90 201211005 •甲苯或醚(諸如THF或第三丁基曱醚)之惰性溶劑中進行。 反應可在-8(TC至25〇t之溫度範圍内,較佳在_5〇。〇與12〇。〇 之間進行。可使用類似條件製備式(X)之肟。 該等反應可產生E-肟(醚)與Z-肟(醚)產物之混合 物’或該產物亦可獨佔地為£_肟(醚)或Z-肟(醚)。 大量此等類型之轉化反應在此項技術中已知。此類反 應之典型反應條件可見於Crawford,Jason B.; Chen, Gang;
Gauthier, David; Wilson, Trevor; Carpenter, Bryon; Baird 〇 T
Ian R.; McEachern, Ernie; Kaller, Alan; Harwig, Curtis; Atsma,Bern; Skerlj,Renato T·; Bridger, Gary J·,Organic Process Research & Development (2008), 12(5), 823-830 ;
McEachern, E. J.; Yang, W.; Chen, G.; Skerlj, R. T.; Bridger, G. J., Synthetic Communications (2003), 33(20), 3497-350 » 及 Bark, Thomas; Thummel, Randolph P·, Inorganic Chemistry (2005),44(24),8733-8739 中。 o 91 201211005
8) 式(I)化合物之替代路徑不於流程6中。如在流程3 中,式⑴化合物藉由使式(lib)化合物與式(V)化合物進行如 烷基化反應之反應獲得。下文描述此類反應之典型條件。 9) 如流程6所示,化合物(lib)可由R15為鹵素之式 (XII)之羥胺衍生物與式(VI)化合物反應來形成。上文描述式 (VI)化合物。 下文可見此類縮合反應之典型反應條件,且進一步示 於 Angewandte Chemie,International Edition (2006),45(32), 5307-5311 中。 92 201211005 10)式(XII)化合物可藉由用烷基化劑將式(χι)之羥 胺衍生物烷基化來製備,在式(ΧΙ)之羥胺衍生物中R22及R23 彼此獨立地或彼此連同其所連接之氮原子一起為保護基, 諸如第三丁氧数基、乙醯基、苄基或鄰苯二甲醢基,在烷 基化劑(X)中R15為鹵素且R21為鹵素、特別是氣、溴或碘、 磺酸酯基或三氣乙醯亞胺酯基(流程6)。下文可見該烷基 化反應之典型條件。接著可使用熟習此項技術者熟知之技 術移除保護基’其實例可見於Greene,T. W.,Wuts, P. G. N.,
Protective Groups in Organic Synthesis, John Wiley & Sons, Inc, 2006 中0 流程7
(la) 11)式(la)化合物,即 g]、G2、G3、G4、G5、G6、γΐ、 93 201211005 Υ、Υ、Υ4、γ5、γ ΧΜ、Χ,-2 或 Χ,_3 、Ρ及q係如本文式(I)所定義 X,表示 *~~Z5—# #— X’-1 χ·-2
、Ζ13及Ζ14係如式(I)化合物所定 其中 Ζ5、Ζ8、Ζ9、Ζ12 義,且R及R18彼此獨立地表示氫、鹵素、Ci_C4烷基、 匕-(:4 _烷基、苯基或CN,其中苯基視情況經一或多個, 例如1至5個獨立地選自以下之基團取代:鹵素、 烷基、eve:4鹵烷基、Cl_C4烷氧基及C「C4鹵烷氧基,可藉 由使式(III)化合物與式(V)化合物反應來製備,在式(m)化 合物中G4、G5、G6、Y4、Y5、Y6及q係如本文式⑴化合物 所疋義且R及R18彼此獨立地表示氫、鹵素、烧基、 Cj-C4鹵烧基、苯基或CN,其中苯基視情況經一或多個, 例如1至5個獨立地選自以下之基團取代:鹵素、CN、c】_c4 烷基、Κ4鹵烷基、q-C4烷氧基及CVC4鹵烷氧基,式(v) 化合物係如本文所述。 下文描述諸如此反應之烷基化作用之典型條件,且進 步示於 Synthesis, (13),2055-2064; 2008 ; Russian Journal of Organic Chemistry, 4 3(2), 1 8 1 -1 8 3 ; 200 7 ; Russian Journal of Organic Chemistry 43(3),449-453; 2007 ;及 Journal of Molecular Catalysis B: Enzymatic, 1 1(4-6), 255-263; 2001 中。 式(la)化合物尤其適用作許多其他化合物之中間物,其 中由打開環氧化物所形成之羥基轉化成其他官能基,例如 94 201211005 , 羰基、氟或氣。該等轉化反應可使用熟習此項技術者熟知 之許多條件實現。 I2)式(III)化合物可藉由用式(XIII)2環氧化物將式 (IV)之將烧基化來獲得,在式(XIV)之環氧化物t X,、R17 及R18係如上文式(III)化合物所定義且r24為鹵素。以下更 詳細描述該等烷基化製程。 相關參考文獻包括以下:Synthetic Communications, 37(7), 1 155-1 165; 2007 ; Molecules, 10(7), 747-754; 2005 ; Molecules, 10(1 1), 1399-1408; 2005 ; European Journal of Medicinal Chemistry, 40(12), 1351-1358; 2005 ; Organic Preparations and Procedures International, 30(2), 195-202; 1998 , WO 08/074418 ;及 Journal fuer Praktische
Chemie/Chemiker-Zeitung (1993),335(7),623-7。 大量式(XIII )化合物可購得或其製備可見於文獻中。 可購得之化合物(XIII)包括表氣醇、2(S)-表氯醇、2(R)-表氯 醇、2-甲基-表氯醇、表溴醇。
CJ 縮合反應之典型條件: 此條件適用於程序1、2、3、6及9。 視反應物及產物之特性而定,此等反應可使用不同化 學計算之設置。可選擇過量親電子試劑、親核試劑或等莫 耳量親電子試劑、親核試劑。較佳使用等莫耳量之親電子 及親核化合物。 可在惰性有機或無機溶劑存在或不存在下或在該等溶 劑之混合物存在下進行反應。較佳在一或多種溶劑存在下 95 201211005 進打。較佳溶劑包括以下脂族或芳族煙,其可視情況每— 或多個自素原子取代,諸如戊烧、己貌、庚烧、環己&、 =油醚1、甲苯、二甲苯、氣苯、二氯苯、二氯甲貌、 氯 —氣乙烧或四亂化碳,鍵,諸如二乙醚、二異丙 醚、第三丁基曱醚、四氫呋喃、二噁烷、二曱氧基乙烷 或二乙二醇二曱醚;酮,諸如丙_、甲基乙基酮、曱基異 丙酮或曱基異丁酮;酸及酯,諸如乙酸、乙酸乙酯或乙酸 曱酯,非質子性極性溶劑,諸如乙腈、丙腈、二甲基甲醯 胺、二甲基乙醯胺、N-甲基-吡咯啶酮、二曱亞砜、環丁颯、 DMPU或吡啶及甲基吡啶。溶劑之選擇包括水及醇,諸如曱 醇、乙醇、丙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇、第三丁醇、戊 醇、異戊醇、己醇、三氟乙醇、乙二醇或甲氧基乙醇。 可在-2(TC至250°C,較佳在0°C至lOOt進行反應。在 一些情況下,可加熱反應混合物至回流。 適當時’化合物可以自由化合物形式使用,或者其可 以鹽之形式使用’諸如乙酸鹽、三氟乙酸鹽、丙酸鹽、苯 曱酸鹽、草酸鹽、曱基磺酸鹽、苯基磺酸鹽、對甲苯磺酸 鹽、二氟甲基續酸鹽、氟化物、氯化物、溴化物、蛾化物、 硫酸鹽 '硫酸氫鹽或硝酸鹽,若適宜包括雙鹽。 可無酸存在下使用自由化合物進行反應。或者,可在 催化量、化學計算量或過量之酸存在下進行反應。可使用 之酸包括乙酸、丙酸 '草酸、三氟乙酸、鹽酸、氫溴酸、 氫碘酸、曱烷磺酸、對甲苯磺酸、硫酸、硫酸氫鈉及磷酸。 反應可視情況在無水溶劑系統中在諸如硫酸鈉或硫酸镁、 96 201211005 碳酸鉀或分子篩之乾燥劑存在下進行。 若肟或將趟官能基之碳原子之兩個取代基彼此不同, 則縮合反應可產生E-肪(醚)產物及2_肪(醚)產物之混 合物。縮合產物亦可獨佔地為E_肟(醚)或2_肟(醚)。 可在減壓、常壓或增壓下進行縮合反應。較佳在常壓 下進行該反應。 〇 〇 此條件適用於程序4、5、8、10、11及12。 視反應物及產物之特性而定,此等反應可使用不同化 學計算之設置。可選擇過量親電子試劑、親核試劑或皆不 選擇。通常’ k佳使用等莫耳量之親電子及親核化合物。 可在有或無溶劑或溶劑之混合物存在下進行反應。較 佳溶劑包括以下脂族或芳族烴,其可視情況經一或多個南 :原子取代,諸如戍烷、己烷、庚烷、環己烷、石油醚、 ::曱苯、二曱苯、氣笨、二氣苯、二氯曱烷、氯仿、H -氣乙烷或四氣化碳;冑,諸如乙醚、二異丙醚、第 基甲醚、四虱呋喃、Μ·二噁烷、二曱氧基乙烷或二甘醇二 峻酮諸如内_、甲基乙基酮、甲基異丙明或甲基里 丁 _ ’酸及酯’諸如乙酸、乙酸乙酯或乙酸"旨;非 性極性溶劑,諸士 貝十 則者如乙腈、丙腈、三甲基甲酿胺、二 醯胺、>^_曱基_吡咯 土乙 —f亞風、%丁硬、DMpU或% 甲基°比啶。溶劑之選擇亦包括水及酒精,諸如甲醇、 乙醇、丙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇、第三丁醇、戊酶 異戊醇、己酿、】醉戊_、 一氟乙醇、乙二醇或甲氧基乙醇。 97 201211005 可在包含諸如曱苯、二氣甲烷、二 氯乙烯之不可與水
。可在有或無超音波處理之情況下進行兩相反應。 可在-ioo°c至 250 C之溫度下進行反應。溫度範圍較佳 為 〇°C 至 100°c。 有機或無機驗視情況可呈諸如驗金屬及驗土金屬乙酸 鹽、胺化鹼金屬及鹼土金屬、鹼金屬及鹼土金屬碳酸鹽、 鹼金屬及鹼土金屬碳酸氳鹽、氫化鹼金屬及鹼土金屬、氫 氧化鹼金屬及鹼土金屬或鹼金屬及鹼土金屬醇鹽,諸如乙 酸鈉、乙酸鉀、乙酸鉋或乙酸鈣、碳酸鈉、碳酸钾、碳酸 絶或碳酸詞、碳酸氫納、碳酸氫鉀、碳酸氫铯或碳酸氫辑、 氫化納、氫化钟、氫化鉋或氫化辑、胺化鈉、胺化鉀、胺 化铯或胺化鈣、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鉋或氫氧化 鈣、甲醇鈉、曱醇鉀、甲醇鉋或甲醇鈣、乙醇鈉、乙醇鉀、 乙醇鉋或乙醇鈣、正丁酸鈉、正丁酸鉀、正丁酸鉋或正丁 酸鈣、異丁酸鈉、異丁酸鉀、異丁酸鉋或異丁酸鈣、第二 丁酸鈉、第二丁酸鉀 '第二丁酸鉋或第二丁酸鈣或第三丁 酸鈉、第三丁酸鉀、第三丁酸鉋或第三丁酸鈣,三乙胺、 三丙胺、三丁胺、二-異丙基-乙胺、Ν,Ν-二甲基-環己胺、 Ν-甲基-二環己胺、Ν,Ν-二甲基-苯胺、Ν,Ν-二乙基-苯胺、 Ν,Ν-二甲基-苄胺、Ν,Ν-二乙基-苄胺、吡啶、2-甲基-吡啶、 98 201211005 .3_曱基_°比啶、4-甲基-°比啶、2,6-二甲基-°比啶、2,4,6-三甲 基比咬、4-二甲胺基-吡啶、N-甲基-哌啶、N-乙基-哌咬、 N-甲基-嗎啉、N_乙基_嗎啉、N,N,_二甲基_娘畊、込4·二氮 雜雙環[2.2.2]辛烷(〇八8(:〇)、1,8-二氮-7-雙環[5.4.0]十— 稀(DBU)、二氮雜雙環[4.3.0]壬-5-烯(DBN)、1-第三 丁基-2,2,2-三(1-吼咯啶基)磷氮烯(BTPP)、1-第三丁基 -2,2,2-參(二甲胺基)磷氮烯、六甲基二矽氮烷鈉、六曱基二 矽氮烷鉀、二異丙基胺基鋰、氯化乙基鎂、氣化異丙 () 可在減壓、常壓或增壓下進行烷基化反應。較佳在常 壓下進行該反應。 可迠需要使用例如層析、結晶或熟習此項技術者熟知 之其他純化技術純化步驟1)至12)之產物。 若適宜,式⑴至式(XIII)之化合物及適當時其互變異構 體亦可以水合物形式獲得,及/或包括其他溶劑,例如可用 於結晶呈固體形式之化合物之彼等溶劑。 Q 目剛已發現,本發明之式⑴化合物實際上具有極有利 ^活性範圍,以保護有用植物免患由諸如真菌、細菌或病 毒之植物病原性微生物所引起之疾病。 因此,本發明亦係關於一種控制或預防有用植物感染 植物病原性微生物之方法,其中將式⑴化合物作為活性成 分:與植物、其-部分或其所在地。本發明之式⑴化合物 之=出之處在於低施用量下之極佳活性、植物可良好耐受 及環境上安全。其具有極有用之治癒、預防及全身特性^ 用於保護許多有用植物。式⑴化合物可用以抑制或破壞不 99 201211005 同農作物型有用植物之植株上或植株之—部分(果實、花、 上鬼上根σΡ)上所發生之疾病’而同時亦保護植 迎後生長之部分例如免遭植物病原性微生物。 亦有可能使用式(I)化合物作為種子殺菌劑處理植物繁 殖材料’特別是種子(果實、塊莖、穀粒)及植物插條(例 如水稻)’以防真菌感染以及土壤中出現植物病原性真菌。 此外,本發明之式(1)化合物可用於控制相關領域之真 菌,例如技術材料(包括木材及木材相關技術產品)之保 護、食物儲存或衛生管理。 # 式⑴化合物例如對於以下類別之植物病原性真菌有 效:不完全真菌(Fungi imperfecti )(例如灰黴屬()、 稻瘟菌屬(Pyricularia )、麥類胡麻葉枯病菌屬 (Helminthosporium )、鐮菌屬(Fusarium )、殼針孢屬 (Septoria )、尾孢屬(Cerc〇sp〇ra )及交錯道黴菌屬 (Altemaria ))及擔子菌(Basidi〇mycetes )(例如絲核菌屬 (Rhizoctonia )、孢鏽菌屬(Hemileia )、銹病菌屬 (Puccinia))。另外,其對於子囊菌(Asc〇mycetes)綱(例 如黑星菌屬(Venturia)及白粉菌屬(Erysiphe)、蘋果白溫 病菌屬(Podosphaera)、鏈核盤菌屬(Monilinia)、葡萄白 选病滷屬(Uncinula ))及卵菌(〇〇mycetes )綱(例如疫病 菌屬(Phytophthora )、草苗立枯病菌屬(Pythiurn )、露菌病 菌屬(Plasmopara ))亦有效。在本發明之範疇内,待保護 之有用植物典型地包含以下植物物種:穀類(小麥、大麥、 黑麥、燕麥、水稻、玉米、高粱及相關物種);甜菜(糖用 100 201211005 甜菜及㈣甜菜);梨果、核果及無核小果(蘋果、梨、李 子、桃、杏仁、櫻桃、草每、樹每及黑每);豆科植物(豆、 小扁丑、婉豆、大豆);油料植物(油菜、芬菜、署粟、橄 欖、奏花、椰子、萬麻、可可豆、落花生);黃瓜植物(南 瓜、黃瓜、甜瓜);纖維植物(棉花、亞麻、大麻、黃麻); 掛枯類水果(燈子、檸檬、㈣柚、柑彳m菜以菜、 生菜、蘆筒、甘藍菜、㈣蔔、洋Ε、番莊、馬铃箸、辣
椒);樟科(鱷梨、樟、樟腦)或諸如终草、堅果、咖α非、 庙子、甘簾、茶、胡椒、葡萄樹、啤酒花,及天然橡 膠植物之植物,以及觀賞植物。 將瞭解’術語「有用植物(usefulplant)」,亦包括由於 繁殖或遺傳工程改造之習知方法對如漠苯腈之除草劑或除 草劑類(諸如HPPD抑制劑、ALS抑制劑(例如㈣絡隆 (primisu丨furon )、氟磺隆(pr〇sulfur〇n )及三氟咬磺隆 (tdf1〇Xysulfuron))、EPSPS (5濞醇 _丙酉同-莽草酸 _3_ 磷酸 _ 合成酶)抑制劑、GS (麩胺醯胺合成酶)抑制劑或pp〇 (原 紫質70 -氧化酶)抑制劑)耐受之有用植物。藉由繁殖之習 知方法(突變誘發)對咪唑啉酮(例如甲氧咪草菸 (imazamox))耐受之農作物之實例為季油菜 (Canola)。藉由遺傳工程改造方法對除草劑或除草劑類耐受 之農作物之實例包括可以商標名R〇undupReady气Haeukx I及LibertyLink購得之抗嘉磷赛(glyph〇sate)及抗固殺 草(glufosinate )玉米品種。 將瞭解,術語「有用植物(useful plant )」亦包括已藉 101 201211005 由利用能夠合成-或多種起選擇性作用之毒素,諸如已自 例如產生毒素之細菌、尤其芽孢桿㈣(genus細⑴則). 之彼等細菌已知的重組DNA技術如此轉化之有用植物。 該等植物之實例為:YieldGard® (表現CryIA(b)毒素之 玉米品種);YieldGard R0〇tw〇rm®(表現 CryIIIB(bl)毒素之 玉米品種);YieldGard Plus® (表現 CryIA⑻及 CryInB(bl) 毒素之玉米品種);Starlink® (表現Cry9(c)毒素之玉米品 種)’ Herculex I® (表現CryIF(a2)毒素及酶草胺膦n_乙醯 基轉移酶(PAT)以達到對除草劑固殺草(f ammonium )耐受之玉米品種);NuC〇TN 33Β®(表現 CryiA(c) 毒素之棉花品種);Bollgard I® (表現CryIA(c)毒素之棉花 品種);Bollgard II® (表現 CryIA(c)A CrynA(b)毒素之棉 花品種);vipcot®(表現VIP毒素之棉花品種);NewLeaf® (表現CrylllA毒素之馬鈴薯品種);NatureGard® Agrisure® GT Advantage (耐 GA21 嘉磷賽性狀)、Agrisure⑧ cb Advantage (Btll 玉米模(CB)性狀)、Agrisure®RW(南瓜十 一星葉甲性狀)及Protecta®。 將瞭解術3吾「有用植物(usefui piant )」亦包括藉由使 用能夠合成具有選擇作用之抗病原菌物質,諸如所謂「發 病機理相關蛋白」(PRP,參見例如ΕΡ-Α-0 392 225 )之重 組DNA技術已如此轉化之有用植物。該等抗病原菌物質及 能夠合成該等抗病原菌物質之轉殖基因植物之實例例如自 ΕΡ-Α-0 392 225、WO 95/3381 8 及 ΕΡ-Α-0 353 191 已知。產 生該等轉殖基因植物之方法一般為熟習此項技術者所知且 102 201211005 •描述於例如以上所提及之公開案中。 如本文所用之有用植物之術語「所在地(locus )」意欲 包3有肖植物生長、有肖植物之植物繁殖材料播種或將有 用植物之植物繁殖材料置於土壤中之位置。該所在地之實 例為生長作物之田間。 將瞭解,術語「植物繁殖材料(plant propagation material)」表示可用於繁殖植物之植物之生殖部分,諸如種 子,及呂養物質(vegetative細⑷⑴,諸如插條或塊莖, ,如馬^薯。可提及例如種子(在嚴格意義上)、根部,果 貫鬼二球莖、根部及植株之一部分。亦可提及在發芽 之後或在自土壌萌出之後移植之發芽植物及缺苗。在移植 之别可藉由完全或部分浸潰處理保護此等秧苗。將瞭解, 「植物繁殖材料」較佳表示種子。 式(I)化合物可以未經改質之形式或較佳連同習知用於 調配技術之載劑及佐劑一起使用。 ϋ 、因此本發明亦係關於控制及防止植物病原性微生物之 、、且成物,其包含式⑴化舍物及惰性載劑,及係關於控制或 預防有用植物感染植物病原性微生物之方法,其十將包含 作為活性成分之式⑴化合物及惰性載劑之組成物施用於植 物、其一部分或其所在地。 為此,式⑴化合物及惰性載劑宜以已知方式調配成乳 劑、可塗佈糊狀物、可直接喷霧或可稀釋溶液、稀乳液、 可濕性散劑、可溶性散劑、粉劑、顆粒以及囊封例如於聚 合物中。如同組成物之類型,根據預定目的及盛行情況選 103 201211005 擇諸如噴霧、霧化、撒粉、分散、塗佈或傾倒之施用方法。 組成物亦可含有其他佐劑’諸如穩定劑、消泡劑、黏度調 節劑、黏合劑或增黏劑以及肥料、微量營養素供體 (micronutrient donor )或獲得特定效應之其他調配物。 適合載劑及佐劑(助劑) 於調配技術之物質,例如天然 劑、濕潤劑、增黏劑、增稠劑 例如描述於WO 97/3 3 8 90中。 可將式(I)化合物或包含作 惰性載劑之組成物施用於待與 之植物之所在地或植物。此等 或微量營養素供體或影響植物 選擇性除草劑以及殺昆蟲劑、 蟲劑、殺螺劑(m ο 11 u s c i c i d e ) 必要時連同通常用於調配技術 施用促進佐劑一起。 可為固體或液體,且為適用 或再生礦物質、溶劑、分散 、黏合劑或肥料。該等載劑 為活性成分之式(I)化合物及 其他化合物同時或相繼處理 其他化合物可能為例如肥料 生長之其他製劑。其亦可為 殺真菌劑、殺細菌劑、殺線 或若干此等製劑之混合物, 之其他載劑、界面活性劑或 式⑴化合物或包含作為活性成分之式⑴化合物及惰伯 載劑之組成物之較佳施用方法為葉面施用。施用頻率及拍 用量將視感染相應病原體之風險而定。然而,式⑴化合^ 亦可藉由用液體調配物浸濕植物所在地或藉由將例如= 形式之固體形式之化合物施與土壤(土壤施用)⑽由土 ^ 通過根部滲入植物(系統性作用八在水稻農作物^,可1 該等顆粒施用於浸水稻田中。亦可藉由用殺真菌劑之^ 調配物浸潰種子或塊莖或用固體調配物塗佈其將式⑴化石 104 201211005 . 物施用於種子(塗層)。 典型地藉由精細混合及/或研磨化合物與增量劑’例如 溶劑、固體載劑及視情況選用之表面活性劑(界面活性劑) 以已知方式製備調配物,亦即包含式(Τ)化合物及必要時固 體或液體佐劑之組成物。 農用化學調配物通常將含有01重量。至99重量%、較 佳0.1重量%至95重量〇/。之式⑴彳匕合物、99.9重量%至1重 ^ 量%、較佳99.8重量%至5重量%之固體或液體佐劑及0重 篁%至25重量%、較佳〇. 1重量%至25重量%之界面活性劑。 然而’較佳將商業產品調配成濃縮物,最終用戶通常 將使用稀調配物。 有利施用量通常為每公頃(ha) 5 g至2 kg活性成分 U.i.),較佳每公頃1〇 g至1 kg活性成分,最佳每公頃2〇笆 至600 g活性成分。當用作種子浸濕劑時,適當施用量為每 公斤種子10 mg至1 g活性物質。獲得所需作用之施用量可 〇藉由實驗測定。其取決於例如作用類型、有用植物之發育 階段及施用(位置、時間選擇、施用方法),且由於此等參 數可在寬限制内變化。 上文所述式⑴化合物或其醫藥鹽亦可具有有利範圍之 活性以處理及/或預防動物之微生物感染。「動物(心叫」 :為:何動物;例如昆蟲、哺乳動物、极蟲、房、、兩棲動 生物夕減“ 為人類。處理」意謂對感染微 生物之動物使用以降低或減緩或中止感 或減輕感染或治癒感染。「 對2 a ”兴散’ 貞防」意明對無微生物感染之表 105 201211005 觀病被之動4勿使用以預防任何將來可能發生之$染,或降 低或減緩任何將來可能發生之感染之增加或擴散。 根據本發明,提供式⑴化合物之用途,其係用於製造 用以處理及/或預防動物微生物感染之藥劑。亦提供式(1)化 合物之用途,其係用作醫藥劑。亦提供式(I)化合物之用途, 其係用作動物處理中之抗微生物劑。根據本發明,提供一 種包含作為活性成分之式⑴化合物或其醫藥學上可接受之 鹽及醫藥學上可接受之稀釋劑或載劑之醫藥組成物。此组 成物可用於處理及/或預防動物之抗微生物感染。此醫藥組 成物可呈適用於口服投予之形式,諸如錠劑、藥片 (lozenge)、硬膠囊、水性懸浮液、油性懸浮液、乳液可分散 性散劑、可分散性顆粒劑、糖漿及酏劑。或者,此醫藥組 成物可呈適用於局部施用之形式,諸如喷霧劑、乳霜或洗 劑。或者,此醫藥組成物可呈適用於非經腸投予,例如適 用於注射之形式。或者,此醫藥組成物可呈可吸入形式, 諸如氣溶膠喷霧。 式(I)化合物可能對能夠在動物中引起微生物感染之各 種微生物物種有效。該等微生物物種之實例為引起麴菌病 (Aspergillosis )之彼等微生物物種,諸如薰煙色麵菌 (发///w /wwz.gWw )、黃麴菌(儿刃⑽⑽)、土麴菌(j ierrws )、小巢狀麴菌(儿⑴如)及黑麴菌(j⑴尽以). 引起芽生菌病(Blastomycosis )之彼等微生物物種,諸如 炎芽生菌 (少ces dermam·山·s );引起余珠# (Candidiasis )之彼等微生物物種,諸如白色念珠菌(& 106 201211005 f . a^hcaWlS )、光滑念珠菌(C. )、熱帶念珠菌(C. ir〇jPZ’c^"〇、近平滑念珠菌(c. )、克柔念珠菌 (C. hi^ez_)及葡萄牙念珠菌引起球黴菌 病(Coccidioidomycosis)之彼等微生物物種,諸如粗球黴 鹵(Cocin.i/zWc/es 〜价/沿);引起隱球菌病(crypt〇coccosis ) 之彼等微生物物種’諸如新型隱球菌(C〇;/?i〇c〇ccw /〇rm⑽〇;引起組織漿菌病(Histoplasmosis)之彼等微 生物物種’诸如爽膜組織榮菌(//W〇pM_yWi:z ); 及引起接合菌病(Zygomycosis)之彼等微生物物種,諸如 傘枝梨頭黴(乂W山J cory/wh/eriO、微小根毛黴(及;π·ζο㈣cor 户及鬚根黴菌arr/n’ZM·?)。其他實例為鐮 函屬(Fusarium Spp ),諸如鍾形徽菌() 反腐良鐮抱菌(Fusarium solani ).,反賽多抱子镜屬 (Scedosporium Spp )’诸如尖端赛多抱子菌( apiospermum )及多育賽多孢子菌(See而印〜謂 ◎ )。其他實例為小芽孢菌屬(Microsporum Spp )、 發癖痛屬(Trichophyton Spp )、表皮癖菌屬(Epidermophyton Spp )、毛黴菌屬(Mucor Spp )、孢子絲菌屬(Sporoth〇rix Spp )、瓶黴屬(Phialophora Spp )、分枝抱子菌屬 (Clad〇sporium Spp)、黴樣真黴屬(Petriellidium spp)、副 球黴菌屬(Paracoccidioides Spp)及組織漿菌屬(Histoplasma Spp ) 0 本發明之組成物可含有具有生物活性之其他化合物, 例如微量營養素,或具有殺真菌活性或具有植物生長調 107 201211005 節、除草、殺昆蟲、殺線蟲或殺蟎活性之化合物。 ’ 本發明提供一種殺真菌組成物,其包含殺真菌有效量 — 之式⑴化合物’視情況包含其他活性成分。式⑴化合物可 為組成物之唯一活性成分,或適當時可與一或多種其他活 性成分,諸如殺昆蟲劑、殺真菌劑、增效劑、除草劑或植 物生長調節劑混合。另一其他殺生物活性成分係例如自 「The Pesticide Manual」[The Pesticide Manual-A World
Compendium;第 13 版(新版(2003 年 11 月 02 日));c.D S. Tomlin 編;The British Crop Protection Council, ISBN-10 : 1901396134; ISBN-13 : 978-1901396133]或其電子版本「e_Pesticide Manual V4_2」或自網站 http://www.alanwood.net/pesticides/已知, 或較佳為下文所列舉之其他殺蟲劑中之一者。 以下化合物TX與另一活性成分(B)之混合物較佳(縮 寫「τχ」意謂式I化合物所涵蓋之化合物,或術語「τχ」 較佳係指選自表1至表24之化合物): (Β) (Β1)嗜毬果傘素類(str〇bilurin)殺真菌劑+1^, 、i (B2)三唑類殺真菌劑+TX, (B3)嗎琳類殺真菌劑+TX, (B4)苯胺基喷咬類殺真菌劑+τχ , (B5)選自由以下組成之群的殺真菌劑: 氟康哇(Fluconazole ) +TX、順式氟康唑+Τχ、伏必賽 (Fluxapyroxad) +TX、辛唑嘧菌胺(Amet0Ctradin) +TX、 氟噻菌淨(Flutianil ) +TX、異噻菌胺(Is〇tianU ) +τχ、霜 108 201211005 » 黴滅(Valiphenal ) +TX、敵菌靈(Aniiazine ) +τχ、砷酸 鹽 +TX、本達樂(benalaxyl ) +TX、右本達樂(benalaxyl-M ) + TX、麥鏽靈(benodanil) +TX、免賴得(benomyl) +TX、 苯噻菌胺(benthiavalicarb ) +TX、苯嗟菌胺異丙酯+τχ、 聯苯+TX、比多農(bitertanol ) +TX、殺稻痙菌素-S (blasticidin-S ) +TX、波爾多混合液(bordeaux mixture ) + TX、白克列(boscalid) +TX、布瑞莫(bupirimate) +TX、 氣化編(cadmium chloride ) +TX、四氯丹(captafol ) +TX、
Cl 、 蓋普丹(captan ) +TX、貝芬替(carbendazim ) +TX、二硫 化碳 +TX、萎鐘靈(carboxin ) +TX、加普胺(carpropamid ) + TX、雪松葉油(cedar leaf oil ) +TX、滅蜗猛 (chinomethionat)+TX、氯氣+ TX、地茂散(chloroneb)+TX、 四氯異苯腈(chlorothalonil) +TX、乙菌利(chlozolinate) +TX、肉桂醒· ( cinnamaldehyde ) +TX、銅 +TX、碳酸銅敍 + TX、氫氧化銅+TX、辛酸銅+TX、油酸銅+TX、硫酸銅+TX、 赛座滅(cyazofamid ) +TX、環己醢亞胺+TX、克絕 〇 (cymoxanil ) +TX、益發靈(dichlofluanid ) +TX、大克隆 (dichlone) +TX、二氯丙烯+TX、二氯西莫(diclocymet) + TX、達滅淨(diclomezine ) +TX、氯石肖胺(dicloran ) +TX、 乙黴威(diethofencarb ) +TX、二氟林(diflumetorim ) +TX、 甲菌定(dimethirimol ) +TX、達滅芬(dimethomorph ) +TX、 白粉克(dinocap ) +TX、腈硫酿(dithianon ) +TX、多寧 (dodine ) +TX、護粒松(edifenphos ) +TX、嘆嗤菌胺 (ethaboxam ) +TX、乙菌咬(ethirimol ) +TX、依得利 109 201211005 (etridiazole) +TX、凡殺同(fanl〇xadone) +TX、p米。坐菌酮 (fenamidone) +TX、地可松(fenaminosuif) +τχ、芬滅松 (fenamiphos) +TX、芬瑞莫(fenarimol) +TX、曱呋醯胺 (fenfuram ) +TX、ϊ哀醢菌胺(fenhexamid ) +TX、氰菌胺 (fenoxanil) + TX、拌種咯(fenpici〇nil)+TX、三苯醋錫(fentin acetate) +TX、三苯氣錫(fentin chloride) +TX、三苯經錫 (fentin hydroxide ) +TX、福美鐵(ferbam ) +TX、富米綜 (ferimzone ) +TX、扶吉胺(fiuazinanl ) +TX、護汰寧 (fludioxonil) +TX、確菌胺(fiusuifarnide) +TX、續菌胺 + TX、福多寧(flutolanil ) +TX、福爾培(folpet) +TX、甲 酸 +TX、福赛得銘(fosetyl-aluminium ) +TX、熱必斯 (fthalide ) +TX、麥穗寧(fuberidazole ) +TX、D夫霜靈 (furalaxyl)+TX、福拉比(furametpyr) + TX、福樂定(flyodin) + TX、福紮汀(fuazatine ) +TX、六氣苯+TX、殺紋寧 (hymexazole ) +TX、雙胍辛胺(iminoctadine ) +TX、潔爾 滅丙環唑(iodocarb ) +TX ' 丙基喜樂松(ipr〇benfos ) +TX、 依普同(iprodione ) +TX、顯黴威(iprovalicarb ) +TX、稻 瘤靈(isoprothiolane ) +TX、嘉賜黴素(kasugamycin ) +TX、 辞猛乃浦(mancozeb ) +TX、猛乃浦(maneb ) +TX、二曱 基二硫胺基曱酸猛+TX、右滅達樂(mefenoxam ) +TX、滅 普寧(mepronil) +TX、氣化汞(mercuric chloride) +TX、 水 +TX、滅達樂(metalaxyl ) +TX、續菌威(methasulfocarb ) +TX、免得爛(metiram ) +TX、滅芬農(metrafenone ) +TX、 代森鈉(nabam ) +TX、印度楝樹油(neem oil )(疏水性萃 110 201211005 取物)+TX、尼瑞莫(nuarimol ) +TX、辛嘆酮(octhilinone ) + TX、n夫醢胺(ofurace ) +TX、歐殺斯(oxadixyl ) +TX、 啥淋銅(oxine copper)+TX、歐索林酸(oxolinic acid)+TX、 嘉保信(oxycarboxin ) +TX、土黴素(oxytetracycline ) +TX、 巴克素(paclobutrazole ) +TX、石壤油(paraffin oil ) +TX、 三聚曱趨 ( paraformaldehyde) +TX、賓克隆(pencycuron) + TX、五氯硝基苯+TX、五氯苯酚+TX、吡噻菌胺 (penthiopyrad ) +TX、培氟曱酸鹽(perfurazoate ) +TX、填 ^ 酸+TX、保粒菌素(polyoxin ) +TX、保粒菌素D鋅鹽+TX、 碳酸氫卸+TX、撲殺熱(probenazole ) +TX、撲滅寧 (procymidone ) +TX、霜黴威(propamocarb ) +TX、曱基鋅 乃浦(propineb ) +TX、丙氧啥琳(proquinazid ) +TX、胺 丙威(prothiocarb) +TX、白粉松(pyrazophos) +TX、比 芬諾(pyrifenox) +TX、百快隆(pyroquilon) +TX、快諾 芬(quinoxyfen ) +TX、五氯石肖基苯(quintozene ) +TX、石夕 硫芬(silthiofam ) +TX、石炭酸氫鈉+TX、二乙酸納+TX、丙 ❹ 酸鈉 +TX、鏈黴素(streptomycin ) +TX、硫 +TX、TCMTB + TX、克枯爛 (tecloftalam ) +TX、四氯硝基苯 (tecnazene)+TX.、腐絕(thiabendazole ) +TX、赛氟滅 (thifluzamide) +TX、多保淨(thiophanate) +TX、曱基多 保淨(thiophanate-methyl) +TX、得恩地(thiram) +TX、 脫克松(tolclofos-methyl ) +TX、甲基益發靈(tolyfluanid ) + TX、咪。坐 D井(triazoxide) +TX、哈棲木黴(trichoderma harzianum ) +TX、三賽 °坐(tricyclazole ) +TX、賽福寧 111 201211005 (triforine ) +TX、毒菌錫(triphenyltin hydroxide ) +TX、 維利微素(validamycin ) +TX、免克寧(vinclozolin ) +TX、 鋅乃浦(zineb)+TX、益穗(ziram)+TX、苯醯菌胺(zoxamide) +TX、l+TX、1-雙(4-氯苯基)-2-乙氧基乙醇+TX、2 + TX '苯 磺酸4-二氣苯酯+ΤΧ、2-氟甲基-ΛΜ-萘基乙醯胺+ΤΧ、 4-氯二苯職+ ΤΧ、 式Β-5.1化合物+ΤΧ
式Β-5.2化合物+ΤΧ
式Β-5.3化合物+ΤΧ
(Β-5.3) ' 式Β-5.4化合物+ΤΧ 112 201211005
式B-5.5化合物+TX
(B-5.5)、
式B-5.6化合物+TX
式B-5.7化合物+TX
3-二氟甲基-1-甲基-1H-吡唑-4-曱酸(2-二環丙基-2-基-苯基)-醯胺(化合物Β-5·8) +TX、3-二氟曱基-1-甲基-1H- 113 201211005 吡唑_4-曱酸(9-異丙基-1,2,3,4-四氫-1,4-甲橋-萘-5-基)-醯 胺(化合物B-5.9) +TX、1,3-二曱基-5-氟-1H-啦唑-4-曱酸 [2-(1,3-二甲基丁基)苯基]-醯胺(化合物心5.10)+丁又、3-二氟甲基-1-曱基-1H-吡唑-4-曱酸(3',4·-二氯-5-氟-1,1’-聯苯 -2-基)-醯胺(化合物B-5.il) +TX、N-{2-[3-氣-5-(三氟曱 基)吡啶-2-基]乙基}-2-(三氟甲基)苯甲醯胺(化合物B-5.12) + TX、3-二氟甲基-1-甲基-1H-吡唑-4-曱酸 N-[2-(l,l,2,2-四 氟乙氧基)苯基]-醯胺(化合物B-5.13) +TX、3-二氟甲基-1-曱基-111-吼唑-4-曱酸义[2-(1,1,2,3,3,3-六氟丙氧基)苯基]-醯胺(化合物B-5.14)、3-二氟曱基-1-曱基-1H-吡唑-4-曱酸 N-[2-(2-氣-1 + TX,1,2-三氟乙氧基)苯基]-醯胺(化合物 Β-5.15 ) +ΤΧ、3-二氟曱基-1-曱基- ΙΗ-吼唑-4-曱酸Ν-(4’-三 氟曱基-聯苯-2-基)-醯胺(化合物Β-5.16) +ΤΧ、3-二氟曱 基-1-曱基-1Η-吡唑-4-曱酸Ν-(2^三氟曱基-聯苯-2-基)-醯胺 (化合物B-5.17) +TX、3-二氟曱基-1-曱基-1H-吼唑-4-曱酸 N-(2’-三氟甲基-聯苯-2-基)-醢胺(化合物B-5.18) +TX ; 3-二氟甲基-1-甲基-1H-吡唑-4-甲酸(4、甲硫基-聯苯-2-基)-醯 胺(化合物B-5.19) +TX、3-二氟甲基-1-甲基-1H-吡唑-4-曱酸(2-二氣亞甲基-3-乙基-1-曱基-茚滿-4-基)-醯胺(化合 物 Β-5·20 ) +TX、
式B-5.21化合物+TX 114 201211005
(B-5.21) > (B6)選自由以下組成之群的植物生物調節劑: 酸化本并塞二嗤(Acibenzolar) +TX、1-曱基-環丙稀 + TX、酸化本并 〇塞二唾 甲酉旨(acibenzolar-S-methyl) + TX、 〇 矮壯素(chlormequat chloride) +ΤΧ、益收生長素(ethephon) +TX、縮節胺(mepiquat chloride)及抗倒酯(trinexapc-ethyl); (B7)選自由以下組成之群的殺昆蟲劑: 阿巴汀(abamectin ) +TX、可尼丁( clothianidin ) +TX、 因滅汀苯甲酸鹽(emamectin benzoate ) +TX、益達胺 (imidacloprid ) +TX、七氟菊酯(tefluthrin ) +TX、嗟蟲口井 (thiamethoxam) +TX、
及式IV化合物+TX 〇 .
Cl ) 其中X為選自以下之二價基團: 115 (IV) 201211005
其中 a) Ri為1位置經環丙基取代之環丙基,R2為溴,R3 為曱基,R4為CN且X為X,; b) R!為經環丙基取代之曱基,R2為CF3,R3為曱基, R4為C1且X為X,; c) R!為1位置經環丙基取代之環丙基,R2為CF3, R3 為曱基,R4為Cl且X為X!; d) R丨為1位置經環丙基取代之環丙基,R2為CF3,R3 為曱基,R4為CN且X為X!; e) R!為 1位置經環丙基取代之環丙基,R2為 OCH2CF3,R3 為甲基,R4 為 CN 且 X 為 Χι ; 116 201211005 • f) Ri為異丙基,r2為甲氧基;r3為甲基,Rd 4馬氣且 X 為 x8 ; g) Rl為異丙基,R2為三氟曱基,R3為氯,;R4為氣且 X 為 x8; ^ h) K為異丙基,I為三氟曱基,&為甲基,R4為氮 且X為X8 ; i) Ri為甲基,r2為溴,r3為曱基’ r4為CN且X為Χι ; j) Ri為曱基,R2為溴,R3為曱基,R4為C1且x為Χι ; 及(B8)嘉填赛(glyphosate) +TX、嘉雄賽二錢+TX、 嘉填赛二甲基敍+TX、嘉磷賽異丙基銨+τχ、嘉填賽單銨 + TX、嘉罐賽鉀+TX、嘉填賽倍半納(glyphosate sesquisodium) + TX、嘉填賽三曱基硫(glyphosate trimesium ) + TX、(5-氯-2,4-二曱基-吡啶-3-基)-(2,3,4-三甲氧基-6-甲基 -苯基)-曱酮+TX、(5 -漠-4 -氣-2 -甲氧基比咬-3-基)-(2,3,4-三甲氧基-6-甲基-苯基)-曱酮+TX、2-{2-[(E)-3-(2,6-二氣-苯基)-1-曱基-丙-2-烯-(E)-亞基胺基氧基甲基]-苯 〇
基}-2-[〇-甲氧基亞胺基]-N-曱基-乙醯胺+TX、3-[5-(4-氣-苯基)-2,3_二甲基-異噁唑啶-3-基]-吡啶+TX、 式V化合物+TX
117 201211005 氟石黃胺草醚(fomesafen) +TX、固殺草(Glufosinate) 及其鹽TX、及(B9)異派蘭(Isopyrazam ) +TX、賽達森 (Sedaxane) +TX、
式(VI)化合物+TX
(VI)、 式(VII)化合物+ΤΧ
(VII)。 較佳組成物包含式TX化合物及 (B)選自由以下組成之群的化合物: (B1)嗜毯果傘素類殺真菌劑+TX、(B2)三唑類殺真菌劑 + TX、(B3)嗎琳類殺真菌劑+TX、(B4)苯胺基喊咬類殺真菌 劑+TX、(B5)選自由以下組成之群的殺真菌劑: 敵菌靈(878) + TX、坤酸鹽+TX、本達樂(56) + TX、右本 達樂+ΤΧ、麥鏽靈(896) + ΤΧ、免賴得(62) + ΤΧ、苯噻菌胺 + ΤΧ、苯。塞菌胺異丙酯(68)+ΤΧ、聯苯(81)+ΤΧ、比多農 (84)+ΤΧ、殺稻瘟菌素-S(85) + TX、波爾多混合液(87) + τχ、 白克列(88) + ΤΧ、布瑞莫(98) + ΤΧ、氣化鎘+τχ、四氯丹 218 201211005 ' (113)+ΤΧ、 蓋普丹(1U)+TX、貝芬替(116) + τχ、二硫化碳 (945)+ΤΧ、萎鏽靈(12〇) + τχ、加普胺(ΐ22) + τχ、雪松葉油 +τχ、滅蜗猛(126)+τχ、氯氣+τχ、地茂散(ΐ39)+τχ、四氣 異笨腈(142) + ΤΧ、乙菌利(149)+τχ、肉桂醛+τχ、銅+ΤΧ、 碳酸銅銨+τχ'氫氧化銅(169)+τχ、辛酸銅(ΐ7〇)+τχ、油酸 銅+τχ、硫酸鋼(87)+τχ、賽座滅(185)+τχ、環己醯亞胺 〇 (1022) + ΤΧ、克絕(2〇〇)+τχ、益發靈(23〇)+τχ、二氣萘醌 (1052) + ΤΧ、二氯丙烯(233) + ΤΧ、二氯西莫(237)+ΤΧ、達滅 淨(239) + ΤΧ、氣硝胺(24〇)+τχ、乙黴威(245) + τχ、二氟林 (253) + ΤΧ、甲菌定(1082) + τχ、達滅芬(263)+τχ、白粉克 (270)+ΤΧ、腈硫 g昆(279)+ΤΧ、多寧(289)+ΤΧ、護粒松 (290) + ΤΧ、噻唑菌胺(3〇4)+ΤΧ、乙菌啶〇 133)+ΤΧ、依得利 (321)+ΤΧ、凡殺同(322)+ΤΧ、咪唑菌酮(325)+ΤΧ、地可松 (1144)+ΤΧ、芬滅松(326)+ΤΧ、芬瑞莫(327) + τχ、曱呋醯胺 ◎ (333) + τχ、環醯菌胺(334)+ΤΧ、氰菌胺(338) + ΤΧ、拌種咯 (341) + ΤΧ、三苯醋錫(347)+ΤΧ、三苯氣錫+τχ、三苯羥錫 (347) + ΤΧ、福美鐵(350)+ΤΧ、富米综(351)+ΤΧ、扶吉胺 (363) + ΤΧ、護汰寧(368) + ΤΧ、磺菌胺(394)+ΤΧ、福多寧 (396)+ΤΧ、福爾培(4〇〇) + ΤΧ、曱醛(4〇4) + ΤΧ、福赛得鋁 (407) + ΤΧ、熱必斯(643) + ΤΧ、麥穗寧(419)+ΤΧ、呋霜靈 (410) + ΤΧ、福拉比(411) + ΤΧ、福樂定(ΐ2〇5) + ΤΧ、福紮汀 (422)+ΤΧ、六氯苯(434)+ΤΧ、殺紋寧+τχ、雙胍辛胺 (459) + ΤΧ、潔爾滅丙環唑(胺基甲酸3_碘_2_丙炔基丁酯) 119 201211005 + TX、丙基喜樂松(IBP ) (469)+ΤΧ、依普同(470) + ΤΧ、纈 黴威(471)+ΤΧ、稻瘟靈(474) + ΤΧ、嘉賜黴素(483) + ΤΧ、鋅 錳乃浦(496)+ΤΧ、猛乃浦(497)+ΤΧ、二甲基二硫胺基曱酸 錳 +ΤΧ、右滅達樂(Metalaxyl-M ) (517)+ΤΧ、滅普寧 (510)+ΤΧ、氯化汞(5ΐι) + τχ、汞+ΤΧ、滅達樂(516) + ΤΧ、磺 菌威(528)+ΤΧ、免得爛(546)+ΤΧ、滅芬農+ΤΧ、代森鈉 (5 66) + ΤΧ、印度楝樹油(疏水性萃取物)+Τχ、尼瑞莫 (587) + ΤΧ、辛噻酮(590) + ΤΧ、呋醯胺(592) + ΤΧ、歐殺斯 (601)+ΤΧ、喹啉銅(6〇5) + ΤΧ、歐索林酸(606) + ΤΧ、嘉保信 (608)+ΤΧ、土黴素(611)+ΤΧ、巴克素(612)+ΤΧ、石蠟油 (628)+ΤΧ、三聚甲醛+τχ、賓克隆(620) + ΤΧ、五氣硝基苯 (716) + ΤΧ、五氯苯酚(623)+ΤΧ、吡噻菌胺+ΤΧ、培氟甲酸鹽 + ΤΧ、磷酸+ΤΧ、保粒菌素(654) + ΤΧ、保粒菌素D鋅鹽 (654) + ΤΧ、碳酸氫鉀+ΤΧ、撲殺熱(658) + ΤΧ、撲滅寧 (660) + ΤΧ、霜黴威(668)+ΤΧ、曱基鋅乃浦(676) + ΤΧ、丙氧 喹啉(682)+ΤΧ、胺丙威(1361)+ΤΧ、白粉松(693) + ΤΧ、比芬 諾(703)+ΤΧ、百快隆(710)+ΤΧ、快諾芬(715) + ΤΧ、五氯硝 基苯(PCNB ) (716) + ΤΧ、矽硫芬(729) + ΤΧ、碳酸氬鈉 +ΤΧ、 二乙酸鈉+ΤΧ、丙酸鈉+ΤΧ、鏈徽素(744) + ΤΧ、硫(7 5 4) + ΤΧ、 TCMTB + TX、克枯爛 +ΤΧ、四氯硝基苯(TCNB ) (767) + ΤΧ、 腐絕(790) + ΤΧ、賽氟滅(796) + ΤΧ、多保淨(1435)+ΤΧ、甲基 多保淨(802)+ΤΧ、得恩地(804)+ΤΧ、脫克松(808) + ΤΧ、甲 基益發靈(tolylfluanid) (810) + ΤΧ、咪咬 〇 井(821) + ΤΧ、哈 棲木黴(825)+ΤΧ、三賽唑(828) + ΤΧ、賽福寧(838) + ΤΧ、毒 120 201211005 菌錫(3 47) + ΤΧ、維利微素(846) + ΤΧ、免克寧(849) + ΤΧ、鋅 乃浦(855) + ΤΧ、益穗(856) + ΤΧ、苯醯菌胺(857) + ΤΧ、1,1-雙(4-氯苯基)-2-乙氧基乙醇(IUPAC名稱)(910) + ΤΧ、 2 + ΤΧ、苯磺酸 4-二氯苯酯(IUPAC/Chemical Abstracts 名稱) (105 9) + TX、2-氟-TV-曱基-AM-萘基乙醯胺(IUPAC名稱) (129 5) + TX、4-氯二苯颯(IUPAC 名稱)(9 81) + TX、 式Β-5.1化合物+ΤΧ
式Β-5.2化合物+ΤΧ
式Β-5.3化合物+ΤΧ
式Β-5.4化合物+ΤΧ 121 201211005
式B-5.5化合物+TX
式B-5.6化合物+TX
式B-5.7化合物+TX
3-二氟曱基-1-曱基-1H-吡唑-4-曱酸(2-二環丙基-2-基-苯基)-醯胺(化合物Β-5·8) +TX、3-二氟甲基-1-甲基-1H- 122 201211005 0比唾-4_曱酸(9-異丙基-1,2’3,4-四虱-1,4 -甲橋-萘-5-基)-醯 胺(化合物B-5.9) + 丁父、1,3_一甲基-氟-1H-。比嗤-4-曱酸 [2-(1,3-二甲基丁基)苯基]_醯胺(化合物B-5·10) +TX、3-二氟甲基-1-曱基-1H-吡咬_4·甲酸(3’,4,_二氯-5-氟聯苯 -2-基)-醢胺(化合物B-5.11) +TX、N-{2-[3_氯-5-(三氟甲 基)吡啶-2-基]乙基}-2-(三氟甲基)苯甲醯胺(化合物B-5.12) + TX、3-二氟曱基-1-甲基 _1H-° 比唑-4-曱酸 N-[2-(l,l,2,2-四 氟乙氧基)苯基]-醯胺(化合物B-5·13) +TX、3-二氟曱基-1-曱基·1Η-π比〇坐-4 -曱酸N-[2·(l,l,2,3,3,3-六氣丙氧基)苯基]-醯胺(化合物B-5.14)+TX、3-二氟甲基-l-曱基_lH-吡唑-4-甲酸Ν-[2-(2-氣-1,1,2-三氟乙氧基)苯基]-醯胺(化合物 Β-5.15 ) +ΤΧ、3-二氟曱基-1-甲基-1Η-吡唑-4-甲酸Ν-(4'-三 氟曱基·聯苯-2-基)-醯胺(化合物Β-5.16) +ΤΧ、3-二氟曱 基-1-曱基-1Η-吡唑-4-曱酸Ν-(2'-三氟甲基-聯苯-2-基)-醯胺 (化合物B-5.17 ) +ΤΧ及3-二氟甲基-1-甲基-1Η-吡唑-4-甲 ◎ 酸Ν-(2’-三氟曱基-聯苯-2-基)-醯胺(化合物Β-5.18) +ΤΧ, (Β6)選自由以下組成之群的植物生物調節劑: 酸化苯并噻二唑_S_甲酯(6) + ΤΧ、矮壯素(137) + ΤΧ、益 收生長素(307) + ΤΧ、縮節胺(509)及抗倒酯(841); (Β7)選自由以下組成之群的殺昆蟲劑: 阿巴汀(ι)+τχ、可尼丁(165)+τχ、因滅汀苯甲酸鹽 (291) + ΤΧ、益達胺(458) + τχ、七氟菊酯(769)+τχ、噻蟲畊 (792)+Τχ、式β-?」化合物+τχ 123 201211005
及式B-7.2化合物+TX ;
及(B8)嘉磷賽(419) + TX。 選自以下群組P的尤其適合之混合物之實例: 群組P :本發明之尤其適合混合物: 選自以下之嗜毬果傘素類殺真菌劑:亞托敏 (azoxystrobin)(47)+TX、醚菌胺(dimoxystrobin)(226)+TX、 H σ密菌酉旨(fluoxastrobin ) (382)+TX 、克收欣
(kresoxim-methyl) (485) + ΤΧ、苯氧菌胺(metominostrobin) (551)+TX、將醚菌胺(orysastrobin ) +TX、咬氧菌醋 (picoxystrobin) (647) + TX、百克敏(pyraclostrobin) (690); 三氟敏(trifloxystrobin) (832) + TX、式 B-1.1 化合物+TX
124 201211005 , 選自以下之三π坐類殺真菌劑:阿紮康°坐(azaconazole ) (40)+TX、演克座 ( bromuconazole ) (96)+TX、環克座 (cyproconazole ) (207) + ΤΧ、待克利(difenoconazole ) (247) + TX、達克利(diniconazole ) (267)+ΤΧ、右達克利 (diniconazole-M ) (267)+TX、依普座(epoxiconazole ) (298)+TX、芬克座(fenbuconazole ) (329) + TX、氟啥嗤 (fluquinconazole ) (385) + TX、護石夕得(flusilazole ) (393) + TX、護汰芬(flutriafol ) (397) + TX、菲克利 ξΛ * 1 ( hexaconazole ) (43 5 ) + ΤΧ、依滅列(imazalil ) (449)+ΤΧ、 易胺座(imibenconazole) (457)+TX、依普克°坐(ipconazole) (468) + TX、滅特座(metconazole ) (525)+TX、邁克尼 (myclobutanil ) (564) + TX、°惡味 °坐(oxpoconazole ) (607) + TX、稻瘟酯(pefurazoate ) (618)+TX、平克座 (penconazole) (619)+ΤΧ、撲克拉(prochloraz) (659)+ΤΧ、 普克利(propiconazole ) (675)+TX 、丙硫菌口坐 (prothioconazole ) (685)+TX、石夕氣嗤(simeconazole )
Q (731)+ΤΧ、得克利(tebuconazole ) (761)+ΤΧ、四克利 (tetraconazole ) (778)+ΤΧ、三泰芬(triadimefon ) (814)+ΤΧ、 三泰隆(triadimenol) (815)+ΤΧ、賽福座(triflumizole) (834) + TX、環菌唑(triticonazole) (842)+TX、苄氣三唑醇 (diclobutrazol ) (1068)+TX、乙環唾(etaconazole ) (1129)+TX、氟康嗤(furconazole ) (1198) + TX、順式氟康唆 (furconazole-cis) (1199)及喧唾(quinconazole) (1378); 選自以下之嗎啉類殺真菌劑混合物:阿迪嗎啉 125 201211005 (aldimorph) +TX、嗎菌靈(dodemorph) (288) + ΤΧ、芬普 福(fenpropimorph ) (344) + TX、三得芬(tridemorph ) (830)+TX、苯鏽啶(fenpropidin ) (343)+TX、螺噁茂胺 (spiroxamine) (740) + ΤΧ、粉病靈(piperalin) (648)及式
B-3.1化合物+TX
選自以下之本胺基d密σ定殺真菌劑··赛普洛(cypr〇dinii ) (208) + TX、滅派林(mepanipyrim ) (5〇8)及派美尼 (pyrimethanil ) (705); 選自由以下組成之群的殺真菌劑混合物: 敵菌靈(878)+TX、石申酸鹽+TX、本達樂(56) + TX、右本 達樂+ΤΧ、麥鏽靈(896)+ΤΧ、免賴得(62) + ΤΧ、苯噻菌胺 + ΤΧ、苯噻菌胺異丙酯(68) + ΤΧ、聯苯(81)+ΤΧ、比多農 (84) + ΤΧ、殺稻瘂菌素_s(85) + TX、波爾多混合液(87) + ΤΧ、 白克列(88)+ΤΧ、布瑞莫(98)+τχ、氯化鎘+Τχ、四氯丹 (1 13) + ΤΧ、 蓋普丹(114)+ΤΧ、貝芬替⑴6) + τχ、二硫化碳 (945) + ΤΧ、萎鏽靈(120) + ΤΧ、加普胺(122) + ΤΧ、雪松葉油 + TX、滅蜗猛(126) + TX、氯氣+τχ、地茂散(ΐ39) + τχ、四氯 異笨腈(142) + TX、乙菌利(149) + TX、肉桂醛+TX、銅+TX、 126 201211005 碳酸銅銨+TX、氫氧化銅(169)+Τχ、辛酸銅(17〇)+τχ、油酸 銅+ΤΧ、硫酸銅(87)+ΤΧ、賽座蜮(185)+τχ、環己醯亞胺 (1022) + ΤΧ、克絕(200) + ΤΧ、益發靈(23〇) + τχ、二氯萘醌 (1052) + ΤΧ、二氯丙烯(233)+ΤΧ、二氯西莫(237)+τχ、達滅 淨(239) + ΤΧ、氯硝胺(240)+Τχ、乙黴威(245) + τχ、二氟林 (253) + ΤΧ、甲菌定(ΐ〇82)+ΤΧ、達滅芬(263)+τχ、白粉克 (270) + ΤΧ、腈硫醌(279)+ΤΧ、多寧(289)+ΤΧ、護粒松 (290) + ΤΧ、噻唑菌胺(304)+ΤΧ、乙菌啶(1133) + ΤΧ、依得利 (321) + ΤΧ、凡殺同(322) + ΤΧ、咪唑菌酮(325) + ΤΧ、地可松 (1144) + ΤΧ、芬滅松(326) + ΤΧ、芬瑞莫(327) + τχ、甲呋醯胺 (333) + ΤΧ、環醯菌胺(334) + ΤΧ、氰菌胺(338) + τχ、拌種咯 (341) + ΤΧ、三笨醋錫(347)+ΤΧ、三苯氣錫+τχ、三苯羥錫 (347) + ΤΧ、福美鐵(350)+ΤΧ、富米综(351)+τχ、扶吉胺 (363) + ΤΧ、護汰寧(368)+ΤΧ、續菌胺(394)+ΤΧ、福多寧 (396)+ΤΧ、福爾培(4〇〇) + ΤΧ、曱酿(4〇4)+ΤΧ、福赛得鋁 〇 (407) + ΤΧ、熱必斯(643) + ΤΧ、麥穗寧(419)+ΤΧ、呋霜靈 (410)+ΤΧ、福拉比(411)+ΤΧ、福樂定、福紮汀 (422) + TX、六氣苯(434) + TX、殺紋寧+TX、雙胍辛胺 (45 9) + TX、潔爾滅丙環唑(胺基曱酸3_碘_2_丙炔基丁酯) + ΤΧ、丙基喜樂松(IBP ) (469) + ΤΧ、依普同(470)+ΤΧ、纈 黴威(471) + ΤΧ、稻瘟靈(474) + ΤΧ、嘉賜黴素(483)+ΤΧ、辞 錳乃浦(496) + ΤΧ、錳乃浦(497) + ΤΧ、二曱基二硫胺基甲酸 猛 +ΤΧ、右滅達樂(Metalaxyl-M ) (517)+ΤΧ、滅普寧 (510) + ΤΧ、氯化汞(511) + ΤΧ、汞+ΤΧ、滅達樂(516)+ΤΧ、磺 127 201211005 菌威(528) + ΤΧ、免得爛(546)+ΤΧ、滅芬農+TX、代森鈉 (566) + TX、印度楝樹油(疏水性萃取物)+ΤΧ、尼瑞莫 (587)+TX、辛噻酮(590)+TX、呋醯胺(592) + TX、歐殺斯 (601) + ΤΧ、喹啉銅(605) + ΤΧ、歐索林酸(606)+ΤΧ、嘉保信 (608) + ΤΧ、土黴素(611)+ΤΧ、巴克素(612)+ΤΧ、石蠟油 (628)+ΤΧ、三聚甲醛+ΤΧ、賓克隆(620)+ΤΧ、五氣硝基苯 (716)+ΤΧ、五氯苯酚(623)+ΤΧ、吡噻菌胺+ΤΧ、培氟曱酸鹽 + ΤΧ、磷酸+ΤΧ、保粒菌素(654)+ΤΧ、保粒菌素D鋅鹽 (654) + ΤΧ、碳酸氫鉀+ΤΧ、撲殺熱(658) + ΤΧ、撲滅寧 (660) + ΤΧ、霜黴威(668) + ΤΧ、曱基鋅乃浦(676)+ΤΧ、丙氧 喹啉(682) + ΤΧ、胺丙威(1361) + ΤΧ、白粉松(693)+ΤΧ、比芬 諾(703) + ΤΧ、百快隆(710) + ΤΧ、快諾芬(715) + ΤΧ、五氯硝 基苯(PCNB) (716) + ΤΧ、矽硫芬(729) + ΤΧ、碳酸氫鈉+ΤΧ、 二乙酸鈉+ΤΧ、丙酸鈉+ΤΧ、鏈黴素(744)+ΤΧ、硫(754) + ΤΧ、 TCMTB + TX、克枯爛 +ΤΧ、四氯硝基苯(TCNB)(767) + TX、 腐絕(790) + TX、賽氟滅(796)+TX '多保淨(1435) + TX、曱基 多保淨(802) + ΤΧ、得恩地(804) + ΤΧ、脫克松(808) + ΤΧ、曱 基益發靈(810)+ΤΧ、咪唑π井(821) + ΤΧ、哈棲木黴(825) + ΤΧ、 三賽唑(828) + ΤΧ、賽福寧(838) + ΤΧ、毒菌錫(347) + ΤΧ、維 利微素(846) + ΤΧ、免克寧(849) + ΤΧ、辞乃浦(855) + ΤΧ、益 穗(85 6) + ΤΧ、苯醯菌胺(857) + ΤΧ、1+ΤΧ、1-雙(4-氯苯基)-2-乙氧基乙醇(IUPAC名稱)(910) + ΤΧ、2 + ΤΧ、苯磺酸4-二 氣苯 S旨(IUPAC/Chemical Abstracts 名稱)( 1059) + ΤΧ、2-氟-iV-曱基-AM-萘基乙醯胺(IUPAC名稱)( 129 5) + ΤΧ、4- 128 201211005 氣二苯颯(IUPAC 名稱)(981) + ΤΧ、 式Β-5.1化合物+ΤΧ、式Β-5.2化合物+ΤΧ、式Β-5.3 化合物+ΤΧ、式Β-5.4化合物+ΤΧ、式Β-5.5化合物+ΤΧ、 式 Β-5.6化合物+ΤΧ、式 Β-5.7化合物+ΤΧ、化合物 Β-5.8 + ΤΧ、化合物 Β-5.9+ΤΧ、化合物 Β-5.10+ΤΧ、化合物 Β-5.11+ΤΧ、化合物 Β-5.12 + ΤΧ、化合物 Β-5.13 + ΤΧ、化合 物 Β-5.14 + ΤΧ、化合物 Β-5.15 + ΤΧ、化合物 Β-5.16 + ΤΧ、化 合物Β-5.17及化合物Β-5.18 ; 選自由以下組成之群的植物生物調節劑: 酸化苯并噻二唑-S-甲酯(6) + ΤΧ、矮壯素(137) + ΤΧ、益 收生長素(3〇7) + ΤΧ、縮節胺(5〇9)及抗倒酯(841); 選自由以下組成之群的殺昆蟲劑: 阿巴汀(1) + ΤΧ、可尼丁(165) + ΤΧ、因滅汀苯甲酸鹽 (291) + ΤΧ、益達胺(458)+ΤΧ、七氟菊酯(769) + ΤΧ、噻蟲口井 (792) + ΤΧ及嘉磷賽(419) + ΤΧ、式(V)化合物+ΤΧ
氟磺胺草醚+ΤΧ及(Β9)異派蘭+ΤΧ、賽達森+ΤΧ、 式(VI)化合物+ΤΧ 129 201211005
式(VII)化合物+TX
選自以下群組Q之尤其適合之混合物之其他實例: 群組Q :本發明之尤其適合組成物: 選自由以下組成之群的嗜毬果傘素類殺真菌劑:亞托 敏+TX、醚菌胺+TX、氟嘧菌酯+TX、克收欣+TX、苯氧菌 胺+TX、肟醚菌胺+TX、啶氧菌酯+TX、百克敏、三氟敏及 式B-1.1化合物; 選自由以下組成之群的三唑類殺真菌劑:阿紮康唑 + TX、溴克座+TX、環克座+TX、待克利+TX、達克利+TX、 右達克利+TX、依普座+TX、芬克座+TX、氟喹唑+TX、護 矽得+TX、護汰芬+TX、菲克利+TX、依滅列+TX、易胺座 + TX、依普克唑+TX、滅特座+TX、邁克尼+TX、噁咪唑+TX、 稻瘟酯+TX、平克座+TX、撲克拉+TX、普克利+TX、丙硫 菌唑+TX、矽氟唑+TX、得克利+TX、四克利+TX、三泰芬 + TX、三泰隆+TX、賽福座+TX、環菌唑+TX、苄氣三唑醇 130 201211005 : +TX、乙環唑+TX、氟康唑+TX、順式氟康唑+TX及喹唑+TX; 選自由以下組成之群的嗎啉類殺真菌劑:阿迪嗎啉 + TX、嗎菌靈+TX、芬普福+TX、三得芬+TX、苯鏽啶+TX、 螺噁茂胺+TX、粉病靈及式B-3.1化合物; 選自由以下組成之群的苯胺基嘧啶殺真菌劑:賽普洛 + TX、滅派林及派美尼; 選自由以下組成之群的殺真菌劑:本達樂+TX、右本達 樂+TX、免賴得+TX、比多農+TX、白克列+TX、蓋普丹+TX、 萎鏽靈+TX、加普胺+TX、四氯異苯腈+TX、銅+TX、賽座 滅+TX、克絕+TX、乙黴威+TX、腈硫醌+TX、凡殺同+TX、 °米σ坐菌酮+TX、環醯菌胺+TX、芬諾克(fenoxycarb ) +TX、 拌種咯+TX、扶吉胺+TX、護汰寧+TX、福多寧+TX、福爾 培+TX、雙胍鹽(guazatine ) +TX、殺紋寧+TX、依普同+TX、 祿芬隆(lufenuron ) +TX、辞錳乃浦+TX、滅達樂+TX、右 滅達樂+TX、滅芬農+TX、尼瑞莫+TX、巴克紊+TX、賓克 隆+TX、吡噻菌胺+TX、撲滅寧+TX、丙氧喹啉+TX、百快 隆+TX、快諾芬+TX、矽硫芬+TX、硫+TX、腐絕+TX、得 恩地+TX、咪唑口井+TX、三賽唑+TX、式B-5.1化合物+TX、 式B-5.2化合物+TX、式B-5.3化合物+TX、式B-5.4化合 物+TX、式B-5.5化合物+TX、式B-5.6化合物+TX、式B-5.7 化合物+TX、式B-5.8化合物+TX、式B-5.9化合物+TX、 式B-5.10化合物及式B-5.12化合物; 選自以下之植物生物調節劑:酸化苯并噻二唑-S-甲酯 .+TX、矮壯素+TX、益收生長素+TX、縮節胺及抗倒酯; 131 201211005 選自以下之殺昆蟲劑:阿巴汀+τχ、因滅汀苯曱酸鹽 + TX、七氟菊酯+TX、噻蟲畊+TX及嘉磷賽+TX、式V化合 物
氟磺胺草醚+TX及(B9)異派蘭+TX、赛達森+TX、 式(VI)化合物+TX
式(VII)化合物+TX
已發現使用組分(B)與組分TX組合令人驚奇地且實質 上可增強組分TX對真菌之有效性,反之亦然。另外,本發 明之方法對多種僅使用組分TX時可對抗此方法之活性成 分的該等真菌有效。 132 201211005 " 與°’且分(B )之活性成分混合物包含式i化人物 另〃他殺生物活性成分或組成物或必要時固體戋 佐劑’混合比較佳為:義,尤其5〇1至h -比率更尤其為20.1 $ ,廿 其為4至更尤其為Μ至極 : 比率特定較佳為2:1至1:2,且同樣較佳 ^ :為4,1至2:1 ’比率尤其為1:卜或5:卜或5:2、或5.3 …或4:卜………或3:2、:2:;、、 ◎或 15 或 25 、或 3:5 、或 4:5 、或 1:4 、或 2:4 、或 3:4 、 S 或 2,3 或 1:2、或 1:_、或 1:300、或 1:15〇 。、或二/:或抓或咖或1· $ U500、或 1:350、或 2:35〇、或 4:35〇 或2.750、或4:75〇。將瞭解,彼等混合比一方面包 括重量比,且另—方面包括莫耳比。 :令人驚奇地發現,組分τχ與組分⑻之某些重量比 生協同活性。因此,本發明之另-態樣為組成物,盆 〇中二二與組分(B)以產生協同效應之量存在於組成物 八。匕協同活性可自以下事實中表現出:包含組分Η及組 :(之組成物之殺真菌活性大於組分τχ及組分(Β)之殺真 =之總和。此協同活性以兩種方式擴大組分η及組分 用-二:保持良好’意謂甚至在兩種個別組分以該低施 二圍元全無效時活性成分混合物仍達到對植物病原體 之同控制程度。其次,存在實質 物病原體。 Η上增寬範圍之可控制之植 133 201211005 當活性成分組合之作用大於個別組分作用之總和時存 在協同效應。指定活性成分組合之預計作用 E服從所謂 COLBY公式且可如下進行計算(c〇LBY,S.R.「Calculating synergistic and antagonistic responses of herbicide combination」· Weeds,第 15 卷,第 20-22 頁;1967 ): PPm=每公升噴霧劑混合物之活性成分(=a.i.)之毫克 數 X=使用p ppm活性成分下之活性成分A)之作用% 使用q ppm活性成分下之活性成分B)之作用〇/〇 根據C〇LBY ’使用P + q ppm活性成分下之活性成分 A) + B)之預計(相加)作用為Ε = χ + γ_ϋ。 100 _右實際上觀測到之作用(〇 )大於預計作用(Ε ),則組 口之作用超相力口 ’即存在協同效應。在數學術語中,協同 效應與(G_E )之差的正值對應。在活性僅互補相加(預計 f )一之凊况下’邊差(〇_Ε )為零。該差異()之負 值表示與預計活性相比活性損失。 然而’除關於殺真菌活性之實際協同作用之外,本發 明組成物亦可且右豆 人 H /、 ,、 7人良奇之有利特性。可提及之該 等有利特性之實例為.争 生能主^ 更有利之降解性;改良之毒理及/或 生怨毋性作用;或改良 ^ Λ 良有用植物之特性,其包括:種子 發[農作物產量、較發读夕… 增加、荦P + 達之根糸、分蘖增加、植物高度 顏色ϋ綷 ^ 更 刀蘖枝更強壯、葉片 頌巴吏'.·彔、所需肥料更少、 枝更多、開花#军、取…而種子更少、可產生之分蘖 、权砬成熟早、植物挫折(plant verse ) 134 201211005 (倒伏)較少、# # & E . - 斤芽生長牦加、植物活力改良及發芽早。 一些本發明之組成物具有系統性作用且可用作 壤及種子處理殺真菌劑。 >、土 ;本發明之組成物,有可能抑制破 物中植株或植株之一邻分卩要眚.^ 有用植 ^ 不& #刀(果實、花、葉、莖、塊莖、根 部)中出現之植物病原性微生物,而同時亦保護隨後生長 之植株之部分免受植物病原性微生物攻擊。 本發明之組成物可施用於植物病原性微生物、受微生 物攻擊威脅之有用植物、其所在地、其繁殖材料、儲存物 品或工業材料。 本發明之組成物可在有用植物、其繁殖材料、儲存物' 品或工業材料感染微生物之前或之後施用。 本發明之另一態樣為一種控制有用植物或其繁殖材料 之由植物病原體所引起之疾病的方法,其包含向有用植 物其所在地或其繁殖材料施用本發明之組成物。較佳為 一種方法,該方法包含向有用植物或其所在地、更佳向有 L 用植物施用本發明之組成物。進一步較佳為一種方法,該 方法包含向有用植物之繁殖材料施用本發明之組成物。 組分(B)已知。在組分⑻包括在「The pesticide Manual」 [The Pesticide Manual-A World Compendium;第 13 版;C_D. S· Tomlin 編;The British Crop Protection Council]内之情況 下’其中以上文圓括弧中指定之編目流水號描述特定組分 (B);例如,化合物「阿巴汀」以編目流水號描述。在上 文中大部分組分(B)以所謂「常用名」、相關r IS〇常用名」 135 201211005 或在個別情況使用之另—「常用名」提及。若名稱非「常 用名」’則特^組分(B)之替代使用之名稱的性質以圓括弧給 出,在彼It況下’使用IUPAC名稱、IUPAC/Chemicai
Abstracts名稱、「化學名稱」、「傳統名」、「複合名」或「開 發碼」,或若既不使用彼等名稱中之一者,亦不使用「常用 名」,則利用「替代名稱」。 以下組分B)以CAS登記編號登記 氟康唑(86386-73-4)、順式氟康唑(1 12839_32 4)、伏必 賽(9〇72〇4_31-3)、辛唾嘧菌胺(8653 18-97-4)、氟噻菌淨 (958647-10-4)、異喧 g 胺(224〇49〇41)、霜黴滅
(283 159-90-0)、酸化苯并噻二唑(126448 41_7)、卜曱基環 丙烯(3 100-04-7)、嘉磷赛二銨(69254_4〇_6)、嘉磷赛二曱基 銨(34494-04-7)、嘉磷赛異丙基銨(38641_94_〇)、嘉磷賽單銨 (40465-66-5)、嘉磷賽鉀(709(^204)、嘉磷赛倍半鈉 (70393-85-0)、嘉磷賽三曱基硫(81591-81-3)、固殺草及其鹽 (5 1276-47-2、35 597-44-5 ( S-異構體))、阿迪嗎啉(CAS
91315-15-0);珅酸鹽(CAS 1327-53-3);右本達樂(CAS
98243-83-5);苯噻菌胺(CAS 413615-35-7);氣化鎘(CAS
10108-64-2);雪松葉油(CAS 8007-20-3);氣氣(CAS 7782-50-5);肉桂醒:(CAS: 104-55-2);碳酸銅銨(CAS 33 1 1 3-08-5);油酸銅(CAS 1 120-44-1);潔爾滅丙環唑(胺 基曱酸3-碘-2-丙炔基丁酯)(CAS 55406-53-6);殺紋寧as 100 04-44-1);二曱基二硫胺基曱酸錳(CAS 1 5339-36-3);汞
(CAS 7487_94-7 ; 21908-53-2 ; 7546-30-7);滅芬農(CAS 136 201211005
' 220899-03-6);印度楝樹油(疏水性萃取物)(CAS 8002-65-1);肟醚菌胺 CAS 248593-16-0);三聚曱醛(CAS 30525-89-4);吡噻菌胺(CAS 1 83675-82-3);磷酸(CAS 7664-38-2);碳酸氫鉀(CAS 298-14-6);碳酸氫鈉(CAS 144-55-8);二乙酸鈉(CAS 127-09-3);丙酸鈉(CAS 137-40-6); TCMTB(CAS 21564-17-0);及甲基益發靈(CAS 731-27-1)。 化合物B-1.1 (「稀將菌酉旨(enestrobin )」)描述於 ^ EP-0-93 6-2 13 中;化合物 B-3.1 (「氟嗎啉(flumorph)」)描 述於 US-6,020,332、CN-1-167-568、CN-1-155-977 及 EP-0-860-438 中;化合物 B-5.1 (「雙炔醯菌胺 (mandipropamid )」)描述於 WO 01/87822 中;化合物 B-5.2 描述於WO 98/46607中;化合物B-5.3 (「氟啶醯菌胺 (fluopicolide )」)描述於 WO 99/42447 中;化合物 Β-5·4(「環 氟菌胺(cyflufenamid)」)描述於WO 96/19442中;化合物 B-5-5描述於WO 99/14187中;化合物B-5.6 (「吡菌苯威
U (pyribencarb)」)以CAS登記編號325156-49-8登記;化合 物 Β-5·7(「安美速(amisulbrom )」或「安博牧(ambromdole )」) 以CAS登記編號348635-87-0登記;化合物B-5.8 ( 3-二氟 甲基-1-曱基-1H-吡唑-4-甲酸(2-二環丙基-2-基-苯基)-醯胺) 描述於WO 03/74491中;化合物B-5.9 ( 3-二氟曱基-1-曱基 -1H-。比唑-4-甲酸(9-異丙基-1,2,3,4-四氳-1,4-甲橋-萘-5-基)-酿胺)描述於WO 04/35589及WO 06/37632中;化合物 B-5-10 ( 1,3-二曱基-5-氟-1H-。比唑-4-曱酸[2-(1,3-二曱基丁 137 201211005 基)苯基]-醯胺)描述於WO 03/10149中;化合物B-5.11(3-二氟甲基-1_曱基_1H-吡唑_4_曱酸(3,,4·-二氣-5-氟-ΐ,ι'_聯苯 -2-基)-醯胺;「必殺芬(bixafen )」)以CAS登記編號 581809-46-3登記且描述於w〇 03/70705中;化合物B-5.12 (N-{2-[3-氯-5-(三氟曱基)。比啶_2_基]乙基丨(三氟甲基)苯 曱醯月女’「氟0比囷醯胺(flU〇Pyrarn )」)以CAS登記編號 658066-35-4登記且描述於w〇 〇4/16〇88中;化合物 B-5.13、化合物B-5.14及化合物B-5.15描述於w〇 2007/17450中;化合物b-5_16、化合物B-5.17及化合物 B-5.18描述於WO 2006/120219中;式IV化合物例如描述 於 WO 04/067528、wo 2005/085234、WO 2006/1 1 1341、 WO 03/01 55 19、WO 2007/020050、WO 2006/0401 13 及 WO 2007/093402中;式v化合物描述於w〇 2001/094339中;
化合物B-21描述於WO 2010/123791中。異派蘭(二氟 甲基)-1-甲基-#-[1,2,3,4-四氫-9-(1-甲基乙基)_M_甲橋萘 -5-基]-1仏。比哇-4-曱醯胺)描述於w〇 2004/035589、WO 2006/037632 及 EP1 556385B1 中且以 cas 登記編號 88 1 685-58- 1登記。賽達森—二環丙基]_2_基苯 基]-3-(—氟曱基)-i_曱基比唾_4_甲醯胺)描述於w〇 2003/074491 中且以 CAS 登記編號 874967-67-6CAS 登記; 式(vi)化合物描述於w〇 2008/01487()中;且式(νπ)化合物 描述於WO 20〇7/〇48556中。氟磺胺草醚以CAS登記編號 72 178-02-0 登記。 3-—氟曱基-1 -曱基-lH-°比唾_4-曱酸(4'-甲硫基-聯苯-2- 138 201211005 • 基)-酿胺(化合物R《1Λ、 5·19)以 CAS 編號 1021864-46-9 登記, -5" 一既甲基-1-甲其1ττ . ! ψ . . ^ 土 ·1Η_吡唑_4'甲酸(2-二氯亞曱基_3_乙基 -1·曱基-印滿-4_基)_醯 打 耿、化D物Β-5·20)以CAS編號登 右例如雲® ^ 勺人一 、疾病控制範圍,則本發明組成物亦可 上活性組分⑻。舉例而言,在農業實踐中使兩
組分⑻與組分τχ組合可能有利。實例為包含式 ⑴化口物、亞托敏及環克座之組成物。 队在上文與Τχ混合之活性成分之不同清單中,式I化合 較佳為表1至表24之化合物 在上文所提及之式1化合物,特別是選自該表1至表 4之化合物與其他殺昆蟲劑、殺真菌劑、除草劑、安全劑、 佐劑及其類似物之混合物中,混合比可在大範圍内變化, 且較佳為刚:…输尤其5〇:1至1:5〇,更尤其2〇:1 至1.20 ’甚至更尤其1G:1至1:1()。將瞭解,彼等混合比一 方面包括重1比,且另—方面包括莫耳比。 「在上文所提及之調配物中宜使用混合物(在此情況下 /舌性成分」係指TX與混合搭配物之各別混合物)^ 一些混合物可包含具有明顯不同物理、化學或生物特 ^生之活性成分,以便其不會容易地適用於同一習知調配物 類型。在此等情況下,可製備其他調配物類型。舉例而言, 在—種活性成分為水不溶性固體且另一種為水不溶性液體 之情況下,仍然有可能藉由使固體活性成分分散成懸浮液 (使用與SC之製劑類似之製劑),而使液體活性成分分散成 139 201211005 乳液(使用與EW之製劑類似之製劑)將各活性成分分散於 同一連續水相+。所得組成物為懸乳液(SE)調配物。 包含如上所述選自表i至表24之τχ及一或多種活性 成分之混合物可例如以單一「預混(readymix)」形式、由 單一活性成分組分之各別調配物構成之組合喷霧混合物形 式(諸如「槽混(tank-mix)」形式)、及以依序方式施用, 亦即在適當短時間(諸如幾小時或幾天)β相繼施用時組 合使用單—活性成分來施用。如上所述選自表i至表24之 式!化合物及活性成分之施用次序對於研究本發明並非必 要。 J^· J ^ 卜艮希|| 上述發明。熟習此項技術者將迅速認識到關於反應物愈關 於反應條件及技術之程序的適當變化。本文所提及 ==全文提及的方式併入本文中。其中化合物由 名稱及結構表示’若有分歧,則結構應視為正確的。 製備實施例: 製備化合物Ε/Ε-1 1.389:
將UE)小(6·甲基_^定_2_基)_乙酮_◦_( 甲其 ίτ;#、 , 、 $ 年1,2-- Τ基_丙基)-肟(8〇.〇 mg)於無水乙醇(2 〇〇 — 填入10 單頸圓底燒瓶中。在 中之溶液 爾下’添加對甲苯續酸 140 201211005 3.3 mg,之後添加2_氯_5,6二氣-7h_環戊三稀并[〜比口定 7酮(48.3 mg )。在室溫下搜拌所得淺黃色溶液3小時。 TLC指示此後無起始物質剩餘。真空移除乙醇。將水(a。 mL)添加至所得殘餘物中,之後添加2μν&〇η水溶液,獲 知pH值在7至8範圍内。使用乙酸乙酯(2χ1〇 進行 萃取。用鹽水洗滌經合併之有機層,經硫酸鈉脫水且過濾。 真空移除溶劑得到綠棕色膠狀物(118mg)。無需進一步*'純 化。 LC-MS ( ZCQ) : UV 偵測:22〇 nm ; Rt = i 52 min。ms: (M++1) = 427,(M++23) = 449。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,U V偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯i: 4 ( v: v ); 標題化合物之Rf=0.39 ’ _起始物質之Rf=〇.29,經胺起始 物質之Rf=0.14。
製備 1,3-雙-[0-(5,6-二氫-2-甲基 _5,6-二氫·7Η-環戊二 烯并[b]°比咬-7-酮將)-2,2-二曱基丙烧(化合物ε/Ε-1 1.047 )
將2-赵胺-0-[3-(胺氧基)-2,2-二曱基丙基]鹽酸鹽(I·?、 (45 mg)於無水乙醇(丨.00 mL)中之溶液填入$ mL單頸 圓底燒瓶中。在授拌下,添加5,6-二氫-2-甲基- 7H-環戍- 141 201211005 烯并[b]比咬-7’( 156 g)。在室溫下持續擾拌3 $小時。 TLC指示此時_已耗盡。藉由添加水(5…淬滅反應。 藉由添加lMNaOH水溶液將PH值調節至a 1()。使用乙 酸乙醋(2x1Gml)進行萃取。用鹽水洗隸合併之有機相, 經琉酸納脫水且過、、舍 亩命交 過濾。真空移除溶劑得到暗紅色膠狀物 (84.8 mg)。無需進—步純化。 LC-MS (方法 ZCQ ) : uv ㈣:22〇 ㈣;^ = i π 心。 MS: (M++l) = 393, (M++23) = 415, (M2 + +l) = 197 0 TLC .培養板:Merck DC板,石夕膠f⑴於顯影槽中 之飽和大氣,uv偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯ι:4(ν^); 標題化合物之Rf=0.15,酮起始物質之Rf=〇25。 ·, 製備化合物E/E-17.047
將2-曱基-6,7-二氫-5H-喹啉_8_酮肟(23〇 mg)於無水 二曱亞石風(2.00 mL)中之溶液填入1〇mL單頸圓底燒瓶中。 在攪拌下將第三丁醇鉀(146 mg)添加至燒瓶中。此後, 在攪拌下加熱反應混合物至60。(:。20分鐘之後,在6〇。〇下 緩k添加至2-甲基-6,7-二氫-5H-喹啉-8-顯]_〇_(環氧乙烷基 甲基)-E-肟( 300 mg)於無水二甲亞砜(2〇〇 mL)中之溶 液至反應混合物中。在6〇t下攪拌所得橙棕色溶液19小 時。反應過程之後進行TLC,其指示此時大量起始物質已 142 201211005 耗盡。藉由添加水(20 mL )淬滅反應’因此觀測到水相之 pH值在7至8之範圍内。使用乙酸乙酯(2x10 mi)萃取所 得溶液。經硫酸納脫水經合併之有機相,過濾且真空移除 溶劑,得到棕色膠狀物(360 mg )。藉由矽膠層析(洗提劑: 庚烷/乙酸乙酯9:1 ( ν··ν)以及0.5% ( v/v)三乙胺)純化粗 物質,得到淺橙色膠狀物。為移除剩餘量之二曱亞硬,用 南真空乾燥該物質’得到撥色膠狀物(1 04 mg )。 LC-MS (方法 ZMD) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 0.95 min。 〇 MS: 409 ([M++l] + ),205 ([Μ++2]2 + ),431 ([Μ++23]+)。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,uv偵測,洗提劑:乙酸乙酯/三乙胺1〇:1 (v:v);標題化合物之Rf=〇.〇9 ’肟起始物質之Rf=〇18,環 氧化物起始物質之Rf= 0 ·3 8。 製備化合物E/E-1.203
用2_曱基-6H-5H-喹啉_8_酮〇_(3_胺氧基_丙 基)-E-肟(47mg; ^顏❶丨)於乙醇(2社)中之溶液填 充在攪拌下,添加溶解於乙醇(imL)中之對 甲苯磺酸(2 mg ; 0,012 mm〇1)及4二氣甲基_2_甲基_6,7_ 二氫-5H-喹啉同(40mg; 〇,19_〇1)。在室溫下攪拌所 143 201211005 付板色 >谷液2小時。反應混合物之等分試樣之TL C分析顯 示此時大量起始物質已耗盡。藉由添加水(1 mL )淬滅反 應’且藉由添加2M NaOH水溶液將pH值調節至14。使用 乙酸乙酯(3 X 1 〇 lni )萃取水相。經硫酸鈉脫水經合併之有 機相’過濾且真空移除溶劑,得到棕色膠狀物(75 mg )。 藉由矽膠層析(洗提劑:二氣曱烷/甲醇)純化粗物質。此 舉得到呈淺黃色膠狀之標題化合物(65 mg )。 LC-MS(方法 ZCQ_0A_3min—30V):UV 偵測:22〇nm; Rt=l,38 min。MS: (M++l)=443。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠f254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:二氣曱烷/曱醇95:5 ( v. 標題化合物之Rf=〇.46,酮起始物質之Rf=0 15,肟起妒 質之 Rf=0.28。 製備化合物E/E-18.047
…胺氧基_2_氟 基)-肟(125 mg ; 1 mmol)於乙醇(2 mL) 士 中之溶液填充 m 1燒瓿。在授拌下,添加溶解於乙醇〔〗 ' 、mL )中之對甲 續酸(11 mg; 0.006 mmol )及 2 -曱基 7 ·~ ,~~'氧-5 Η -啥 口枝. 酮(386 mg ; 2 mmol )。在室溫下授拌普 、巴〉谷'液^ 2 〇 1 a 士 反應混合物之等分試樣之TLC分析顯示此 ^ 寻大部分起始 144 201211005 . 質已耗盡。真空移除溶劑。接著將水(丨mL )添加至殘餘 物中,且藉由添加2M Na〇H水溶液將pH值調節至14。使 用乙酸乙酯(3 X〗〇 ml )萃取反應混合物。經硫酸鈉脫水經 合併之有機相,過濾且真空移除溶劑,得到棕色油狀物(527 mg )。藉由矽膠層析(洗提劑:庚烷/乙酸乙酯)純化粗物 質。此舉得到呈米色油狀之標題化合物(3 3 〇 mg )。 LC-MS(方法 ZCQ_OA—3min_30V): UV 偵測:220 nm ;
Rt=l,12 min。MS: (M++l) = 411。
D TLC :培養板:Merck DC板,石夕膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測’洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:2 ( v: v ); 標題化合物之Rf=0.46,酮起始物質之Rf=〇.21。 製備化合物E/E-2.65 1
N II
❹ 將2,3,5,6,7,8-六氫-111-吖啶-4-酮(1811^;0,9111111〇1) 於甲醇(15 mL )中之溶液填入50 mL單頸圓底燒瓶中。在 擾拌下添;^ 2-甲基-6,7-二氫-5H-喧琳-8-酮0-(3-胺氧基 -2,2-二甲基_丙基)_E_月亏(25〇 mg; 〇·9 mmol)。在室溫下持 續櫈拌15小時。反應混合物之等分試樣之TLC分析顯示此 時起始物質無剩餘。真空移除溶劑得到检色油狀物(3 72 mg )。藉由矽膠層析(洗提劑:環己烷/乙酸乙酯)純化粗 145 201211005 物質°此舉得到呈無色油狀之標題化合物(365 mg )。 LC-MS (方法 ZMD) : uv 偵測:220 nm ; Rt=1.25 min。 MS: (M++l) = 461。 TLC ·培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣’ UV偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯3:7 ( v:v); 標題化合物之Rf=〇 35,酮起始物質之Rf=〇 3〇,肟起始物 質之 Rf=0.84。 製備化合物E/E-2 1.648
將1,3_丙二基-雙-經胺鹽酸鹽( 1:2 )( 238 mg; 1,33 mmol )於甲醇「κ 、 ’ 开、15 mL·)中之溶液填入5〇 單頸圓底燒 瓶中在擾拌T,添加0比σ定(〇.2l mL ; 2.66mmol)及u_ 曱基-7,8,9,1〇-四鈐:^1^_1^" 氧-¼庚二烯开[b]喹啉-6-酮(600 mg ; 2,66 mmol )。在室溫下拉# ’ 卜符續攪拌3小時。真空移除溶劑得到棕 泡沫(980 mg)。Μ a p , 、巴 藉由石夕膠層析(洗提劑:環己烷/乙酸乙 為 1 :1 ( v:v ))推 k 9 進仃純化。此舉得到呈黃色油狀之標題化入 物(250 mg) 〇 ° LC-MS (方法 去 ZMD ): υν 偵測:220 nm ; Rt = 2,01 min MS: (M++1) = 52l。 n。 TLC :培養知.A/r , .Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 146 201211005 . 之飽和大氣,uv偵測,洗提劑:環己烷/乙酸乙酯4:6( v:v); 標題化合物之Rf=〇.35,酮起始物質之Rf=〇46,肟起始物 質之 Rf=0,64。 以下實施例提供有用中間物: 2-曱基-6,7-二氫-5H-嗜琳_8_酮_(^)_月亏 HO\
N 用2-甲基-6,7·二氫-5Η-喹啉_8_酮(7.00 g)( CA寄存編 號:849643-01-2)於無水乙醇(7〇mL)中之溶液填充裝備 有冷凝器之250 mL單頸圓底燒瓶。在攪拌下,首先添加羥 胺鹽酸鹽(4.50g),且接著逐份添加Na〇H ( 8 7〇呂)溶解 於水(14.00 mL)中之溶液,在加熱至回流下持續攪拌6 〇 J時在反應過程之後,TLC指示此時起始物質已耗盡。 冷卻懸浮液至室溫。在攪拌且用冰水冷卻浴冷卻下,添加 10 mL水且藉由添加6 M HC1水溶液將pH值調節至6。使 用乙酸乙酯(2xl〇0ml)進行萃取。用鹽水洗滌經合併之有 機相,且接著經硫酸鈉脫水,過濾且真空移除溶劑,得 黃色固體(7_65 g)。 1 LC-MS (方法 ZMD) : uv 偵測:22〇 nm ; Rt=〇 2〇,吻 (Μ +1) - 177’(M+ +23) = 179;溶點=i77°C-181°C。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠f254,於顯影槽中 之飽和大氣,uv偵測,洗提劑:乙酸乙酯/三乙胺1〇 147 201211005 -0·26,_起始物質之R产0.46。 氣-5Ή-喹啉-8-酮-0-(環氧乙烷基 曱 (V : V );標題化合物之R 製備2-甲基-6,7-二 基)-E -躬·
將2 -曱基- 6,7 -二氫_5Η洛“ 处啥啉I酮-(E)-肟(1.00 g)於無 水二曱亞颯(10 mL )中之湓、、在话 ,合液填入先前已置於氬氣氛圍下 之25 mL反應燒瓶中。在糌牲 件下’添加4M KOH水溶液(1.56 mL )。在室溫下檀拌所媒批A^ 視午所付指色懸洋液2小時,因此懸浮液變 為棕色溶液。接著逐滴添加表氯醇(〇49社)且再在室溫 下持續攪# 5小時。在反應過程之後,tlc指示此時無起 始物質剩下° H由添加過量1M NaC)H水溶液淬滅反應。使 用第一丁基曱ϋ ( 2 X 1 5 m 1)進行萃取。經石泉酸納脫水經合 併之有機層,過濾且真空移除溶劑,得到棕色油狀物(12〇 g)。藉由矽膠層析(洗提劑··庚烷/乙酸乙酯7:3 ( v:v)以 及〇. 5體積%二乙胺)純化此原料。獲得呈淺黃色油狀之標 題化合物2_甲基-6,7-二氫- 5H-喹啉_8-酮-0-(環氧乙烷基曱 基)-E -月亏(48〇η^)。 LC_MS(方法 ZMD): UV 偵測:220 nm; Rt = 0,78 min。 MS: 233 ([M+l] + ),255 ([M+23] + )。 TLC ·培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:乙酸乙酯/三乙胺i 0:1 〔v:v );標題化合物之Rf=〇.29。 148 201211005 製備2- f基_6,7-二氫-5H-喹啉_8-嗣_〇_(3_胺氧基_2,2_ 二甲基-丙基)-E-肟
將羥胺-〇_[3_(胺氧基)_2,2_二甲基丙基]鹽酸鹽(U) U1.7 g)於無水乙醇(300 mL)中之溶液填入先前已置於 氬氣氛圍下之500 mL反應燒瓶中。在攪拌下,添加對甲笨 磺酸(1.2mg),之後逐滴添加溶解於無水乙醇(3〇mL)中 之2-曱基-6,7-二氫-5H-喹啉-8-酮(6.77 g)。在室溫下攪拌 所得黃色溶液1.5小時。在反應過程之後,tlc指示此時盔 起始物質剩下。真空移除乙醇。接著添加碳酸氫鈉水溶液 (150 mL)。使用乙酸乙酯(2x100 ml)進行萃取。經硫酸 鈉脫水經合併之有機層’過濾且真空移除溶劑,得到米色 油狀物(10.9g)。藉由石夕膠層析(洗提劑:庚烧/乙酸乙酉旨 2:1 ( v:v )以及1體積%三乙胺)純化此原料。此後進行 RP-HPLC 層析(Separation Laboratory :方法 1〇 至 4〇 )。辞 得呈淺黃色膠狀之標題化合物(6 · 〇 〇 g)。 LC-MS (方法 ZMD ) : UV 偵涓丨J : 220 nm ; Rt = 0.83 min。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,U V偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:2 ( v: v ); 標題化合物之Rf=0.n。 製備2 -甲基_6,7_二氫- 酮- 〇-(2 -曱基-環氧乙 149 201211005 烧基曱基)-肪
向保持在氯氣角閱 P w '、圍下之1〇〇 單頸圓底燒瓶中填充 E_l-(6_甲基-2-吡咜A、 土)'己酮-E-肟(6_0〇 g)於無水丙酮(35 mL )中之溶液。在撸 ^ 視许下,逐份添加細粉狀NaOH( 3.20 g )。 、至咖下持續攪拌4.5小時,得到淺镫色懸浮液。接著使用 # 射1*°將α甲基表氣醇(6.08 g )溶解於無水丙酮(5_00 mL ) 中之溶液緩慢添加至燒瓶中。接著當TLc指示起始物質已 耗进時’在授拌下加熱所得混合物至回流2.5小時。冷卻懸 浮液至室溫且接著過濾。用無水丙酮洗滌濾餅。將水(5〇 mL)添加至濾液中,得到pH值在7至8範圍内。使用乙 酸乙酯(2χ 100 ml )進行萃取。經硫酸鈉脫水合併之有機相, 過濾且真空移除溶劑,得到橙色油狀物(12.0 g )。藉由矽 膠層析純化粗物質(洗提劑:庚烷/乙酸乙酯為95:5( v:v))。 此舉得到呈黃色油狀之1-(6-曱基-吡啶-2-基)-乙_ -0'(2-甲 基-環氧乙烷基甲基)-肟(7.35g)。 LC-MS (方法 ZCQ) : UV 偵測:220 nm ; Rf1.21 叫。 MS: (M++1) = 221,(M+ + 23) = 243。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F 2 54 ’於顯影槽中 之飽和大氣,U V偵測,洗提劑:庚炫/乙酸乙酯1 ·2 ( v.v ); 榡題化合物之Rf=〇.37,肟起始物質之Rf=0.29 ° 150 201211005 ' 製備2_甲基_4_甲硫基_5,6,7,8-四氫-喹啉_8-醇:
OH
用 4-氣-2-甲基-5,6,7,8-四氫·喹啉 醇(〇·9 g; 4 55 mm S子)於DMF( 27 mL )中之混合物填充裝備有冷凝器之燒瓶。 〇在攪拌下,添加曱硫醇鈉(1.6 g ; 22.77 mmol)且在加熱至 回μ下搜拌所得混合物3小時。冷卻所得溶液至室溫且用 水及2MNa〇H水溶液稀釋。用乙醚萃取反應混合物。經硫 齔鈉脫水經合併之有機相,過濾且真空移除溶劑,得到黃 色膠狀物(600 mg ),其以原樣用作於下一步驟。 LC MS( ZCQ ) . UV 偵測:220 nm ; Rt=〇.23,MS: (M++1) =210。 製備2_甲基_4-曱硫基-6,7-二氫-5H_喹啉-8-酮:
用2甲基·4-甲硫基-5,6,7,8-四氫-喹啉_8-醇( 500 mg; 2.4 mmol)於惫/士, 、乳仿(10 mL )中之混合物填充裝備有冷凝器 之燒瓶。錢拌下添加氧化猛(lv) (83〇叫),且在加熱至 。流下擾拌所得黑色懸浮液丄8小時,此後TLc指示無起始 151 201211005 物為剩餘。使所得黑色物質回到周圍溫度且經hyflo過濾, 之後藉由矽膠層析(溶離劑:庚烷/乙酸乙酯)純化。此舉 知到呈橙色固體狀之標題化合物(420 mg)。LC-MS( ZCQ): UV 谓測.220 nm ; Rt = 0.2 min。MS: (M++1) = 208。 衣備4-曱烷磺醯基_2-甲基_6,7_二氫-5H-喹啉-8-酮:
在匸下向2-甲基-4-曱硫基_6,7-二氫-5H-喹琳-8-_ ( §,〇·53 mm〇l)於二氯甲烷(10mL)中之溶液中添 加碳酸氫納(267 mg ; 3.18 mm〇l)於水(3.5 mL)中之溶 液。1小時之後,在旳下經!小時緩慢添加3_氣過苯甲酸 (183mg,⑽職⑴於二氣f烷(35mL)中之溶液 〇°C下攪拌所得溶液3〇分榇,垃t + /夜30刀鉍接耆在周圍溫度下攪拌12小 時。在反應過程之播 丁了「如+ 之後TLC私不此時起始物質並未完全耗 盡:因此再添加相同…-氣過笨甲酸且再授拌混合物幾 杨。分離反應混合物之各相且用二氣甲烧萃取水層。姐 硫酸鈉脫水經合供之右擤细,讲 '工 併之有機相過濾且真空移除溶劑。藉由 矽膠層析(洗提劑:庚烷/乙酸乙 1.1 ( v ·v ))純化所得物 質。此舉得到呈黃色固體狀之;韻π人 ZCQ): UV 债測:220 nm; Rt = 1,〇6 . 汽巳固収狀之钻4化合物(90mg)。lc_Ms min。MS: (M++1) = 240 曱基6,7 -—鼠_511-〇奎°林-8-綱__(2)月亏 152 201211005
用2 -甲基-6,7 -二氫_5H a 風5H-喹琳_8,( 7〇 號:849643_01-2)於無水乙醇(7〇…(寄存編 有冷凝H之25GmL^ (,虹)中之溶液填充裝備 千鸿W底燒瓶。在攪掉 胺-鹽酸鹽(4.50g), 仏、、加經
於水WiO中之溶液。在;^Na〇H(8.7Gg)溶解 在加熱至回流下持續授拌6 〇 小時。在反應過程之後 "攪件6.0 扣不此時起始物質已耗盡。 冷卻懸洋液至室溫。在撥採 攪拌且用冰水冷卻.浴冷卻下,添加 1〇mL水且精由添加⑽聰水溶液將PH值調節至6。使 用6酸乙醋(2x100ml) $行萃取。用鹽水洗條經合併之有 機相,且接著級硫酸 黃色固體(7.65 g)。 標題化合物之分析資料: + LC-MS (方法 ZMD) : uv 摘測:22〇 ; Rt=〇 2〇,⑽ (Μ +1) l77’(Μ+ +23) = 179;熔點=177。〇181。(:。 TLC ·培養板:Merck DC板,矽膠by,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:乙酸乙酯/三乙胺1〇:] (V.V),心題化合物之Rf=〇.26,酮起始物質之Rf=〇 46。 以下起始物質之製備描述於以下文獻中:
CA 登記編號:849643-01-2 153 201211005 美國專利申請公開案(2005),第75頁,美國專利第 437,807 號之部分接續申請案。CODEN: USXXCO US 2005075366 A1 20050407 η2ν〆 、NH2_2HCIca 登記編號:1〇34433_68 5 PCT 國際申請案(2008),第 187 頁。CODEN: PIXXD2 WO 2008074418 A2 20080626
\—N // \f CA 登記編號:18103-88-3
Talanta (1969), 16(3), 448-52 ; DE 2447258 (19760408); Journal of Heterocyclic Chemistry (1968), 5(2),161-4。 製備4-氣-2-曱基-6,7-二氫-8(5H)-喹啉酮
步驟A) 154 201211005
在氮氣氛圍下將4-羥基-2-甲基喹琳(1 〇.〇 g ) ( CA登 記編號:607-67-0 )填入含有無水乙醇(90.0 mL)之反應 器中。在攪拌下,將雷氏鎳(2.0g)於無水乙醇(1〇.〇 mL) 中之懸浮液添加至反應混合物中。接著用氫氣置換氮氣氛 圍。在75°C下在1〇〇巴氫氣氛圍下攪拌反應混合物22小 時,此時藉由TLC分析反應混合物指示起始物質已耗盡。 濾、出催化劑且真空移除溶劑,得到白色固體(8.3 5 g )。化 合物以原樣用於下一步驟。 LC-MS ( ZCQ) : UV 偵測:220 nm ; Rt=0.40 min。MS: (M++l)164;熔點=237°C-240°C。 TLC :培養板:Merck DC板,石夕膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:二氣曱烷/甲醇9 :1 ( v: v ); 標題化合物之Rf=〇.22,喹啉起始物質之Rf=0.34。 步驟B)
在氬氣氛圍下用2-甲基-5,6,7,8-四氫-嗜淋-4-醇(4.00 g)於氧氯化鱗(18.3 mL)中之溶液填充裝備有冷凝器之 50 mL單頸圓底燒瓶。在i〇〇°C下攪拌所得無色溶液3.5小 155 201211005 時,此後TLC指示無起始物質剩餘。真空移除溶劑且小心 且缓慢添加熱水(40°C至50°C)至殘餘物中,以水解剩餘 氧氯化填。在用冰水冷卻浴冷卻下,藉由添加4 M Na〇pj水 溶液將pH值調節至12。使用氯仿(2x5〇 ml)萃取所得溶 液。用鹽水(25 mL )洗滌經合併之有機層,且接著經硫酸 鈉脫水,過濾且真空移除溶劑,得到淺黃色油狀物(4.Η g )。化合物以原樣用於下_步驟。 LC-MS ( ZMD) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 〇·87 min。 MS: (M + +1) = 182。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,uv偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:4(v:v).; 標題化合物之Rf=0.40,喹啉醇起始物質之Rf=〇。 步驟C)
•Φ- / 5〇 .,,一乳王价、mg ;於乙酸 〇·49社)中之溶液填充裝備有冷凝器之25 mL單頸圓 Μ °在_下’⑼苯甲酸(〇·34 mL)且在加熱至回 下挽掉所得黃色溶液3.5小時。在反應過程之後,TLC扑 此時起始物質已耗盡。冷卻所得棕色溶液至室溫。添加 156 201211005 - 冰且使用少量2M NaOH水溶液將pH值調節至1 〇。使用乙 酸乙酯(2 X20 ml )進行萃取。經硫酸鈉脫水經合併之有機 相,過濾且真空移除溶劑’得到棕色膠狀物(750 mg )。藉 由矽膠層析(洗提劑:庚烷/乙酸乙酯為98:2 ( v: v ))純化 粗物質。此舉得到呈黃色油狀之所需化合物(263 mg ) » LC-MS (方法 ZMD) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 2.23, MS: (M++1) = 270。 〇 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣’ UV偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯9:1 ( v:v); 標題化合物之Rf=0.44,氯喹琳起始物質之Rf=〇〇9。 步驟D)
用8-苯亞甲基-4-氯-2-甲基_5,6,7,8-四氫-喹啉(263 mg) 於二氣甲烷/甲醇(2.0:3:8mL)中之溶液填充單頸圓 底燒瓶。在攪拌且用乾冰丙酮冷卻浴冷卻至_78t:下,使臭 氧穿過反應混合物3分鐘,直至觀測到淺藍色。接著在_78它 下添加曱硫醚(2.G mL)。接著使反應混合物達到室溫且授 拌4小時。真空移除溶劑,接著使所得撥色膠狀物溶解於 乙醚中,且添加HC1水溶液(1M ; 5 mL)。使用乙醚( mL)萃取酸性副產物。添加碎冰至水層且藉由添加2μν顧 157 201211005 水溶液將pH值調節至l〇。使用氣仿(2x20 ml)萃取所得 溶液。經硫酸鈉脫水經合併之有機層,過濾且真空移除溶 劑,得到黃色固體(96 mg )。 標題化合物之分析資料: LC-MS (方法 ZMD) : uv 偵測:220 nm ; = 1.28, MS: (M++1) = 196。 TLC :培養板:Merck DC板’矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣’ UV偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯4:1 ( v,v). 標題化合物之Rf=0·04,苯亞曱基起始物質之Rf=〇 59。 以下起始物質之製備描述於文獻中且可購得·
登記編號:607-67-0 製備2,4-二甲基-6,7-二氫- 8(5 H)-啥琳酮
步驟A)
158 201211005 - 用4-氣-2-曱基-5,6,7,8-四氫喧琳(500 mg )於1,2-二氯 乙烧(2.5 0 mL)中之溶液填充5 mL微波管。在攪拌下, 添加二甲基蝴氧經三聚物(trimethyib〇roxine) ( 380 mg)、碳 酸鉀(647 mg)及工氣⑴丨,-雙(二苯膦基)二茂鐵]纪(11)二氯 甲烧加合物(1 〇 i mg ),且在氬氣下使所得紅色懸浮液除氣 5分鐘。使反應混合物經受i2〇°c之微波輻射ο.〗小時。在 添加新的一部分三曱基硼氧烴三聚物(2x38〇 mg)及催化 ^ 劑(101 mS)之後,使反應混合物再經受1201:之微波輻射 2x0.5小時。在反應過程之後,TLC指示此時起始物質已耗 盡。藉由矽膠層析(洗提劑:庚烷/乙酸乙酯4:丨(v:v ))純 化所得棕色物質。此舉得到呈淺棕色油狀之所需化合物 (345 mg )。 LC-MS (方法 ZMD ) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 0.75, MS: (M++l) = 162。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 Q 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:2 ( V:”; 標題化合物之Rf=0.28,氯喹啉起始物質之Rf=〇.4〇。 步驟B)
將2,4-二甲基-5,6,7,8-四氫-喧琳(150 mg)填充至含有 氯仿(1.50mL)之10mL單頸圓底燒瓶中。在攪拌且用冰 159 201211005 水冷卻浴冷卻下,逐份添加3-氯過苯甲酸(344 mg )。在室 溫下攪拌所得橙色溶液5小時,此時藉由TLC分析反應混 合物指示起始物質已耗盡。在用冰水冷卻浴冷卻下’藉由 添加NaOH水溶液(4M ; 2.0 mL)將pH值調節至pH 12。 使用氣仿(3 X 10 ml )萃取所得溶液。用鹽水(1 0 mL )洗 滌經合併之有機層,且接著經硫酸鈉脫水,過濾且真空移 除 >谷劑’得到淺撥色膠狀物(1 8 0 m g )。此中間物以原樣用 於下一步驟。 LC-MS ( ZMD) : UV 债測:220 nm ; Rt = 1,26 min。 MS: (M++1) 178。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽申 之飽和大氣,U V偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:2 ( v: v ); 標題化合物之Rf=0,喧1#起始物質之Rf=0.28。 步驟C)
在氬氣氛圍下用2,4-二甲基-5,6,7,8-四氫-喹啉-1-氧化 物(334 mg)於二氣甲烷(2.00 mL)中之溶液填充裝備有 冷凝器之25 mL單頸圓底燒瓶。在攪拌且用冰水冷卻浴冷 卻下,逐滴添加三氟乙酸酐(2.66 mL )且在加熱至回流下 攪拌所得橙色溶液22小時。在反應過程之後,TLC指示此 160 201211005 時起始物質已耗盡。冷卻所得棕色溶液至室溫。添加碎冰 且使用Na〇H水溶液(2M; 5机)將pH值為調節至η。 使用二氯甲烷(3x10 ml)進行萃取。經硫酸鈉脫水經合併 之有機相’過據且真空移除溶劑,得到暗棕色膠狀物(226 mg )。此中間物未經進一步純化即用於下一步驟。 LC-MS (方法 ZMD):UV 偵測· 22〇_;心=〇25, MS: (M++1) = 178, (M+ -18) = 16〇 〇
TLC·培養板:Merck DC板,石夕膠F254 ,於顯影槽中 之飽和大氣,UV谓測,洗提劑:庚烷/乙酸乙社4(v.v); 標題化合物之Rf=〇.〇8,氧化噎啉起始物質之h〇。 步驟D)
仿Γ2ηη,4-—甲基_5,6,7,8-四氫-啥琳―8·醇( 226 mg)於氣 乙)中之溶液填充裝備有冷凝器之25 mL·單頸圓 二Γ二:攪:下添加氧化猛(IV)( 443叫),且在加熱至 物質剩餘i所侍黑色懸浮液1M、時,此後TLC指示無起始 w至i '藉由石夕膠層析(洗提劑:庚烧/乙酸乙醋梯度為 …上v:v))純化所得黑色物質。此舉得到呈橙色膠狀 之私碭化合物(78 mg)。 標題化合物之分析資料: 161 201211005 LC-MS ( ZMD) : UV 偵測:22〇 腿;Rt = 〇 34 。 MS: (M + +l) = 176。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測’洗提劑:庚烷/乙酸乙酯ι:4 ( . 標題化合物之〇· 1 1,喹啉醇起始物質之Rf=〇 〇8。 製備9-甲基·2,3 -二氫- 丫咬_4_酮
步驟Α)製備9_甲基-1,2,3,4-四氫吖咬:
在圓底燒瓶中’加熱環己酮(6.1 mL,58 mmol )至9〇 且添加小部分2-胺基苯乙酮鹽酸鹽(1〇 g ; 58 )。接 著燒瓶裝備有冷凝器,且再在丨1(rc下加熱粗產異質混合物 隔夜。在冷卻至室溫之後,將紅橙色固體溶解於乙醇/ HCl (12N) [95/5 ( v/v)]中。接著用Na〇H水溶液中和溶液。 蒸發乙醇,且用乙醚(2xl〇〇mL)萃取產物。用水(2χΐ〇〇 mL )洗滌經合併之有機層,經硫酸鎂脫水,過濾且減壓移 除溶劑。最終獲得呈棕黃色固體狀之所需產物(i〇 2 g, 89〇/。)。4 NMR (200.13 1 MHz; CDC13) δ(ρρηι): 7·94 ⑽,3j = 162 201211005 - 8.3 Hz and V = U Hz, 1H),7.87 (dd,V = 8.3 Hz and 4J = 1.3 Hz, 1H), 7.55 (ddd, V = 8.3 Hz, 3J = 8.3 Hz and V= 1.3 Hz, 1H), 7.38 (ddd, 3J= 8.3 Hz, V = 8.3 Hz and V = 1.1 Hz, 1H),3·07 (t br,4= 6.7 Hz,2H),2_79 (t br,V= 6·1 Hz,2H), 2.43 (s,3H),1_86 (m,2 x 2H)。13C NMR (50.332 MHz, CDC13) δ(ρρηι): 157.8,145.5,140.6,128.0,126.4, 128.6,127.6, 124.8,122.9, 34.2, 26.5, 22.8, 22.4,12.9。HRMS (El) m/z: [M] +之計算值(實驗值):197.12〇4 (197 1198)。Ci4h15N 之 分析計算值(實驗值):C 85.24 (85.25); Η 7.66 (7·72); N 7.10 (6.78)。 步驟B)製備N_氧化_9_曱基-^肛四氫吖啶:
在〇°C下將3-氯過苯曱酸(26 g,105 mmol)於二氣曱 烷(300 mL)中之溶液緩慢添加至9_曱基-mg-四氫吖啶 、10.2 g,52 mmol)於二氯甲烷(1〇〇 m]L)中之溶液中。在 室溫下攪拌混合物4小時且用Na(3H水溶液淬滅。再用水 、5x 1 00 mL )洗滌有機層且經硫酸鎂脫水,且減壓移除溶 劑,得到呈淺棕色固體狀之所需產物(丨〇 83 g,98%)。lH nmr (200.131 MHz, CDC13) 6(ppm): 8.77 (dd, 3J = 8.5 Hz and V = 1.2 Hz,1H),7.97 (dd,V = 8.5 Hz and V = 〇·9 Hz,1H) 7.70-7.50 (m,2xlH),3.19 (t,3J= 6.1 Hz, 2H),2.85 (t, 3/ = 163 201211005 6.2 Hz, 2H), 2.51 (s, 3H), 1.88 (m, 2 x 2H)〇 ,3C NMR (50.332 MHz, CDC13) 5(ppm): 146.7, 139.1, 13 1.6, 129.9, 127.7, 129.0,127.3,123.9,Π9·6,27.1,26.6,22.0, 21.4,13.4。 HRMS (El) [M] +之計算值(實驗值):213.1 154 (213.1 1 59)。 步驟C)製備9-曱基-1,2,3,4-四氫吖啶_4_醇:
在裝備有回流冷凝器之兩頸圓底燒瓶中,將iV-氧化-9-甲基-1,2,3,4-四氫吖啶(u,2 g ’ 52 mmol)溶解於二氣曱烷 (25 0 mL )中。在室溫下缓慢添加三氟乙酸酐(1 7 mL,1 20 mmol )(該反應為放熱反應)。攪拌溶液5小時,且蒸發溶 劑。將粗固體溶解於甲醇(5〇 mL)中且藉由K2C〇3水溶液 (2M ; 1 50 mL )皂化;沈澱標色固體。減壓移除曱醇,且用 二氯曱烷(2x150 mL)萃取產物。用鹽水(2x50 mL)洗滌 經合併之有機層,經硫酸鎖脫水且蒸發至乾燥β回收呈掠 色固體狀之所需產物(9.4 g,84% )。4 NMR (200.1 3 1 MHz, CDCI3) δ(ρρπι): 7.96 (d, 3J= 8.3 Hz, 1H), 7.91 (d, 3J= 8.4 Hz, 1H), 7.58 (dd, 3J= 8.3 Hz and 3J= 8.1 Hz, 1H), 7.45 (dd, 3J = 8.1 Hz and 3J = 8.4 Hz, 1H), 4.95 (s br, 1H), 4.76 (dd, 3J = 10.3 Hz and 3J = 10.0 Hz, 1H),2.89 (m,2H),2.54 (s, 3H), 2.40-1.92 (2xm, 2xlH), 1.82 (m, 2H)° ,3C NMR (50.332 MHz, CDCI3) 5(ppm): 159.2, 145.3, 142.0, 127.7, 127.3, 129.2, 164 201211005 -128.5, 126.〇, 123·5, 7〇.2, 30.3, 26.7, 19.6, 13.8。HRMS (EI) [M]之^十异值(實驗值):213.1153 (213.1154)。 乂驟〇)製備9-曱基-2,3-二氫-17/-吖咬-4-_:
0 在室溫下向9_甲基-1,2,3,4-四氫吖啶-4-醇(9.4 g,44 mm〇1 )之一氣甲烷溶液(300 mL)中添加氧化錳(IV)( 23 g, 264 mmol ) ’且攪拌異質溶液2天。在經石夕藻土過濾之後, 蒸發溶劑。藉由管柱層析法(中性氧化鋁、二氣曱烷作為 洗提液)純化粗黑色固體。在溶劑蒸發之後,回收呈淺棕 色固體狀之標題化合物(5.41 g,58%)。4 NMR (200.131 MHz, CDC13) δ(ρρπι): 8.31 (dd, 3J = 8.1 Hz and AJ = 0.8 Hz, 1H), 7.94 (dd, 3J = 8.0 Hz and 4J = 1.4 Hz, 1H), 7.67-7.51 (m, Q 2H), 3.08 (t, 3J= 6.1 Hz, 2H), 2.82 (t, V = 6.4 Hz, 2H), 2.60 (s,3H),2.22 (m,2H)。13C NMR (50.332 MHz,CDC13) δ(ρρπι): 198.2, 148.4, 146.9, 143.6, 134.1,129.4, 132.4, 129.6, 128.9, 123.8, 40.2, 27.2, 22.4, 14.5。HRMS (El) m/z [M] +之計算值 (實驗值):21 1.0997 (21 1.0989)。C14H13NO 之分析計算值(實 驗值):C 79.59 (79.72); Η 6.20 (6·28); N 6.63 (6.10)。 製備2-甲基-4-苯氧基-6,7-二氫-5Η-喹啉-8-酮 165 201211005
步驟A)製備氧化4_氯_2-曱基-5,6,7,8-四氫-喹啉:
在圓底燒瓶中’在室溫下於氯仿(1 7 mL )中攪拌4-氣-2-曱基- 5,6,7,8 -四氫-啥嚇_ (3.0 g’ 17 mmol),得到淺掠 色溶液。使用冰浴冷卻溶液至〇。〇。在此溫度下,經5分鐘 逐份添加3-氯過苯甲酸(6· 1 g ’ 25 mmol ),得到黃色懸浮 液。在〇°C下攪拌反應混合物1 〇分鐘’且接著移除冰浴。 使反應混合物升溫至室溫,且在彼溫度下再攪拌5小時, 得到黃色懸浮液。接著使用冰浴冷卻反應。將水及氫氧化 鈉水溶液(4N ; 25 mL )添加至反應混合物中,得到pH 14 之反應混合物。用氣仿(30 mL )萃取反應混合物兩次。使 用硫酸納脫水有機部份且減壓濃縮,得到淺黃色固體(3.3 6 g)。LC-MS (方法 ZMD) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 1.39, MS: (M++l) = 198。 步驟B)製備4 -氣-2-曱基-5,6,7,8-四氮-啥琳-8-醇: 166 201211005
製備4-氯-2-甲基-5,6,7,8-四氫-喹啉_8_醇:在圓底燒瓶 中’在室溫下於二氯甲烷(16 mL )中攪拌1_氧化4-氯-2-甲基-5,6,7,8-四氫-喹啉(3.丨g,16mm〇1),得到黃色溶液。 使用冰洛冷卻溶液至〇。(:。在此溫度下’經1 〇分鐘經由注 〇 射器添加三氟乙酸酐(17.7 mL,125 mmol )。在0。(3下攪拌 反應混合物1 5分鐘’且接著移除冰浴。使反應混合物升溫 至室溫,且在彼溫度下再攪拌5小時,得到黃色溶液。接 著使用冰浴冷卻反應’且經20分鐘將氫氧化鈉水溶液(8N ; 3 5 mL )添加至反應混合物中,得到橙色懸浮液,再在室溫 下授拌4小時。用二氯曱烷(50 mL )萃取反應混合物兩次。 使用硫酸納脫水有機部份且減壓濃縮,得到淺黃色固體 (2.75 g )。此物未經進一步純化即可使用。mp = 87°C至90。(^ U 步驟C) 2-曱基-4-苯氧基_5,6,7,8-四氫-喹啉-8-醇:
OH
在5 mL封閉Supelco容器中,在室溫下於1_甲基_。比〇各 咬_ ( 1.0 mL)中攪拌苯酚(3,1 g,μ mmol),得到無色 167 201211005 溶液。將雙(三τ基秒炫基)胺基釣(G.232 g,1 265麵〇ι) 添加至此溶液中,得到淺黃色懸浮液。在室溫下擾摔此物 40分鐘,產生米色溶液。經由注射器將4_氯_2、甲其$ 6 7 8 四氣H8-醇(2.5 g,H mm〇l)於^甲基^比咯啶酮 (15 mL)中之溶液緩慢添加至反應混合物中,得到黃色懸 斤液。在60〇C下擾拌反應混合物!小時,得到暗綠色溶液。 接著在mt:下攪拌9〇分鐘,得到紅棕色溶液,之後再在 16〇°C下㈣2小時,產生棕色溶液。此時,將反應混合物 轉移至10 mL Tiny Clave中且在175t下檀拌16小時得 到暗棕色溶液。使反應混合物冷卻至室溫,且接著添加水 及氫氧化納水溶液(2N; 3〇mL)。用乙鍵(2〇mL)萃取反 應混合物兩次,且接著用水(2()mU洗㈣合併之有機層 兩:。經硫酸鈉脫水有機層’且減壓濃縮得到黃色膠狀物。 再错由二氧化矽急驟層析法(洗提劑:庚烷:乙酸乙酯2:1) 、屯化此膠狀物。此舉得到冑色膠狀物(〇 〇9呂)。 物未、,二進纟純化即可使用。此物未經進一步純化即可 使用。 LC MS (方法 zmd) : UV 债測:220 nm ; Rt = 1.00, MS: (M++1) = 256。 v驟D)製備2-曱基_心苯氧基_6,7_二氫_5H_喹啉_8_ m : 168 201211005
在裝備有冷凝器之圓底燒瓶中,在室溫下於氯仿(2 mL)中授拌2_甲基-4-苯氧基- 5,6,7,8-四氫-喹琳_8_醇(0.09 g,0·35 mmol ),得到黃色溶液。向反應混合物中添加氧化 錳(IV) (0.12 g,1.4 mm〇l)得到黑色懸浮液。在回流下攪 拌此物74小時,產生黑色懸浮液。此時,使反應混合物回 到室溫。過攄反應混合物,且用氯仿(1〇mL)洗條滤餅兩 次。此舉得到暗棕色膠狀物(0.lg),其藉由二氧化矽急驟 層析法(庚烷:乙酸乙自旨1:1)純化。此舉得到黃色膠狀物 (0.0154g)〇
LC-MS (方法 ZMD 广 UV 偵測:22〇 nm;心=ιι8 MS: (M++1) = 254。 製備 2-甲 氫-5H-喹啉-8-酮 基-4-吡咯啶-1-基-6,7-二
步驟A) 製備1_乳化乳甲基 6,7,8-四氫-喧琳 169 201211005 ο
在圓底燒瓶中,在室溫下於氣仿(17 mL )中授拌4_ 氯-2 -曱基- 5,6,7,8 -四氫-喹啉(3_0g,17 mmol ),得到淺標 色溶液。使用冰浴冷卻溶液至〇。〇。在此溫度下,經5分鐘 逐份添加3 -氣過苯曱酸(6.1 g,25 mmol ),得到黃色懸浮 液。在0°C下攪拌反應混合物丨0分鐘,且接著移除冰浴。 使反應混合物升溫至室溫,且在彼溫度下再攪拌5小時, 得到黃色懸浮液。接著使用冰浴冷卻反應。將水及氫氧化 納水溶液(4 N ; 2 5 m L )添加至反應混合物中,得到ρ η 14 之反應混合物。用氣仿(30 mL )萃取反應混合物兩次。使 用硫酸鈉脫水有機部份且減壓濃縮,得到淺黃色固體(3.3 6 g)。 LC-MS (方法 ZMD) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 1.39, MS: (M++l) = 198。 步驟B)製備4-氣-2-曱基-5,6,7,8-四氫-喹啉-8-醇:
在圓底燒瓶中,在室溫下於二氣甲烷(1 6 mL )中搜拌 卜氧化4-氣-2-曱基-5,6,7,8-四氫-喹淋(3 · 1 g,16 mmol ), 170 201211005 得到黃色溶液。使用冰浴冷卻溶液至〇t:。在此溫度下,經 ίο分鐘經由注射器添加三氟乙酸酐(17.7 mL,l25 mm〇丨)。 在〇 C下攪拌反應混合物丨5分鐘,且接著移除冰浴。使反 應混合物升溫至室溫,且在彼溫度下再攪拌5小時,得到 黃色溶液。接著使用冰浴冷卻反應,且經20分鐘將氫氧化 鈉水溶液(8N ; 35 mL )添加至反應混合物中,得到橙色懸 浮液,再在室溫下攪拌4小時。用二氯甲烷(5〇mL)萃取 反應混合物兩次。使用硫酸鈉脫水有機部份且減壓濃縮, 得到淺黃色固體(2.75g; mp = 87。。至9〇。〇。此物未經進 一步純化即可使用。mp = 87°C至90°C。 步驟C)製備2-曱基_4_吼咯咬四氫-喧啉
在10 mL Tiny Clave中,在室溫下於吡咯啶酮(丨7 , 20 mmoU中攪袢4_氣_2_甲基_5,6,7,8_四氮_喧琳_8_醇(〇.4 g ’ 2_0 mmol) ’仟到黃色溶液。接著在下攪拌反應混 合物8小時’得到棕色溶液。接著使反應混合物回到室溫。 接著添加水及氫氧化納水溶液(2N;5mL)。用乙喊(Μ) 萃取反應混合物兩次’且接著用鹽水(i〇mL)洗滌經合併 之有機層°經㈣㈣水有機層,且減壓濃縮得到掠色膠 171 201211005 狀物(0.5 g )。經二氧化矽過濾此膠狀物。用氯仿:甲醇之 95 :5混合物洗滌慮餅。減壓濃縮濾液得到黃色固體(〇.4 g )。mp = 97。。至 98°C 0 步驟D)製備2-曱基-4-吡咯啶―卜基_6,7-二氫-5H-喹啉 -8-酮: Ο
在裝備有冷凝器之圓底燒瓶中,在室溫下於氯仿(2 mL)中攪拌2-曱基-4-吡咯啶_ι_基_5,6,7,8-四氫-喹啉-8-醇 g,1·5 5 mmol),得到黃橙色溶液。向反應混合物中添 加氧化猛(IV) ( 〇_54 g,6.198 mmol)得到黑色懸浮液。在 回流下攪拌此物74小時,產生黑色懸浮液。此時,使反應 混合物回到室溫。過濾反應混合物,且用氯仿(1 5 mL )洗 務渡餅兩次。此舉得到暗棕色膠狀物(〇.38 g ),其藉由二 氧化♦急驟層析(洗提劑:氯仿/甲醇95 :5 )純化。此舉得 到黃色膠狀物(〇. 〇 1 5 4 g )。 LC-MS (方法 ZMD) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 〇.18, MS: (M + +l) = 23 1 〇 製備2-曱氧基甲基-4-曱基-6,7-二氫-5Η-喹啉-8-酮 172 201211005 N‘
步驟A)製備(4-甲基_5,6,7,8_四氯-啥琳_2_基)_甲醇:
〇 用(4-f基_啥琳_2_基)_甲醇(9g; 52匪〇1)於三氣乙 酸(90 mL)中之溶液及氧化鉑(IV)水合物於三氟乙酸中之 懸浮液填充反應器。在2rc/4巴/H2吸收99%下2小時之 後,NMR控制(iHNMR,在肖迎3水溶液基礎處理樣品之 後CDCh)指示完全且清潔轉化。濾出催化劑,且真空移除 溶劑,得到暗棕色油狀物。在冰冷卻下,用水(35mL)稀 釋此油狀物,且藉由謹慎添加8M Na〇H水溶液將pH值調 〇 希至pH 14。使用乙酸乙酯(3xlo〇 ml)進行萃取。經硫酸 納脫水經合併之有機層,過濾且真空移除溶劑,得到棕色 膠狀物。藉由石夕膠層析純化所得物質,得到呈米色固體狀 之標題化合物(4.4 g)。 .LC-MS (ZCQ) UV 债測:220 nm ; Rt = 〇·23,MS: (M++1) =178。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠ρ254,於顯影槽中 之飽和大氣’ UV偵測’洗提劑:乙酸乙酯;標題化合物之 Rf=0.11,起始物質之R尸0.26。 173 201211005 琳 步驟B)製備2_甲氣基甲 基-4-甲基-5,6,7,8-四
在氮氣下,用(4-甲基_5,6,7,8_四氣m基)_甲_ (〇 · 5 g ; 2.8 mmo 1 )於四氫咕成,。、 乳夫味(3 mL)中之溶液填充25 乾燥單頸圓底燒瓶。經2分鐘逐份添加氫化鈉(〇 ι 2·8 mmol )。在周@溫度下攪拌所得懸浮液45分鐘。逐 加碘甲烷(0.176 mL ; 2 8 m n s . 滴居 2·8 mmo丨)。再在周圍溫度下攪拌产 液3小時。用水(5 mL)淬滅所得溶液,且使用乙酸乙m (2xi〇 mL)進行萃取。經硫酸鈉脫水經合併之有機層, 濾且真空移除溶劑’得到黃色油狀物(0.52 g)。此;: 未經進一步純化即用於下一步驟。 LC-MS ( ZMD) : UV 债測:220 nm ; Rt = 〇.48 化 ms:(m++i) = 192。 min。 。養板· Merck DC板,石夕膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:4 ( v:v); 標題化合物之Rf=〇 28,起始物質之Rf=〇13。 ·’ 卜步驟C)製備1-氧化2-曱氧基甲基-4-曱基、5,6,7,8_四 氫'•啥琳:
174 201211005 - 用2 -甲氧基甲基-4-甲其ιτο与*- 亍基_5,6,7,8_四氫.嗤琳(〇58 3.03匪〇1)於氯仿(3mL)中之溶液填充25虹單頸圓底 燒瓶、\在㈣且用冰水冷卻浴冷卻下,經2分鐘逐份添加 3-乳過本曱酸(1.12 g; 4 54 _〇1)。在〇。〇下搜掉所得黃 色懸浮液H)分鐘,接著在周圍溫度下授拌Μ小時。在冰 冷卻下,用水淬滅懸浮液且藉由添加Na〇H水溶液(4M; 5 mL)將pH值調節至14。使用氯仿(2χΐ〇⑷進行萃取。 經疏酸納脫水經合併之有機層,過遽且真空移除溶劑,得 到淺黃色固體(0.65 g)。此中間物未經進一步純化即用於 下一步驟。 LC-MS ( ZMD) : UV 偵測:22〇 nm ; & = i 3i min。 MS: (M++1) = 208 ° ;TLC:培養板:Merck沉板,妙膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:4(v:v); 標題化合物之Rf=0.02 ’起始物質之Rf=〇 28。 〇 步驟D)製備2_甲氧基甲基+甲基_5,6,7,8_四氫_噎琳 -8-醇:
〇 一 用1-氧化2_曱氧基甲其4田甘 丞T基·4·曱基-5,6,7,8-四氫_喹啉 :0_65g; 3.135 mmol)於二翕甲栌广 虱T烷(3.5 mL·)中之溶液填充 25 mL單頸圓底燒瓶。在授拌且闲、士 先什丘用冰水冷部浴冷钟下,經3 分鐘經由注射器緩慢添加三氟乙酴碎r, T . ^ 私 〇 以酐(3.54 mL ; 25.076 175 201211005 顏〇1)。在e下攪拌所得黃色溶液15分鐘,接著在周圍溫 度下攪拌66小時。在冰冷卻下’藉由經5分鐘添加 水溶液(8N ; 5 mL )將pH值調節至14。力 1王14 在周圍溫度下用 力攪拌兩相溶液4小時。使用二氯曱烷(2χ5 ^1)進行萃取。 經硫酸鈉脫水經合併之有機層,過滹直 嗯且具空移除溶劑,得 到棕色膠狀物(0_53 g )。此中間物未έ 刀木級進—步純化即用於 下一步驟。 LC-MS (ZMD): UV^ 測:22〇
Vt υ»1 〇 mm MS: (M++1) = 208。
TLC :培養板·· Merck DC板,故跋P 矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:庵柃/ 兀促Hi庹烷/乙酸乙酯1:4 ( v:v); 標題化合物之Rf=0_16,起始物質之Rf=〇 〇2。 甲基-6,7-二氫-5H_喹啉 步驟E)製備2-甲氧基甲基_4 ,8 -綱:
用2 -曱氧基曱基-4-甲基- 5678 nuh A ,,,8'四虱_喹琳-8 -醇(0.36 f _〇1)於氣仿(2mL)中之溶液填充裝備有冷凝 …5mL单頸圓錢瓶。在攪拌下添加氧化錳(ιν)(〇崩 g ; 6.947 mmol ),且在加敎 $ 、、Α π 她,, 隹加熟至回流下攪拌所得黑色懸浮液 1 8小時’此後TLC指示益起始物暂悉丨丨你 、 …&始物為剩餘。使所得黑色懸浮 液回到周圍溫度且經hyfl〇過濟,之後莊山^ 恩t後藉由矽膠層析(洗提 劑:庚烷/乙酸乙酯1:2)純化。此舉得 牛付到呈淺黃色固體狀之 176 201211005 標題化合物(0.1 6 8 g )。 LC-MS ( ZMD) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 1,12 min 〇 MS: (M + +l) = 206。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣’ UV偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:4 ( v:v ); 標題化合物之Rf=〇.〇9,起始物質之Rf=〇.i6。 *H NMR (200.131 MHz, CDC13) 6(ppm) : 7.46 (s , 1H), 4-65 (s, 2H), 3.47 (s, 3H), 2.9 (t, 2H), 2.8 (t, 2H), 2.35 (s, 3H),2.2 (q, 2H)。 製備4_乙氧基-6,7_二氫-5H-喧琳-8-酮
步驟A)製備4-乙氧基-5,6,7,8-四氫-喹啉:
用4-乙氧基-喹琳(1.86g)於三氟乙酸(17 mL )中之 溶液及氧化鉑(IV)水合物(1 ·〇 8 g )於三氟乙酸中之懸浮液 填充反應器《在22°C /4巴/H2吸收85%下7小時之後,NMR 177 201211005 控制(4 NMR,在用NH3水溶液基礎處理樣品之後CDCi3 ) 指示完全且清潔轉化。濾出催化劑,且減壓濃縮濾液。在 冰冷卻下,將8NNaOH水溶液添加至所得油狀物(1〇 mL, pH=14)中。使用二氯甲烷(3x30 ml)進行萃取。經硫酸 鈉脫水經合併之有機層,過濾且真空移除溶劑,得到黃色 油狀物(1 _52 g )。此中間物未經進一步純化即用於下一步 驟。 LC-MS ( ZMD) : UV 偵測:220 譲;Rt = 〇 76 min。 MS: (M++l) = 178。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠f254,於顯影槽中 之飽和大氣,uv偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:4(v:v); 才示喊化合物之Rf=〇 . 0 8 ’起始物質之Rf=〇 . 1 6。 步驟B)製備氧化4-乙氧基-5,6,7,8_四氫-喹啉:
用 4-乙氧基 _5,6,7,8_ 四氫 _ 喹啉(1.45 g; 818 mm〇i) 於氯仿(8 mL )中之溶液填充50 mL單頸圓底燒瓶。在攪 拌且用冰水冷卻浴冷卻下,經2分鐘逐份添加3氯過苯甲 酸(3.03g; 12.27mmol)。在(^下攪拌所得黃色懸浮液 分鐘,接著在周圍溫度下攪拌19小時。在冰冷卻下,用水 泮滅懸浮液且藉由添加NaOH水溶液(4M ; 1 2 mL )將pH 178 201211005 值調節至1 4。使用氣仿(:2χ25 ml )進行萃取。經硫酸納脫 水經合併之有機層,過濾且真空移除溶劑,得到黃色油狀 物(1.45 g )。此中間物未經進一步純化即用於下一步驟。 LC-MS ( ZMD) : UV 偵測:220 nm ; Rt = i,24 min。 MS: (M++1) = 194。 TLC :培養板:Merck DC板’矽膠ρ254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:二氯甲烷/甲醇9:1 ( v: v ); 標題化合物之Rf=0.28,起始物質之Rf=〇 35。 Ο 步驟C)製備4 -乙氧基_5,6,7,8 -四氫-喧琳_8_醇:
OH
€ 用1-氧化4-乙氧基-5,6,7,8-四氫_啥啉(〇1§;〇517 匪〇1)於三氟乙酸針(0.88mL)中之溶液填充5mL單頸 圓底燒瓶。在回流下搜拌所得黃色溶液15小時。使溶液回 到周圍溫度。在冰冷卻下,藉由經5分鐘添加_水溶 液(8N;2mL)將pH值調節至14,且接著添加二氣甲燒 (2斗在周圍溫度下有力攪拌兩相溶液5小時。當仍觀 測到中間產物時’添加甲醇(3滴)且持續用力授拌“小 時。使用二氣甲wml)進行萃取 '經硫酸納脫水經 合併之有機層’過渡且真空移除溶劑,得到黃色固體⑷ 叫)。此中間物未經進-步純化即用於下一步驟。 179 201211005
LC-MS ( ZMD) : UV 偵測:220 nm ; Rt MS: (M++l) = 194。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254 ’於顯影槽中 之飽和大氣’ UV偵測,洗提劑:庚烧/乙酸乙酯1 V v:v ); 標題化合物之Rf=0.32,起始物質之Rf=〇.28。 步驟D)製備4_乙氧基_6,7_二氫_SH_喹啉鋼:
用4-乙氧基-5,6,7,8-四氫-喹啉_8_醇(〇 193 g ; 〇 99
mmol)於氯仿(2mL)中之溶液填充裝備有冷凝器之25mL 單頸圓底燒瓶。在攪拌下添加氧化錳(IV) (〇 347 g; 3 99 mmol),且在加熱至回流下攪拌所得黑色懸浮液5小時,此 後TLC指示無起始物質剩餘。使所得黑色懸浮液回到周圍 溫度且經hyflo過濾,之後藉由矽膠層析(洗提劑:庚烷/ 乙酸乙醋1:2)純化。此舉得到呈黃色膠狀之標題化合物 (94.9 mg ) 0 LC_MS ( ZMD) : UV 债測 420 nm ; Rt = 〇,41 min。 MS: (M++l) = 192。 TLC :培養板:Merck DC板,石夕膠pm,於顯影槽中 之飽和大氣,uv偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙醋ι:4(ν:ν); 標題化合物之R f - 〇. 11,起始物質之r = 〇 〇之 180 201211005 ]H NMR (200.13 1 MHz,CDC13) δ(ρριη) : 8 55 (t,1H),6 7 (d,1H),4.1 (dd,2H),2.9 (m,2H),2.75 (m,2H),2.15 (t,2H), 1.4 (t,3H)。 製備2·甲基-4-苯基-6,7-二氫-5H-啥琳嗣
步驟A)製備 嘴: 1-氧化2-甲基-4-苯基_5,6,7,8_四氫-喹
用2-甲基-4-苯基-5,6,7,8-四氫-喹啉(〇.39 g; 176 _〇1)於氣仿(2mL)中之溶液填充25社單頸圓底燒瓶。 在授拌且用冰水冷卻浴冷卻下,添加%氣過苯甲酸(〇·65 g; 2.65 mmol)。在周圍溫度下攪拌所得淺棕色懸浮液2.5 小時。在冰冷卻下,用水淬減懸浮液且藉由添加Na〇H水 岭液(4M,2 mL )將pH值調節至}4。使用氯仿(3 x i 〇 mi ) 進行萃取。用鹽水(8 mL )洗滌經合併之有機層,經硫酸 納脫水,過濾且真空移除溶劑,得到淺黃色油狀物(〇36 181 201211005 g)。此中間物未經進一步純化即用於下一步驟。 LC-MS (ZMD): UV4貞測:220 nm; Rt = 1.56 min。 MS: (M + +1) = 240。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,U V偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:2 ( v: v ); 標題化合物之Rf=〇,起始物質之Rf=〇.32。 步驟B)製備2-曱基-4-苯基-5,6,7,8-四氫-喹啉-8-醇:
用1-氧化2-甲基-4-苯基-5,6,7,8-四氫-喹啉(0.44 g ; 1.8 5 mmol)於二氯曱烷(2 mL)中之溶液填充25ιη[單頸 圓底燒瓶。在攪拌且用冰水冷卻浴冷卻下,經2分鐘經由 注射器緩慢添加三氟乙酸酐(3 88 mL; 18 51 mm〇1)。在〇t: 下攪拌所得暗百色溶液丨5分鐘,接著在周圍溫度下攪拌2.5 丨夸外加碎冰且使用Na〇H水溶液(4M ; 5 mL )將pH 值為凋節至14。在周圍溫度下用力攪拌兩相溶液2 · 5小時。 使用一氣曱烷(2X 1 〇 ml )進行萃取。經硫酸鈉脫水經合併 之有機層,過濾且真空移除溶劑,得到黃色固體(〇. 3 4笆)。 此中間物未經進一步純化即用於下一步驟。 LC-MS ( ZMD) : uv 偵測:22〇 咖;心=〇 % 論。 MS: (M++l) = 24〇 〇 182 201211005 TLC :培養板:Merck DC板,石夕膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,U V偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯i: 2 ( V π ); 標題化合物之Rf=0.25,起始物質之Rf=〇。 步驟C)製備2-甲基-4-苯基_6,7_二氫-5H-喹啉-8-¾ :
用2-曱基-4-苯基_5,6,7,8-四氫-喹啉-8-醇(0.34g; 1.41 mmol)於氣仿(2 mL)中之溶液填充裝備有冷凝器之5〇 mL 單頸圓底燒瓶。在攪拌下添加氧化錳(IV) ( 0.49 g ; 5,65 mmol ),且在加熱至回流下攪拌所得黑色懸浮液5小時,此 後TLC指示無起始物質剩餘。使所得黑色懸浮液回到周圍 溫度且經hyflo過濾,之後藉由矽膠層析(洗提劑:庚烷/ 〇 乙酸乙酯1:1 )純化。此舉得到呈黃橙色膠狀之標題化合物 (1 55 mg)。 LC-MS ( ZMD) : UV 镇測:220 nm ; Rt = 1.3〇 min。 MS: (M++1) = 238。 TLC ··培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,uv偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:2 ( vv 標題化合物之Rf=〇_ 19,起始物質之Rf=〇.25。 4 NMR (200.131 MHz,CDC13) δ(ρριη) : 7.45 (m,3H),7 3 (d,2H),7.2 (s,1H),2.85 (m, 2H),2.8 (m,2H),2.65 (s,3H) 183 201211005 2·05 (t,2H)。 製備乙酸4 -乙氧基_5,6,7,8-四氫-啥琳_8_美酉匕
用1-氧化4-乙氧基_5,6,7,8·四氫-啥琳(】 . . S > 7. 〇 g 〇 mmol)於乙酸酐(12mL)中之溶液填充1〇〇1^單頸圓底 燒瓶。在1〇〇°C下授拌所得黃色溶液16小時。接著使溶= 回到周圍溫度。在冰冷卻下,藉由謹慎添加飽和Na2C〇^ = /容液(20 mL )將pH值調節至7。使用二氯曱烧(3 χ2〇 ml ) 進行萃取。經硫酸鈉脫水經合併之有機層,過遽且真空移 除溶劑’得到黃色油狀物(1.1 8 g )。藉由矽膠濾筒急驟層 析(60 g,150 mL,50 mL 部份)用 CH2Cl2/MeOH ( 98:2 ) 純化此粗產物,得到0.62 g呈黃色油狀之標題化合物(純 度 8 5 % )。 LC-MS ( ZMD) : UV 债測:220 nm ; Rt = 0.99 min。 MS: (M++1) = 236, (M+ + 23) = 258。 製備4-二氟曱基-2-曱基-6,7-二氫-5H-喹啉-8-酮 184 201211005 ο
F八F 步驟A)製備2_甲基_5,6,7,8_ 四氫-喧琳-4-甲搭
Ο
用(2-甲基-5,6 7 S πη - ’ ’四虱-喹啉-4-基)-甲醇(800 mg ; 4,5 1 )於氣仿(3〇 ώ )中之懸浮液填充裝備有冷凝器之5〇 m L·單頸圓底燒瓶。在措# I^ _ 牡现科·下添加氧化錳(IV) ( i.96 g ; 22 6 mmol) ’且在回流下授拌所得黑色懸浮液2小時,此後w 指示無起始物質剩餘。使所得黑色懸浮液回到周圍溫度,
且接著經矽藻土過濾且用氣仿沖洗濾餅。真空移除溶劑得 到橙色油狀物(861 mg )。此中間物未經進一步純化即用於 下一步驟。 LC-MS ( ZCQ ) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 0.22 min。MS: (M++l) = 176。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠f254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:2 ( v:v ); 標題化合物之Rf=0.48,起始物質之Rf =0.18。 步驟B)製備4-二氟曱基-2-甲基-5,6,7,8-四氫-喹琳: 185 201211005
F
rq 土 -,〇,7,8-四氫-喹啉-4_ 甲醛(wo mg ; 5. mmol )於二氯 ^ ^ ' T机、10 mL)中之溶液填充50 mL單頸奪 瓶。使所得溶液冷 P至-7 〇 C ’且接著小心添加三敗化二2 私基硫(1.7 mT . ! ,mm〇l) ’且在_2〇〇c下攪拌反應混^ J時接著在周圍溫度下持續攪拌2小時,此後TL· 示無起始物質剩餘。藉由添加冰及水小心淬滅反應。接 著藉由添加2M NaOH水溶液將pH值調節至M。使用二氯
、元C 3 X 20 ml )進行萃取。經硫酸鈉脫水經合併之有機 層,過濾且真空移除溶劑,得到橙色油狀物(8〗6 mg )。此 中間物未經進一步純化即用於下一步驟。 LC-MS ( ZCQ) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 0.5 2 min。MS: (ΝΓ+1) = 198 0
TLC :培養板:Merck DC板’石夕勝p254 ’於顯影槽中 之飽和大氣,U V债測’洗提劑:庚炫/乙酸乙醋1:2 ( v: v ); 標題化合物之Rf= 〇.49,起始物質之Rf = 0.41。 步驟C)製備氧化4_二氟曱基·2_曱基_5,6,7,8·四氫_ 喹。林:
186 201211005 用4-·一乳甲基-2 -甲基-5,6,7,8_四氣-喧琳(940 mg; 4 77 mmol )於氣仿(6 mL )中之溶液填充25 mL單頸圓底燒瓶。 在授拌且用冰水冷卻浴冷卻下,逐份添加3 -氣過苯甲酸 (1.64 g ; 9.53 mmol)。在室溫下攪拌所得橙棕色溶液6小 時,此時藉由TLC分析反應混合物指示起始物質已耗盡。 在用冰水冷卻浴冷卻下,用水(2 mL )淬滅反應,且藉由 添加4MNaOH水溶液將pH值調節至14。使用氯仿(3x25 Q ml )進行萃取。用鹽水(1 〇 mL )洗滌經合併之有機層,且 接著經硫酸鈉脫水,過濾且真空移除溶劑,得到淺橙色壤 狀物(1 · 8 0 g )。此中間物以原樣用於下一步驟。 LC-MS ( ZCQ) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 1.3 min。MS: (M++l)= 214。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:2(7:\〇; 標題化合物之Rf=0.16 ;起始物質之Rf=0.7。 Q 步驟D)製備4-二氟甲基-2-甲基-5,6,7,8-四氫-喹啉 醇:
OH
在圓底燒瓶中’在室溫下於二氟曱烷(l〇mL)中攪拌 ^氧化4-二氟曱基-2 -曱基-5,6,7,8-四氫-啥琳(1.00 g ; 4.69 187 201211005 mmo 1 ),得到橙色溶液。使用冰水冷卻浴冷卻溶液至〇艺。 在此溫度下’逐滴添加三氟乙酸酐(5·3 mL ; 3 7.5 mmol)。 在〇°C下攪拌反應混合物30分鐘,且接著移除冰浴。使反 應混合物升溫至室溫及在彼溫度下進一步攪拌3小時,此 時藉由TLC分析反應混合物指示起始物質已耗盡。用水(2 mL )小心淬滅反應且藉由添加NaOH水溶液將pH值調 郎至14。在至&下用力擾掉混合物3小時。使用二氯甲烧 (3x25 ml)進行萃取。混合有機部份且接著使用硫酸鈉脫 水,過濾且減壓濃縮,得到淺橙色蠟狀物。藉由矽膠層析 (洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:1 )純化得到呈白色固體狀之標 題化合物( 377 mg)(M.P. = 101。〇104。(3)。 lc-ms(zcq): uv 偵測:220 nm; Rt = 〇,83min。 (M++1 ) = 2 1 4。 TLC :培養板·· Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,Uv偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯i:丨(ν· v ); 標題化合物之Rf=〇 33,起始物質之Rf =〇.〇5 步驟e)製備4_二氣甲基_2_甲基.6,7_二氯_阳_啥琳_8_ 酮: mg
用4_二氟甲基-2-曱基-5,6,7,8-四氫-喹啉_8 L64)於氯仿(5 mL)中之懸浮液填充裝備 -醇(350 有冷凝器 188 201211005 之5〇 mL單頸圓底燒瓶。在攪拌下添加氧化錳(iv) (713 mg ’ 8.2 mmol )’且在回流下授拌所得黑色懸浮液小時, 此後TLC指示耗盡大部分起始物質。此後,使反應混合物 冷卻至周圍溫度。㈣藥土過滤所得黑色懸浮液且用氯仿 沖洗遽餅。真空移除溶劑得到棕色油狀物。藉切膝層析 (洗提劑:庚烧/乙酸乙醋1:1)純化得到呈淺黃色油狀之標 題化合物(133 mg)。
LC-MS ( ZCQ) : IAM貞測:22〇 nm (M++1) = 212。
Rt = 1,21 min MS: TLC:培養板:Merck Dc板,石夕膠pm,於顯影槽中 之飽和大氣,uv彳貞測,洗提劑:庚烷/乙酸乙醋i:i ( v:v); 標題化合物之R尸0.13 ’起始物質之 〇.42。 〇-(3-胺氧基-丙 製備2-甲基-6,7-二氫-5H-喹啉_8_酮 基)-E-將
將經胺-〇-[3-(胺氧基)_丙基](1,74g;16 39 mm〇i)於 無水乙醇(75 mL)中之溶液填入先前已置於氬氣氛圍中之 裝備有滴液漏斗之250 mL單頸圓底燒瓶中。在攪拌下,添 加對甲苯⑽㈠心^似一广之後逐滴添加溶解: 無水乙醇(5 mL) _之2-甲基-6,7_二氣_511_喧琳_8_嗣(ι力 g; 8.197 mmol^在室溫下攪拌所得黃色溶液45分鐘。在 反應過程之後,TLC指示此時無起始物質剩下。真空移除 189 201211005 乙醇。接著添加水(1 0 mL ),且藉由添加2M NaOH水溶液 (5mL)將pH值調節至14。使用乙酸乙酯(2x30ml)進行 萃取。經硫酸鈉脫水經合併之有機層,過濾且真空移除溶 劑,得到黃色膠狀物(2.08 g )。 LC-MS (方法 ZMD) : UV 偵測:220 nm ; Rt=0.45 min, MS: (M++1) = 250 ° TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254 ’於顯影槽中 之飽和大氣,U V偵測,洗提劑:二氯曱烷/曱醇9 5 : 5 ( v: v ); 標題化合物之Rf=0.2 1,起始物質之Rf =0.42。 製備2-曱基-6,7-二氫-5H-啥琳-8-酮0-(3-第三丁氧幾 基)胺氧基-丙基)-E-肟
在裝備有滴液漏斗之1 〇〇 mL單頸圓底燒瓶中,使先前 粗物質2-曱基-6,7-二氫-5H-喹啉_8_酮0-(3-胺氧基-丙 基)-E-月亏(2·〇8 g)溶解於二氯甲烷(1〇 mL)中。用冰水冷 卻洛使此溶液冷卻至〇。〇。藉由注射器緩慢添加三乙胺(〗j 6 mL,8.34 mmol),之後逐滴添加二碳酸二第三丁酯(I.” g ; 8.34mmol)於二氯甲烷(5 mL)中之溶液。移除冰浴且使 混合物回到室溫。接著在此溫度下攪拌反應物4小時。之 後,藉由添加飽和碳酸氫鈉溶液(丨〇 mL )淬滅反應。使用 二氯曱烷(2x25 mL)進行萃取且用鹽水(1〇 mL)洗滌經 190 201211005 合併之有機層,經硫酸鈉脫水,過濾且減壓濃縮,得到黃 色油狀物(3.3 1 g )。藉由矽膠急驟層析(洗提劑:第三丁 基甲醚/環己烷9:1 + 0.5%三乙胺)純化,得到呈淺黃色油 狀之標題化合物(2 · 5 6 g )。 LC-MS (方法 ZMD ) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 1 22 min, MS: (M++1) = 350 ° TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:第三丁基甲醚/環己燒 9:1+0.5%三乙胺,標題化合物之11产0_35’起始物質之汉 = 0.07。 製備2_曱基-6,7-二氫-5H-喹啉-8-酮 〇-(3_胺氧基_丙 基)-E-肟
U 在氬氣下用2 -甲基- 6,7-二氫- 5H -喧琳-8-酮〇_(3_第: 丁氧数基)¾:氧基-丙基)_E-躬·(2.46 g; 7.04 mmol)於二氯 曱烷(5.44 mL)中之溶液填充5〇 mL單頸圓底燒瓶。用冰 浴冷卻所得溶液至〇t:。藉由注射器緩慢添加三氟乙酸(523 mL,70_4 mmol ),接著移除冰水冷卻浴,且使淺黃色溶液 i至imt 且在此溫度下授掉3小時。在反應過程之後, TLC扣不無起始物質剩餘。在冰冷卻下,用水(5 )淬 滅溶液,且藉由添加4M Na〇H水溶液(l5 mL )將pH值調 希至14。使用二氣甲烷(2 χ4〇 ml)進行萃取。經硫酸鈉脫 191 201211005 水有機部份且真空移除溶劑,得到呈淺黃色膠狀之標題化 合物(1 · 3 5 g )。 LC-MS (方法 ZMD ) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 0,38 imn ’ MS: (M++1) = 250。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:第三丁基曱醚/環己炫 9:1+0.5%三乙胺;標題化合物之Rf=〇.07,起始物質之Rf = 0.35 〇 製備羥胺-0-[3-(胺氧基)-2-氟丙基]
步驟A)製備2,2,-[(2-羥基-1,3-丙二基)雙(氧基)]雙 -1H-異吲哚二酮
在氮氣下,用η-羥基鄰 及乙醆鈉(57 g ; 0.69 mol) 之溶液填充1.5 L反應器。 名里接著添加1,3 -二演-2 -卢 60 C下攪拌所得深椋色懸浮 擾掉U小時。減壓移除 ,0.23 mol ),且在 接著在周圍溫度下 在5 0°C下油浴)。 用η-經基鄰苯二甲酿亞胺(94g;〇.575 mol) ;0.69 mol)於二甲基甲醯胺(6〇〇 mL)中 L反應器。在周圍溫度下攪拌混合物4〇分 ,3-二溴-2-丙醇(24 mL ; 〇 23 m〇1),且在 色懸浮液12小時,接著在周圍溫度下 減壓移除溶劑(高真空, 192 201211005 . 將殘餘物再溶解於乙酸乙酯(400 mL )中且用碳酸氫鈉水 溶液洗滌,直至有機層之紅色消失。接著經硫酸鈉脫水有 機層,過濾且真空移除溶劑。將熱乙醇(400 mL )緩慢添 加至此殘餘物中,獲得淺黃色溶液。當溫度缓慢降低時, 可誘導結晶。經過濾收集結晶物質,用冷乙醇洗滌,且接 著在烘箱中在40°C下脫水,得到呈白色粉末狀之標題化合 物(6.8 g )。 LC-MS ( ZCQ ) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 1.47 min。MS· O . (Μ++1) = 3 83。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠f254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:2 ( v: v ); 標題化合物之Rf=0.62,起始物質之Rf =〇.2。 步驟B)製備2,2’-[(2-氟-1,3-丙二基)雙(氧基)]雙-1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮
用在-70°C下冷卻之2,2'-[(2-羥基-丨,^丙二基)雙(氧基)] 雙-1H-異,鳴-1,3(2H)-二酮(4.〇〇 g; 1〇46 顏〇1)於二氯 甲烧(3 5 mL )中之溶液填充1 00 ml燒瓶。緩慢添加三氟化 二乙胺基硫(2.05 mL,15.7 mmol)。在_2〇°c下攪拌所得淺 黃色溶液’接著在室溫下攪拌2小時。藉由TLC分析反應 混合物之等分試樣指示仍有大量起始物質。在冷卻至_7〇Dc 193 201211005 之後’添加另一部分三氟化二乙胺基硫(2.7 mL ; 20.9 mmol )。接著在周圍溫度下攪拌反應,直至所有起始物質均 耗盡(TLC )。接著用冰及水小心淬滅混合物,且藉由添加 2M NaOH水溶液將pH值調節至14。使用二氯甲烷(3xl〇〇 mL )進行萃取。真空移除溶劑得到米色固體。藉由矽膠層 析(洗提劑:庚烷/乙酸乙酯1:2 )純化得到呈白色粉末狀之 標題化合物(1.52 g )。 LC-MS ( ZCQ) : UV 伯測:220 nm ; Rt = i,60 min。MS: (M++1) = 385。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測’洗提劑:庚烷/乙酸乙酯i:2 ( v:v); 標題化合物之Rf=〇.51,起始物質之Rf =〇 42。 步驟C)製備羥胺_〇_[3_(胺氧基)_2_氟丙基]
F 用2,2’-[(2-氟-1,3-丙二基)雙(氧基)]雙•異吲哚 -1,3(2H)-二酮(1.50 g ; 3.9 mmol)於乙醇(8 mL)中之溶 液填充50 ml燒瓶。接著緩慢添加肼單水合物(〇·3 8如乙· 7_8 mmol)。在回流下攪拌所得混合物2小時。在反應過程 之後,LC-MS指示此時無起始物質剩餘。使混合物回到周 圍溫度。過濾、由此獲得之白色沈幾,1真空濃縮濾液得到 米色固體。將粗固體溶解於最小量之2MHC1水溶液(水相 之pH值為1)中。使用乙酸乙醋進行萃取。之後,添加過 194 201211005 量4M NaOH水溶液(pH 14),且使用四氫呋喃進行萃取。 真空移除溶劑得到米色壞狀物(290 mg )。 LC-MS(ZCQ): UV 偵測·· 220 nm; Rt=0.i9min。MS (M++l) = 125。 製備2,3,5,6,7,8-六氫-111-吖啶-4-酮
〇 步驟A)製備ίο-氧化1,2,3,4,5,6,7,8-八氫-叮咬
用 i,2,3,4,5,6,7,8-八氫 σ丫咬(1,2,3,4,5,6,7,8- octahydroacrydine) ( 5.00 g ; 26.7 mmol)於氯仿(28 mL) CJ 中之溶液填充1 〇〇 mL燒瓶。在攪拌且用冰水冷卻浴冷卻 下’逐份添加3-氣過苯甲酸(8.97 g; 40.04 mmol )。在室 溫下攪拌所得黃色懸浮液3小時,此時藉由TLC分析反應 混合物指示起始物質已耗盡。將反應混合物小心傾倒於冰 及水上且藉由添加4M NaOH水溶液(1 〇 mL )將pH值調節 至pH 12。使用一氣曱烧(2x30 ml)萃取所得溶液。用鹽 水洗滌經合併之有機層,接著經硫酸鈉脫水,過濾且真空 移除溶劑,得到標題化合物(6.〇7 g)e此中間物以原樣用 於下一步驟。 195 201211005 TLC ··培養板:Merck DC板’矽膠F254,於顯影槽中 之德和大氣,uv偵測’洗提劑:乙酸乙酯;標題化合物之 Rf= 0,13 ;起始物質之 Rf= 0.53。 步驟B)製備^^。,々。/,了”-八氫-吖淀-‘醇
OH
在200 mL燒瓶中’在室溫下於二氣曱烷(35 mL)中 擾样10-氧化1,2,3,4,5,6,7,8-八氫-〇丫1»定(5.32 8;20 17 mmol ),得到紅棕色溶液。使用冰水冷卻浴冷卻溶液至〇。〇。 在此溫度下’逐滴添加三氟乙酸針(5 · 6 mL ; 39.25 mmol)。 在〇°C下攪拌反應混合物30分鐘’且接著移除冷卻浴。在 室温下再攪拌反應混合物4小時,此時藉由Tlc分析反應 混合物指示起始物質已耗盡。接著藉由添加水及冰小心淬 滅反應,且藉由添加2M NaOH水溶液(30 mL )將pH值調 節至12。在室溫下用力攪拌混合物16小時。在相分離之後, 進一步使用二氣甲烷萃取水相。使用硫酸鈉脫水有機部 份,過濾且減壓濃縮,得到黃色固體。此中間物以原樣用 於下一步驟。 LC-MS ( ZCQ) : uv 们則:22〇 細;匕=〇 44 _。他 (M++l) = 204。 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠by,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:乙酸乙酯;標題化合物之 Rf=0_6 8,起始物質之Rf=〇18。 196 201211005 - 步驟C)製備2,3,5,6,7,8-六氫丫啶酮
用 1,2,3,4,5,6,7,8-八氫_吖啶_4_醇(3〇2§]486_〇。 於氯仿(34 mL) +之溶液填充裝備有冷凝器之1〇〇灿單 頸圓底燒瓶。在攪拌下添加氧化錳(IV) ( 516 § ; 59.42 mmol ),且在回流下攪拌所得黑色懸浮液3小時,此後tlc 指示無起始物質剩餘。使反應混合物回到周圍溫度。經石夕 藻土過濾所得黑色懸浮液,用二氣曱烷沖洗該矽藻土。自 經合併之有機相真空移除溶劑》藉由矽膠層析(洗提劑: ί衣己烧/乙酸乙g旨9:1 )純化得到呈淺黃色油狀之標題化合物 (2.55 g)。 LC-MS ( ZCQ) : UV 偵測:220 nm ; Rt = 0,95 min。MS: (M++1) = 202 〇 〇 TLC :培養板:Merck DC板,矽膠F254,於顯影槽中 之飽和大氣,UV偵測,洗提劑:環己烷/乙酸乙酯1:1 ( V:V ); 標題化合物之Rf=015,起始物質之Rf =0.35。 製備11-甲基-7,8,9,10-四氫-環庚三烯并[b]喹啉-6-酮 0
197 201211005 步驟A)製備U_甲基_7,8,9,1〇四氫_6h環庚三烯并[b] 口奎琳
用 2 胺基本乙 g同(2_amin〇acet〇phen〇n X 1 〇 g,· 74 mm〇i ) 填充100mL燒瓶。添加環庚_ (9 6g; 81 4mm〇i)。向此 棕色溶液中添加擰檬酸(3.4g; 37mm〇1)。在1〇(rc下加熱 反應混合4勿48小時。在反應過程之後,LC-MS指示無2_ 胺基苯乙酮_。使反應混合物回到周圍溫度。接著傾倒 於水上目此觀測到沈殿。過據沈殿。接著將該物質再溶 解於二乙鍵中,之德直& 俊具工热發溶劑,獲得棕色晶體(15.6 g )。此中間物以原樣用於下—步驟。 LC-MS ( ZCQ) : UV 偵、、目,ι . 悄 /貝J . 220 nm ; Rt = 0.99 min。MS: (M++l) = 212。 步驟B) 5 -氧化11-甲其,Λ Τ基-7,8,9,10-四氫-611-環庚三烯并 [b]啥琳: Ο
用 11-曱基-7,8,9,1(Κ _ ρ 四虱-6Η-環庚三烯并[b]喹啉 (10_00g; 47.3 mmol)於梟〆士,
.., 〜方(40 mL)中之溶液填充250 mL 燒瓶。在攪拌且用冰水冷名 P冷冷卻下,逐份添加3_氣過苯 198 201211005
f酸(17.6g; 71mmol)e在室溫下攪拌所得棕色溶液3小 時,此時藉由TLC分析反應混合物指示起始物質已耗盡。 將反應混合物小心傾倒於冰及水上,且藉由添加2N Na〇H 水溶液(5〇mL)將PH值調節至10。使用二氯甲烷進行萃 取。用鹽水洗滌經合併之有機層,接著經硫酸鈉脫水,過 濾且真空移除溶劑,得到呈棕色油狀之標題化合物(10.90 g ) °此中間物以原樣用於下一步驟。
LC-MS ( ZCq) : UV 積測:22〇 ⑽;匕=155 _。臉 (M++1) = 228。 TLC :培養板:Merck Dc板,矽膠bn 之飽和大氣’ UV 4貞測,洗提劑:環己烷/乙酸乙醋1:9( v:v); 標題化合物之R产0.33,起始物質之Rf =〇 79。 步驟c) IU肴U-甲基_7,8,9,1〇_四氣_611_環庚三稀并[15] 喹琳-6-醇:
-1±. ZUU %主〉皿下於二氣甲烷(80 mL)中 攪拌5-氧化11-甲基-7 8 9 1Λ 卜 ,,9,10·四氣-6H-環庚三烯并[b]喹啉 (9·〇 g ; 39,6 mmo 1)得到 # A、、々 不色/谷液。使用冰水冷卻浴冷卻溶 液至0°C。逐滴添加三氟乙舻紅γ n 。 亂己酉文軒(8.4 mL ; 59.4 mmol)。在 0 °C下攪拌反應混合物3 〇分鐘,B社切 刀鐘,且接著移除冷卻浴。在彼溫 度下攪拌反應混合物2小時,+主 J崎,此時藉由TLC分析反應混合 199 201211005
物指不起始物質已耗盡。接著用水及冰小心淬滅反應,且 藉由添加2M Na〇H水溶液U〇 mL)將pH值調節至U。 ,著在室溫下用力攪拌混合物16小時。使用二氯甲烧進行 萃取用鹽水洗滌有機部份,經硫酸鈉脫水’過濾且減壓 濃縮’得到棕色油狀物。藉由石夕膠層析(洗提劑:環己燒/ 乙酸乙醋9:1)純化得到呈掠紅色固體狀之標題化合物(US MS: LC-MS (ZCQ) : UV 佶制.… u v 谓測.22〇 細;& = 〇 41 min (M++1) = 228。 步驟D)製備U-甲基_7 R Q 1Λ 卜 〇 7丞7,8,9,1〇-四氫-環庚三烯并喹 琳-6-酮: Ο
/TJ -银屄三烯并[b]喹啉_6_節 = ^8.41^1)於氯仿⑺叫中之溶液填充裝㈣ ^凝器之W單頸圓底燒觀。錢拌下添加氧化缝(IV Q 2·9 g ; 33·6 mmol ),且 a ini、、* "Γ·…t 且在回视下攪拌所得黑色懸浮 二時,此後TLC指示無起始物質剩餘。使反應混合物❹ 周圍溫度。經石夕藻土過渡所得黑色懸浮液且用 " 她。真空移除溶劑。藉㈣膠層…洗提劑:環二 乙酸乙酯7:3 )純化得到呈黃色 ^ mg)。 由狀之化合物(93< 200 201211005 LC-MS ( ZCQ) : UV 债測:220 nm ; Rt = 1.55 min。MS: (M++1) = 226。 表26 :式(I)化合物之物理資料: 化合物 結構 RT (分鐘) (方法) 分子離子 P.01 N/〇0^0、N 0(Χ 1.52 (ZCQ) 427 ([M+l]+) 449 ([M+23]+) P.02 Όό6 Εόσ 1.20 (ZMD) 421 ([M+l]+) 211 ([M+2]2+) 443 ([M+23]+) P.03 ΌόΕ 1.10 (ZMD) 419 ([M+l]+) 210 ([M+2]2+) P.04 土 χώΕ Εόσ 1.27 (ZCQ) 469 ([M+l]+) 235 ([M+2]2+) P.05 χόΕ δσ 1.06 (ZMD) 393 ([M+l]+) 197 ([M+2]2+) 415 ([M+23]+) P.06 1.60 (ZMD) 377 ([M+l]+) 189 ([M+2]2+) 399 ([M+23]+) P.07 χώΕ Εόσ 1.10 (ZCQ) 405 ([M+l]+) 203 ([M+2]2+) 427 ([M+23]+) 201 201211005 化合物 結構 RT (分鐘) (方法) 分子離子 P.08 E6cr 1.38 (ZCQ) 407 C[M+lf) 204 ([M+2]2+) P.09 xx5 Ε6σ 1.14 (ZMD) 407 C[M+lf) 204 ([M+2]2+) P.10 ν,。\·/Ό〇、ν E0〇r 1.21 (ZMD) 421 ([M+l]+) 211 ([M+2]2+) P.ll χώΕ Εόα 0.95 (ZMD) 409 ([M+lf) 205 ([M+2]2+) 431 ([M+23]+) P.12 r〇-JC〇^N χχ5冰 Cl Cl 2.09 (ZMD) 487 ([M+l]+) 244 ([M+2]2+) 509 ([M+23]+) P.13 Ν.ο^Χ^ο.Ν "χώΕ Εόα" 2.11 (ZMD) 451 ([M+l]+) 226 ([M+2]2+) 473 ([M+23]+) P.14 F Ν/〇·^\/〇、Ν χώΕ Εόσ 1.09 (ZMD) 411 ([M+l]+) 433 ([M+2]2+) 206 ([M+23]+) P.15 1.74 (ZCQ) 393 ([M+l]+) 197 ([M+2]2+) 415 ([M+23]+) P.16 Ν,〇\^^〇、Ν 1.52 (ZCQ) 365 ([M+l]+) 138 ([M+2]2+) 399 ([M+23]+) P.17 ν,。^/Ό〇、ν 1.74 (ZCQ) 393 ([M+lf) 197 ([M+2]2+) 415 ([M+23f) 202 201211005
化合物 結構 RT (分鐘) (方法) 分子離子 P.18 1.57 (ZCQ) 391 ([M+l]+) 196 ([M+2]2+) 413 ([M+23]+) P.19 1.83 (ZCQ) 441 ([M+l]+) 221 ([M+2]2+) P.20 fTH〇、N χόΕ Εόσ 1.24 (ZCQ) 437 ([M+l]+) 459 ([M+23]+) P.21 Χ/〇、Ν c,xi5E Εόαα 熔 點 =170〇C-173〇C P.22 1.83 (U-LC) 531.56 ([M+l]+) P.23 ν/〇^0〇、ν οόΕ 1.26 (ZMD) 407 ([M+l]+) 429 ([M+23]+) P.24 Cl χώΕ Εόσ 1.23 (ZCQ) 427 ([M+l]+) 449 ([M+23]+) P.25 ο^6υ δρο 1.45 (ZMD) 493 ([M+l]+) 515 ([M+23]+) P.26 Ν』·^\/〇、Ν Cg0u 2.29 (ZMD) 617 ([M+l]+) 639 ([M+23]+) 熔 點 =205〇C-210〇C 203 201211005 化合物 結構 RT (分鐘) (方法) 分子離子 P.27 c0u 090 1.47 (ZMD) 519 ([M+l]+) 541 ([M+23]+) P.28 ϋόρο 1.76 (ZCQ) 521 ([M+l]+) 543 ([M+23]+) P.29 〇90 090 2.01 (ZMD) 521 ([M+l]+) 543 ([M+23]+) P.30 n,〇^_-/\/0、n 1.04 (ZCQ) 407 ([M+l]+) P.31 ΌόΕ δσ 1.30 (ZMD) 469 ([M+l]+) P.32 n-°'-/^0%n r° 1.17 (ZMD) 437 ([M+l]+) P.33 〇όΕ 1.06 (ZCQ) 437 ([M+l]+) 熔點=61°C-64°C P.34 n,c〇O〇、n f^6e 1.94 (ZCQ) 485 ([M+l]+) P.35 όόΕ &? HO^ HO 0.99 (ZMD) 425 ([M+l]+) P.36 n,〇^"^〇、N 90e 1.29 (ZMD) 429 ([M+l]+) 451 ([M+23]+) 204 201211005
化合物 結構 RT (分鐘) (方法) 分子離子 P.37 N,〇^^^〇、N X)0E E0^0 1.25 (ZMD) 443 ([M+l]+) P.38 N,〇」^〇、N Xj0e c^9〇 1.33 (ZMD) 471 ([M+l]+) P.39 X)0E ^00 1.15 (ZMD) 433 (_]+) P.40 N/OC〇、N X)0E E0CO 1.25 (ZMD) 461 ([M+l]+) P.41 χώΕ δσ ό 1.23 (ZMD) 490 ([M+lf) P.42 N,〇J>C〇、N 96 Εόσ 1.38 (ZMD) 465 ([M+l]+) 487 ([M+23]+) P.43 Ν,〇^\/〇、Ν χώΕ δρ" /S /S 1.14 (ZMD) 485 ([M+l]+) 507 (M+23]+) P.44 N-c〇^°-N χ5όΕ Εόσ r 1.25 (ZCQ) 453 ([M+l]+) P.45 Ν,〇^^〇、Ν Ό0Ε Εόσ F人F F人F 1.86 (ZCQ) 519 ([M+l]+) 541 ([M+23]+) P.46 Ν,〇^^^〇、Ν ^0Ε 1.38 (ZCQ) 443 ([M+l]+) P.47 Ν,0^^^0、Ν F ^όΕ Eto^; 1.43 (ZCQ) 447 ([M+l]+) 205 201211005 化合物 結構 RT (分鐘) (方法) 分子離子 P.48 Ν/〇·^·\/0、Ν "〇όΕ Ε6α 1.23 (ZCQ) 457 ([M+l]+) P.49 N.〇^X/〇.N οοόΕ Εόοο 1.25 (ZMD) 499 ([M+lf) P.50 n,〇^O〇、n cc6E E6X) 1.31 (ZMD) 501 ([M+l]+) P.51 οοόΕ Εόοο 1.22 (ZMD) 473 ([M+lf) 表26中關於化合物之「U」符號意謂分離之化合物為E 異構體與Z異構體之混合物或未表徵之單一異構體。 表27 :中間物之物理資料
化合物 結構 RT (分鐘) (方法) 分子離子 1.01 &r 0.83 (ZCQ) 278 ([M+l]+) 300 ([M+23]+) 1.02 又。、 ^ N Εόσ 1.21 (ZCQ) 221 ([M+l]+) 243 ([M+23]+) 1.03 0-7 (〇、N 0.78 (ZMD) 233 C[M+1]+) 255 ([M+23]+) 1.04 HO、n 0.20 (ZMD) 177 ([M+l]+) ErSrV 199 ([M+23]+) LU 206 201211005 化合物 結構 RT (分鐘) (方法) 分子離子 1.05 h2n〆0^^% E6cr 0.38 (ZMD) 250 ([M+l]+) 1.06 ^^0人 N^〇V"^〇、N Η Εόσ 1.22 (ZMD) 350 ([M+l]+) 1.07 乂。人 Η Εόα 1.46 (ZMD) 378 ([M+l]+) 400 ([M+23]+) 0 所用之LC方法
方法U-LC 購自Waters之ACQUITY SQD質譜儀(單級四極質譜 儀) 電離方法:電喷 極性:正離子 毛細管(kV) 3.80,進樣錐(V) 20.00,萃取器(V) 3.00,源溫(°C ) 150,去溶劑化溫度(°C ) 400,進樣錐氣 〇 體流速(L/Hr) 60,去溶劑化氣體流速(L/Hr) 700 質量範圍:100至800 Da 管柱:Waters ACQUITY UPLC HSS T3 ;柱長:30 mm ; 管柱之内徑:2.1 mm ;粒度:1.8微米;溫度:60°C DAD波長範圍(nm) : 210至400 溶劑梯度:
A=水/曱醇 9:1、0.1 % HCOOH B=乙腈+0.1% HCOOH 207 201211005 時間 A % B% 流速(mL/min ) 0 100.0 0.0 0.75 2.5 0.0 100.0 0.75 2.8 0.0 100.0 0.75 3.00 100.0 0.0 0.75
方法ZMD 購自Waters之ZMD質譜儀(單級四極質譜儀) 儀器參數: 電離方法:電噴 極性:正離子 毛細管(kV) 3.80,進樣錐(v) ’萃取器(v) 3 〇〇, 源溫(°C ) 1 50,去溶劑化溫度(°c ) 350,進樣錐氣體流速 (L/Hr )關閉,去溶劑化氣體流速([/Hr ) 600 質量範圍:100至900 Da 購自Agilent之HP 1100 HPLC :溶劑除氣器、二元系、 加熱之柱室及二極體陣列偵測器。 管柱:Phenomenex Gemini C18,3 mm 粒度,1 ι〇Α 30x3 mm,
溫度:60°C DAD波長範圍(nm ): 200至500 溶劑梯度:
A =水+0.05% HCOOH
B=乙腈 / 甲醇(4:1,v:v ) +0.04% HCOOH 208 201211005 時間 A % B% 流速(ml/min ) 0.00 95.0 5.0 1.700 2.00 0.0 100.0 1.700 2.80 0.0 100.0 1.700 2.90 95.0 5.0 1.700 3.00 95.0 5.0 1.700
方法ZCQ 講自Waters之ZQ質譜儀(單級四極質譜儀) 儀器參數: 電離方法:電喷 極性:正離子 毛細管(kV) 3.80,進樣錐(v) 30.00,萃取器(V) 2.00 ’源溫(°C) 100,去溶劑化溫度(。〇) 25〇,進樣錐氣 體流速(L/Hr) 50 ’去溶劑化氣體流速(L/Hr ) 4〇〇 質量範圍:100至900 Da 購自Agilent之HP 1100 HPLC :溶劑除氣器、四元果 (ZCQ ) /二元泵(ZDQ )、加熱之柱室及二極體陣列偵測器。 管柱:Phenomenex Gemini C18,3 mm 粒度,1 i〇A, 3 0 χ 3 mm,
溫度:60°C DAD波長範圍(nm) : 200至500 溶劑梯度:
A=水+0.05% HCOOH
B=乙腈 / 甲醇(4:1,v:v) +0.04% HCOOH 209 201211005 時間 A % 0.00 95.0 2.00 0.0 2.80 0.0 2.90 95.0 3.00 95.0 生物實施例: B% 流速 5.0 1.700 100.0 1.700 100.0 1.700 5.0 1.700 5.0 1.700 (ml/min )
/昂於#疫苈/番茄/葉圓片預 防(晚疫病(late blight)): 將番茄葉圓片置於24孔板中之水瓊脂上且喷霧用水稀 釋調配之測試化合物,施用量為200 ppm。在施用之後用真 菌之孢子懸浮液接種葉圓片1天。在1 6°C及75%之相對濕 度下在24小時黑暗之後12/12小時(光亮/黑暗)黑暗之光 管理下在氣候箱中培育接種之葉圓片,且當未處理校驗葉 圓片中出現適當程度之病害時(在施用之後5至7天),以 與未處理者相比之疾病控制百分比評估化合物之活性。以 下化合物提供至少80%之馬鈐薯疫菌控制: P_40、P.39、P.3 8、P_32、Ρ·3〇、P‘23、P_10、p.〇9 ' p.05、 P.04、P.02。 巖者兰軍與薇/葡萄/葉圓片預 防(晚疫病): 將葡萄藤葉圓片置於24孔板中之水璦脂上且噴霧用水 稀釋調配之測試化合物,施用量為剔pp.在施用之後用 真菌之孢子懸浮液接種葉圓片i天。在机及8g%之相對 210 201211005 -濕度下在I2712小時(光亮/黑暗)之光管理下在氣候箱中 均月接種之葉圓片,且當未處理校驗葉圓片中出現適當程 度之病害時(在施用之後6至8天),以與未處理者相比之 疾病控制百分比評估化合物之活性。以下化合物提供至少 8〇%之葡萄生單軸黴控制: P.40、P.39、Ρ·38、Ρ·37、ρ.32、ρ·31、ρ3〇、ρι〇。 小麥白粉病菌(Blumerla graminis j: sp )(禾白 粉磨MW中心—& /· W的·⑽乃/小麥/葉圓片預防 I# (小麥白粉病): 將小麥葉段cv Kanzler置於24孔板中之瓊脂上且喷霧 用水稀釋調配之測試化合物,施用量為2〇〇叩爪。在施用之 後1天,藉由在測試板之上震動感染白粉病之植物接種葉 圓片。在20 C及60%之相對濕度下在24小時黑暗之後12/12 J時(光売/黑暗)之光管理下在氣候室中培育接種之葉圓 片,且當未處理校驗葉段上出現適當程度之病害時(在施 Q用之後6至8天)’以與未處理者相比之疾病控制百分比評 估化合物之活性。以下化合物提供至少8〇%之小麥白粉病 菌控制: Ρ’41、Ρ·40、Ρ·39、P.38、P.37、P.32、P.31、P.30、P_28、 •27 P.25、P.24、P_23、P.14、P.13、Ρ· l〇、p.〇9、p 〇5、p 〇7、 P.08、p.04、P.03、p 2〇、p 〇2、p 42、p 44、p 45、p 46、 P.47、p.48 〇 小麥葉錄病菌(puccinia rec〇ndita 了 sp tritUi)丨八冬 /葉圓片預防(褐銹病(ΒΓ〇ννη rust )): 211 201211005 將小麥葉奴裁培品種(cv) Kanyer置於24孔板中之瓊 脂上且喷霧用水稀釋調配之測試化合物,施用量為200 ppm在施用之後用真菌之抱子懸浮液接種葉圓片1天。在 抓及75%之相對濕度下在12/12小時(光亮/黑暗)之光 管理下在氣候箱中培育接種之葉段’ 1當未處理校驗葉段 中出現適當程度之病害時(在施用之後7至9天),以與未 處理者相比之疾病控制百分比評估化合物之活性。以下化 合物提供至少80%之小麥葉銹病菌控制: Ρ·4〇、Ρ_39、Ρ·38、Ρ·37、ρ·32、ρ”、ρ3〇、ρ25、ρ24、 Ρ.23、Ρ.14、P·13 ' Pu、Ρ‘10、Ρ 〇9、Ρ·〇5、ρ·07、ρ.04、ρ 〇3、 Ρ.20、Ρ_02、Ρ_42、Ρ.44、Ρ.45、Ρ· 46、Ρ.47、Ρ.48。 V、# #銹病產/小麥/葉圓片治癒(褐銹病): —將小麥葉段cvKanzier置於24孔板中之瓊腊上。 : = 液接種葉段。I _ —對壤度下將板 化入物 二在接種之後1天施用用水稀釋調配之測試 ^ 量為雇ppm。在机及75%之相對濕度下在 且黑暗)之光管理下在氣候箱中培育葉段, 田未處理校驗葉段中出現適當程度之 後ό至R |Q f (在施用之 合物之處理者相比之疾病控制百分比評估化 制:,性。以下化合物提供至少8〇%之小麥葉錄病菌控 Ρ.40、ρ·39、ρ 38、ρ 37 Ρ Ρ·30' Ρ·24> Ρ.23 13、Ρ1 卜 P.10、P.09、Ρ·〇5、ρ.07、Ρ 〇4、t» ρ ^ Ρ.〇3、P.20 • 、P.42、P.44、P.45、P.46、Ρ_47 ' Ρ.48。 212 201211005 稻μ病菌(Magnaportkegrisea)(稻梨孢(Pyricularia /水稻/葉圓片預防(稻熱病(RiceBlast)) 將水稻葉段cv. Ballila置於多孔板(24孔型式)中之 瓊脂上且噴霧用水稀釋調配之測試化合物,施用量為2〇〇 PPm。在施用之後2天用真菌之孢子懸浮液接種葉段。在 22 C及80%之相對濕度下在24小時黑暗之後12小時光亮 /12小時黑暗之光管理下在氣候箱中培育接種之葉段,且當 〇未處理校驗葉段中出現適當程度之病害時(在施用之後5 至7天)’以與未處理者相比之疾病控制百分比評估化合物 之活性。以下化合物提供至少8〇%之稻瘟病菌控制: P.40、P.39、P.38、P.37、P.34、P.32, P.30、P.42、P.44、 P.45、P.46、P.48。 小麥葉枯病菌(Phaeosphaeria nodorum )(穎枯殼針抱 屬磨⑽办⑶历力/小麥/葉圓片預防(穎斑枯病 (Glume blotch )): 〇 將小麥葉段cv Kanzler置於Μ孔板中之瓊脂上且噴霧 用水稀釋調配之測試化合物,施用量為2〇〇ppm。在施用之 後2天用真菌之孢子懸浮液接種葉圓片。在2〇。〇及乃^之 =對濕度下在12/12小時(光亮/黑暗)之光管理下在氣候 相中培育接種之測試葉圓片,且當未處理校驗葉圓片中出 現適當程度之病害時(在施用之後5至7天),以與未處理 者相比之疾病控制百分比評估化合物之活性。以下化合物 提供至少80%之小麥葉枯病菌控制: P.41、P.40、P.39、P.38、P.37、P.34、P.33、P.32、P.31、 213 201211005 P.3 0、P.28、Ρ·27、P.2 5、Ρ·24、P.23、P.14、P.22 ' P.13、PI 1、 P. 10、P.09、ρ·〇5、p·〇7、p.〇4、p.〇3、P.20、P.02、P.42、P.44、 P.45、Ρ·46、p.47、P.48。 圓核腔菌大麥網斑病菌(Pyrenophora teres ) I大参丨案 圓片預防(網斑病(Net blotch )): 將大麥葉段cv Hasso置於24孔板中之瓊脂上且喷霧用 水猶釋之所調配測試化合物’施用量為2 〇 〇 pjp m。在施用測 試溶液之後兩天用真菌之孢子懸浮液接種葉段。在20°C及 65%之相對濕度下在12/12小時(光亮/黑暗)之光管理下在 氣候箱中培育接種之葉段,且當未處理校驗葉段中出現適 當程度之病害時(在施用之後5至7天),以與未處理者相 比之疾病控制評估化合物之活性。以下化合物提供至少80% 之大麥網斑病菌控制: Ρ·41、R40、Ρ·39、P.38、P.37、Ρ·34、P.32、p 3 i、p 3〇、 P.28、P.27、P.25、P.24、ρ·23、p 13、pu、ρ ι〇、p 〇9、p 〇5、 P.07 ^ P.〇4 . P.〇3 . P.20 > P.02 ^ P.42 . P.44 . P.45 ^ P.46 ^ P.47 ^ Ρ·48。 m紋减⑽w/υ/番恭/葉圓片(早疫 病(early blight)): 將#茄葉圓片cv Baby置於容Λ μ J ι π夕孔板(24孔格式)中之 瓊月日上且喷霧用水稀釋調配之測臂彳卜人此 “式化合物,施用量為200 ppm。在施用之後2天用真菌之孢 心/予液接種葉圓片。在 23 C /2 1 C (白天/夜晚)及80%之相斟 ^ _ 艾相對濕度下在12/12小時 (光冗/黑暗)之光管理下在氣候箱 t i口月接種之葉圓片,且 214 201211005 '曰未處理扠驗葉圓片中出現適當程度之病害時(在施用之 後5至7天)’以與未處理者相比之疾病控制百分比評估化 δ物之活性。以下化合物提供至少之番茄輪紋病控制: ρ.40、ί>·39、Ρ,38、Ρ.37、Ρ.3 卜 ρ.3〇、Ρ_1〇、ρ·〇9、Ρ.05、 P.07、Ρ.20。 終極腐徽菌(Pythium ultimum) /浪龜培養物(幼雈择 倒病): 0 真菌之新穎生長液體培養物之菌絲體碎片及卵孢子直 接混入營養培養液(PDB馬鈐薯右旋糖培養液)中。在以 $200 ppm施用量將測試化合物之dms〇溶液置於%孔微 $滴定板令之後,添加含有真菌菌絲體/孢子混合物之營養 坨養液。在24 C下培育測試板且在施用之後2至3天用光 度计測疋生長抑制作用。以下化合物提供至少8之終極 腐彳放is控制: ρ·40、P.39、ρ·38、ρ·37、P.31、P.30、ρ·24、Ρ·23、P.14、 ◎ Ρ·10、Ρ.09、Ρ·〇5、P.07、Ρ.20、Ρ.〇3、Ρ.02、ρ.42、ρ.44、ρ46、 P.4 8 ' P51 〇 畐克葡萄孢盤菌(Botryotinia fuckeliana )(灰葡萄孢 r心卜少沿c⑻卿” /液體培養物(灰黴(Gray mould)): 將來自低溫存儲器之真菌之分生孢子直接混入營養培 養液(Vogels培養液)中。在以α〇〇 ppm施用量將測試化 合物之DMSO溶液置於96孔微量滴定板中之後,添加含有 真菌孢子之營養培養液。在24t:下培育測試板且在施用之 後3至4天用光度計測定生長抑制作用。以下化合物提供 215 201211005 至少80%之富克葡萄孢盤菌控制: Ρ·4 卜 P.40、P.39、Ρ·38、P 37、p %、ρ 34、ρ 32、ρ 31、 P.3 0、P.28、Ρ·27、P.25 ' P.24、ρ·14、P 22、p i3、p i2、ρ ι〇、 P.09、P.05、P.07、Ρ·〇8、P_〇4、ρ·03、P 2〇、p (H、p 〇2、p 、 P_43、P_44、P.45、Ρ·46、P.47、Ρ·48、P49、p5〇、p51。 胡瓜炭疽病_ (Glomerella lagenarium)(胡瓜炭痕病 菌(Colletotrichum lagenarium ) ) /液馥培秦物〔良疽病 (Anthracnose )): 將來自低溫存儲器之真菌之分生抱子直接混入營養培 養液(PDB馬鈴薯右旋糖培養液)中。在ppm施用 量將測試化合物之DMS0溶液置於96孔微量滴定板中之 後,添加含有真菌孢子之營養培養液。在下培育測試 板且在施用之後3至4天用光度計量測生長抑制作用。以 下化合物提供至少80%之胡瓜炭疽病菌控制: P.40、P.39、Ρ·38、P,37、Ρ·34、p 3卜 p 3〇、p 28、p 、 P.25、P.24、Ρ.23、Ρ·14、P.22、P.13、Ρ.12、Ρ·1〇、Ρ·〇9、Ρ 〇5、 Ρ·07、Ρ.04、Ρ·20、Ρ 0 卜 Ρ·〇2、P.42、P.45、P.46、P.47、Ρ·48、 P49 、 P50 、 P51 〇 落 h 生球腔菌(Mycosphaerella arachidis ) {落疋 & 鳴 斑病菌(Cercospora arachidicola ) ) /液體培養物(早期葉斑 病): '、 將來自低溫存儲器之真菌之分生孢子直接混入營養培 養液(PDB馬鈐薯右旋糖培養液)中。在以2〇〇 施用 量將測試化合物之DMS0溶液置於96孔微量滴定板中之 216 201211005 後,添加含有真菌孢子之營養培養液。在24°C下培育測試 板且在施用之後4至5天用光度計測定生長抑制作用。以 下化合物提供至少80%之落花生球腔菌控制: P.41、P_40、P.39、P.38、P.37、P.36、P.3 卜 P.30、P.28、 P.2 7、P.2 5、P.23、P.14、Ρ·22、P.13、P.12、Ρ·1〇、p.〇9、p.〇5、 Ρ.07、Ρ·〇8、Ρ.04、Ρ.20、Ρ.03、Ρ.01、ρ.〇2、Ρ49、Ρ50、Ρ51。 禾生球腔菌(Mycosphaerella graminicola )(小麥殼針 孢(^印/〇厂/<2卜"/<^”/液體培養物(殼針孢斑點病): 〇 將來自低溫存儲器之真菌之分生孢子直接混入營養培 養液(PDB馬龄箸右旋糖培養液)中。在以$2 〇〇 ppm施用 量將測篇化合物之DMSO溶液置於96孔微量滴定板中之 後’添加含有真菌孢子之營養培養液。在24。(:下培育測試 板且在施用之後4至5天用光度計測定生長抑制作用。以 下化合物提供至少8 〇 %之禾生球腔菌控制: P.4 卜 P.40、P.39、P.38、P.37、P_36、P_34、P.32、P.31、 q P.30、P.28、P.27、P.25、Ρ·24、P.23、P.14、P.22、P.13、P.12、 p.l〇、P.09、P.〇5、ρ·〇7、p.〇4、ρ·2〇、p.〇3、P.02、P.42、P.43、 p.44、P.45、P.46、p,47、p.48、P49、P5〇、P5i。 禾琢龙丧潜(客ι·Λτ/Μί·«ι··〇 /液體培養物 (穀類之全蝕病): 將來自低溫存儲器之真菌之菌絲體碎片直接混入營養 心養’夜(PDB馬鈐薯右旋糖培養液)中。在以200 ppm施 用里將測試化合物之DMSO溶液置於96孔微量滴定板中之 後’添加含有真菌孢子之營養培養液。在24〇c下培育測試 217 201211005 板且在施用之後4至5天用光度計測定生長抑制作用。 下化合物提供至少80%之禾頂囊殼菌控制: P.40、P.39、P.38、P.37、P.36、P.34、P.3 卜 P.30、p.28 P.27、P.2 5、P.24、P.23、P.14 ' Ρ·22、Ρ·13、P.12、P.10、p.〇9 P.05、Ρ·〇7、P.04、P_〇3、P.20 ' Ρ·02、P.42、P.43、P.44、P.45 P.46、P.47、P.48。 雪徽葉枯病菌(Monographella nivalis )(雪徽葉私 .' '、今古病 (乃/液體培養物(縠類腐蹄病): 將來自低溫存儲器之真菌之分生孢子直接混入營養拉 養液(PDB馬鈴薯右旋糖培養液)中。在以$2〇〇 施用 量將測試化合物之DMSO溶液置於96孔微量滴定板中之 後’添加含有真菌孢子之營養培養液。在24。〇下培育測气 板且在施用之後4至5天用光度計測定生長抑制作用。以 下化合物提供至少80%之雪黴葉枯病菌控制: P.3 卜 P.30、P.23、Ρ·14、P.22、P.13 ' P.12、P.17、p.1〇、 P.09、Ρ·〇5、P.20、P.01、P.02 ' P_42、P‘46、P.48、P51。 水稻紋枯病菌(Thanatephorus cucumeris )(立枯絲杪 菌(Rhizoctoniasolcmi)) f液馥培秦物(廐蹄病、立枯病).. 將真菌之新生長液體培養物之菌絲體碎片直接混入敦 養培養液(PDB馬鈴薯右旋糖培養液)中。在以$2〇〇叩爪 施用量將測試化合物之DMSO溶液置於96孔微量滴定板中 之後,添加含有真菌物質之營養培養液。在24t:下培育測 試板且在施用之後3至4天用光度計測定生長抑制作用。 以下化合物提供至少80%之水稻紋枯病菌控制: 218 201211005 Ρ·4卜 P.4〇、P.39、P.38、P.37、P.31、ρ·3〇、p i3、p i2、 P,20、P.02、P49、P50、P51 ° 核盤菌(Sclerotinia sclerotiorum ) /液體培養物(棉狀 腐病(cottony rot))
將真菌之新生長液體培養物之菌絲體碎片直接混入營 養培養液(PDB馬鈴薯右旋糖培養液)中。在以$200 ppm 施用量將測試化合物之(DMSO )溶液置於微量滴定板(96 孔型式)中之後’添加含有真菌物質之營養培養液。在24°C C) 、 下培育測試板且在施用之後3至4天用光度計測定生長抑 制作用。以下化合物提供至少80〇/〇之核盤菌控制: P.40、ρ_39、Ρ·38、P.37、Ρ·44、P.46、P49、P5 1。 【圖式簡單說明】 【主要元件符號說明】 無
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Claims (1)
- 201211005 七、申請專利範圍: 1.一種式(I)之化合物,其中 X 表示 X-2、X-3、X-4 或 X-5 : #—Z-Z—# #—Z—Z-Z-# #—Z—Z—Z—Z-# X-2 X-3 X-4 #_Z1LZ11Z11Z11Z1£# X-5 Z1、Z2、Z3、Z5、Z6、Z7、Z8、Z9、Z10、Z11、Z13 及 Z14彼此獨立地表示CR^R2、C = CR3R4或C = 0 ; Z4 及 Z12 彼此獨立地表示 C = CR3R4、CR5R6、SiR7R8 或 c=o ; R1及R2各彼此獨立地表示氫、鹵素、OH、烷 基、CVC4鹵烷基、C3-C6環烷基、C3-C6鹵環烷基、CVC4 烷硫基、烷基亞磺醯基、Ci-C#烷基磺醯基、苯基 或CN,其中該苯基視情況經一或多個獨立地選自以下之 基團取代:鹵素、CN、CVC4烷基、CVC4鹵烷基、(^-山 烷氧基及鹵烷氧基; 或R1及R2連同其所連接之碳原子一起可形成C3-C6 220 201211005 環烧基或c3-c6鹵環烷基; R及R4各彼此獨立地表示氫、 Cl-C4_; 自素、cvc4烧基或 C 、、R AR各彼此獨立地表示氫、齒素、OH、美、Cl-C4画院基、C3_C6環烧基、C3-C6幽環烧 …基或CN’其中苯基視情況經一或多個獨立地選自 以下之基團取代:齒素、cn、Ci_C4燒基、CiA齒燒基、 G-C4烧氧基及Cl-c4鹵烷氧基; 或R5及R6連同其所連接之碳原子一起可形成C3_Ci 環烷基或C3-C6鹵環烷基; 其中該等基團X-2、X-3、X-4及X-5可含有至多一 個環,其含有僅一個基團Z1至Z14、或兩個基團ζι至z〗4、 或三個基團Z1至Z14、或四個基團z丨至作為環成員; 且其中基團Z1、Z2、Z3、Z5、Z6、Z9、Z10及Z丨4不會經 OH取代; Y1、Y2、Y3、γ4、Y5及Y6彼此獨立地表示氫、鹵素、 CN、Ν02、(VCs 烷基、Ci-CU 烷氧基-(VC4 烷基、CVQ 燒氧基- C1-C4院氧基- C1-C4院基、環烧基、C2_C8 稀基、C2-C8块基、苯基、σ比咬基、嘲。定基、COR9、OR10、 SH、Ci-Cs烷硫基、CVCs烷基亞磺醯基、CVCs烷基磺醯 基、N(Rn)2、C02R10、〇(CO)R9、CON(Rn)2、NR^COR9 或CR9N-OR1G,其中該烷基、環烷基、烯基、炔基、苯基、 嘧啶基及吡啶基視情況經一或多個獨立選自以下之基團 取代:鹵素、CN、NH2、NOS、OH、CJ-C4 烷基、C1-C4 221 201211005 鹵烷基、CVC4烷氧基、Cl_c4鹵烷氧基、c丨占 CrC4烷基亞磺醯基及Ci_C4烷基磺醯基;4烷&基 或 Y1 及 Y2、Y2 及 Y3 ' Y4 及 γ5 问甘π、由β 及Υ獨立地連 同其所連接之吼唆環之片段一起可形成部分或 和5員至7員碳環或含有1至3個獨白 '"儿地璉自0、S、N 及N(R )之雜原子的5員至7員雜璜 a… 貞雜級,其限制條件為該 Υ5及Υ6所形成 下之基團取代:鹵 雜%不3相鄰氧原子、相鄰硫原子或相鄰硫 且其中由Y1及Y2、Y2及Y3、Υ4及γ5、 ’、 之環視情況經一或多個獨立地選自以 素、CN:NH2、N〇2、oh、Ci_C4M、Ci_C4_、 C1-C4烧氧基及C1-C4鹵烧氧基; R9各彼此獨立地表示盘、Γ Γ、卜 不丁虱L丨-C8烷基、c3_c8環烷基、 CVC8稀基、CVC8炔基、节基、苯基或。比啶基,其中該 烷基、環烷基、烯基、炔基、苯基、节基及吡啶基視情 況經-或多個獨立選自以下之基團取代:函素、CN、 NH2' N〇2' OHn C \ - C λ n »_ 1匕4坑基' CVC4鹵烷基、Cl-C4烷氧 基及¢:,-(^4鹵烷氧基; R10各彼此獨立地表示氫、Ci_Cs烷基、€3_〇8環烷基、 C3_CS婦基、G-C8快基、节基、苯基或。比啶基,其中該 烷基、環烷基、烯基、炔基、苯基、苄基及吡啶基視情 況經一或多個獨立選自以下之基團取代:鹵素、CN、 NH2、N02、OH、CVC4 烷基、Ci_c4 _ 烧基、Ci_c4 烧氧 基、c丨-C4 i烷氧基及Ci_c4烷氧基_c】_c4烷基; R丨1各彼此獨立地表示氫、OH、c丨_C8烷基、C「C8 222 201211005 烷氧基、CVC8炫氧基_Cl_c4烷基、C3_C8稀基、CA快 基或C0R9 ’其中該烧基、燒氧基、烯基及块基視情況經 一或多個_素取代; 其中當兩個基團R"連接至同—氮原子時,此等基團 可相同或不同; 其中當兩個基團R11連接至同备m 2 士 免强主冋—虱原子時,此等兩個 基團並不都可為〇H、c丨桉ϋ且_w、。广 1 L4烷氧基或C〖-C4 _烷氧基; Ο 且其中當兩個基團R1丨連接? 备m 1 士 逆按主同一氮原子時,此等兩 個基團連同其所連接氣 …岍逆拱之虱原子—起可形成環 B-3 、 B-4 、 B-5 、 B-6 、 B-7 或 b_8 :c '、中°亥所%成之環視情況經-《多個冬蜀立地選自 :之基團取代:函素、CN、丽2、N〇2、〇H、Ci_ CM燒基、Cl_C4貌氧基及…烧氧基;土 G1 2 、G1及G5彼此獨立地表*_c(r12r13)_; G及G6彼此獨立地表示_c(r12r13)_、〇、n(r14)或 忠r5及〇或G2及&、或Gi及Gi、或y及& ° ^ G、或 G4 及 G1 —起表示-CR12=CR13-; R及11丨3各彼此獨立地表示氫、_素、烷基 223 1 x燒基、(VC4燒氧基或Ci_c4函烧氧基; 201211005 R表示氫、〇Η、(ν(:4烷基、(VC4烷氧基、C3-C6 環烷基' C^C:8烷基羰基或d-Cs鹵烷基羰基;及 p及q各獨立地為〇、1或2; 或其鹽或N-氧化物。 2. 如申請專利範圍第1項之化合物,其中G1、G2、G3、 G4、G5及G6表示亞甲基。 3. 如申請專利範圍第1項或第2項之化合物,其中P及 q彼此獨立地為丨或2。4 ·如申凊專利範圍第1項或第2項之化合物,其中P及 q為1 〇 5.如申晴專利範圍第1項之化合物,其中X表示χ_3 或 Χ-5。 6.如申請專利範圍第1項之化合物,其中X表示χ_3。 7·如申請專利範圍第1項之化合物,其中 X表示Χ-3 ; Ζ及Ζ表示亞甲基; ^ 表示 C = CR3R4、cr5r^ siR7R8; '及:·此獨立地表示氫、鹵素、甲基或鹵" R、R、R7及Rs彼此獨立地表示氫、鹵素、㈤ 炫基、Cl_C4 _燒基或苯基,其中該苯基視情況 -或多個獨立地選自以下之基團 鹵f基、f氧基及齒f氧基; 齒素、CN、f基 I#彡成视惰 起 或R5及R6連同其所連接之碳原子 經鹵素取代之C3_C$環烷基。 、 224 201211005 . 8_如申請專利範圍第1項之化合物,其中 y1、Υ2、Υ3、γ4、γ5及γ6彼此獨立地表示氫、_素、 N(Rn)2、CN、N〇2、Cl_C8 烧基、Ci_C6 燒氧基 _Ci_C4 烷 基、c3-c8環烷基、C2_c6烯基、C2_C6炔基、苯基、吡啶 基、OR 'SH'CrCs烷硫基、(:丨-(:8烷基亞磺醯基或CrCs 烷基磺醯基,其中該烷基、環烷基、烯基、炔基、苯基 及吡啶基視情況經一或多個獨立地選自以下之基團取 代:_ 素、™、NH2、N〇2、0H、Cl_C4 烧基、Ci_C4 _ 烷基、CVC4烷氧基及Cl-C4鹵烷氧基; 或Y1及Y2、Y2及γ3、,及γ5、¥5及丫6獨立地連 同其所連接之吡啶環之片段一起可形成部分或完全不飽 和5員至7員碳環,其中該由γΐ及γ2、Υ2及γ3、γ4及 γ、或Υ5及Υ6所形成之環視情況經一或多個獨立地選自 以下之基團取代:鹵素、CN、NH2、n〇2、0H、Cl-C4烷 基、c丨-C4鹵烷基、c丨_C4烷氧基及Ci_C4鹵烷氧基; Q 其中Rl0各彼此獨立地表示氫、CVC4烷基、C3-C6 環烷基、CVC6烯基、CVC6炔基、苄基、苯基或吼啶基, 其t該烷基、環烷基、烯基、炔基、苯基、节基及。比啶 基視情況經一或多個獨立選自以下之基團取代:鹵素、 CN、簡2、N〇2、0H、Ci_C4 院基、Ci C4 画燒基、Ci C4 烷氧基、C丨-C4鹵烷氧基及Cl_c4烷氧基_C1_C4烷基; R11各彼此獨立地表示氫或d-q烷基,其中該烷基 視情況經一或多個齒素取代; 其中當兩個基團R11連接至同一氮原子時,此等基團 225 201211005 可相同或不同; 且其中當兩個基團Rn連接至同一氮原子時,此等兩 個基團連同其所連接之氮原子—起可形成環B_ 1、、 B-3、B-4或b_5,其中該所形成之環視情況經一或多個 獨立地選自以下之基團取代:函素、甲基及^甲基。 9.如申請專利範圍第1項之化合物,其中 Y Y及Y彼此獨立地表示氫、_素、NiR1 !)2、 7、N〇2、Cl~C6 烷基、Cl_C4 烷氧基-CVC* 烷基、C3_c6 %烷基、(VC6烯基、CyC6炔基、苯基、。比啶基、c丨a 烷氧基、(VC4烯氧基、Ci_C4炔氧基 '苯氧基、SH、 烷硫基' CrC8烷基亞磺醯基或Ci_c8烷基磺醯基,其中 … 衣烷基、烯基、炔基、苯基及吡啶基視情況經 一或多個獨立地選自以下之基團取代:鹵素、cn、nh2、 N02、oh、Ψ基、甲氧基及鹵曱基; 及Y彼此獨立地表示氫、鹵素、Ci_C4烷基或 鹵烧基; ^及γ、γ及γ5獨立地連同其所連接之吡啶環 1 ^可形成部分或完全不飽和ό員碳環,其中該 及υ或γ4及γ5所形成之環視情況經—或多個獨立 地選自以下之基團取代:齒素、CN、ΝΗ2、Ν〇2、0Η、 C〗-C4院基、Cl-C4齒烧基、Ci_C4燒氧基及Μ*齒烷氧 基; 中玟各彼此獨立地表示氫或烷基,其中該 烷基視情況經一或多個卣素取代; 226 201211005 其_當兩個基團 可相同或不同; R11連接至同— 氛原子時, 此等基團且其申當兩個基團R1丨連接至 個基團連㈣料接之_ ··原子時,此等兩 R , R 4 D 起可形成環B-!、B_2、 B-3、B-4或B-5,其中該所形 X <衣視情況經一或多個 獨立也選自以下之基團取代: 1Λ , ^ 凶震、Τ基及鹵曱基。 1〇·如申請專利範圍第1項之化合物,其中 X表示Χ-3 ; Ζ3及Ζ5表示亞甲基; Ζ4 表示 c=cr3r4、cr5r6 或 SiR7R8 . R:及:4彼此獨立地表示氯、幽素1編甲基; R R、R及R8彼此獨立地表示氯、函素、〇H、 C丨-C4烷基、Ci_c4齒烷基或苯基,其中該苯基視情況經 -或多個獨立地選自以下之基團取代:齒素、CN、甲基、 鹵曱基、甲氧基及鹵曱氧基; 或R及R連同其所連接之碳原子—起可形成視情況 經鹵素取代之C3-C6環烷基; Y、Y、Y、Y4、γ5及γ6彼此獨立地表示氫齒素、 N(R )2、CN、N02、C丨-C6 烧基、C|-C4 烧氧基-d-CU 烷 基、cvc:6環烧基、cvG烯基、C2_C6炔基、苯基、祉啶 基、c丨-C4烷氧基、Ci-C4烯氧基、C丨-c4炔氧基、苯氧基、 SH、Ci-C:8烧硫基、q-C8烧基亞續醯基或(3^8烧基續 醯基,其中該烷基、環烷基、烯基、炔基、苯基及„比啶 基視情況經一或多個獨立地選自以下之基團取代:鹵 227 201211005 素、CN、NH2、N〇2、〇H、曱基及鹵曱基; 或 γΐ 及 Y2、Y2 及 γ3、γ4 及 5 及 及Υ、Y及Y6獨立地連 同其:連接,吡咬環之片段一起可形成部分或完全不飽 和5員至7員碳環,其中該由γΐ及γ2、γ2及γ3、丫4及 Υ5、Υ5及Υ6所形成之環視情況經一或多個獨立地選自以 下之基團取代:i素、CN、期2、Ν02、0Η、 曱基; 、主妙各彼此獨立地表示氫或以院基,其中該炫基 視h況經一或多個_素取代; 其令當兩個基團R"連接至同一氣 可相同或不同; 1原子時,此等基團 且其中當兩個基團Rn連接至同一氮 個基團連同其所漣杻此4兩 厅連接之虱原子一起可形成環 B-3、B-4或B-5,盆中嗜所报士 ^ L /、甲°哀所形成之裱視情況經一或多個 獨立地選自以下之基 飞夕個 基團取代‘齒素、曱基及齒甲基; 、G、G3、G4、亇及G6表示亞甲基;及 P及q為1。 ★申π專利fe圍帛】項 Y4相同之取代基、γ2本一* 5 /、甲Υ表不與 6 表不與Υ相同之取代基,且Υ3夺- 與γ相同之取代基, 表不 中G1表亍金r4 士且-中Ρ與q相同且為1或2,且其 τ 衣不與G相同夕甘0 w , 、 G3 Λ - , 6 取代基,G表示與G5相同之取代 且表不與G6相同之取代基。 代基 如申清專利範圍笛〗 Y4 Π 圍弟1項之化合物,其中Υ1表干盥 Υ相问之取代基、2 衣不與 不 表不與Υ5相同之取代基,且γ3表 228 201211005 與γ相同之取代基,且其中盥 1^、9相同且為1或2,且其 中G表示與G4相同之取代基,g2^_ 3 _ , 表不與G相同之取代基 且G表示與G相同之取代基,且其 τ a马χ_3或X-5,且 其中Z表示與Z5相同之取代基,zu 衣不興Z 相同之取代 基,且表示與z"相同之取代基。 取代 13.—種如申請專利範圍第〗 只王弟12項中任一項之式 (I)化合物之製備方法,其包含如汽殺a ^ "丨匕程A中所示使式(lib)化 Ο 合物與式(V)化合物反應 流程A其6中心表示齒素、_〇-S〇2_Rl^三氣乙酿亞胺酿基; c R表不Ci-C4烷基、Ci_C4鹵烷基或笨基,其中該苯 基視情況經一或兩個猶办认、辟A U询立地選自以下之取代基取代:甲 基、三函甲基、n〇2、cn、Ci_C7院氧幾基; 且 x、G、G2、G3、G4、G5、G6、Y1、γ2、γ3、γ4、 υ ρ及q係如申請專利範圍第i項至第i 2項中任 一項之式(I)化合物所定義;或 種式⑴化5物之製備方法,其包含如流程B中所 示使式(VIa)化合物與式(Vila)化合物反應纟生式(IIa)化 合物且使式(IIa)化合物與W)化合物反應 流程B 229 201211005Ν 2 Η ο ^ )/ 'x,la / ο Η Ν ο Ν 2 Η4 5 V Yο GIG a, (νιP vfl / 2 GIG 其中 X、G1、G2、G3、G4、G5、G6、Υ1、Υ2、Υ3、 Y4、Y5、Y6、p及q係如申請專利範圍第1項至第1 2項 中任一項之式(I)化合物所定義;或 一種式(I)化合物之製備方法,其包含如流程C中所 示使式(Via)化合物與式(Villa)化合物及式(Vila)化合物 反應 230 201211005 流程c其中 X、G 、G2、G3、g4、g5、G6、Υ1、Υ2、Y3、 Υ4、Υ5、Υ6、ρ及q係如申請專利範圍第i項至第12項 中任一項之式(I)化合物所定義。W % 了只丨力啕用植物或 231
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