201219775 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 發明領域 本發明係關於-種取得產生有缺陷之基板之—部份放 大後之圖像的圖像取得裝置以及圖像取得方法、修復基板 缺陷之缺陷修正裝置。 C先前】 發明背景 以在’液晶顯示器或PDP(Plasma Display Panel :電聚 顯示面板）、有機EL(ElectroLuminescence :電致發光）顯示 器或表面傳導型電子放出顯示器等的FPD(Flat Panel Display :平面顯示器）、半導體晶圓、印刷基板等各種基板 的製造中，為提升良率，於各圖案成型製程後，藉由缺陷 檢查裝置（例如參照專利文獻1)檢察是否存在缺陷，若存 在缺陷，則利用缺陷修正裝置修正缺陷。這樣的缺陷包括 電極及配線的短路、接觸不良、斷線、圖案不良以及附著 於基板表面的粒子或光阻等異物。 【先行技術文獻】 【專利文獻】 【專利文獻1】日本專利特開第2009-192358號公報 【發明内容】 發明欲解決之課題 習知之缺陷檢查裝置以及缺陷修正裝置中，為提高為 檢查對象之缺陷檢測精確度，使焦點位置最適化後，拍攝 201219775 檢查對象的電極圖案或者配線圖案，比對該圖案圖像與樣 本圖案的圖像，檢測出電極或配線的短路等。然而，於測 距領域的對焦檢測領域内有持有高度形狀之捲入類的異物 時，會有焦點對焦於該異物而電極圖案或者配線圖案被模 糊的問題。 本發明係鑑於上述而作成者，其目的為提供一種可穩 定地將焦點對焦於電極圖案或配線圖案之圖像取得裝置、 缺陷修正裝置以及圖像取得方法。 用以解決課題之手段 為解決上述課題而達成目的，本發明之圖像取得裝置 係取得生有缺陷之基板之一部份放大後的圖像者，包含 有：攝像部，係具有鏡片及攝像元件，並用以放大前述基 板的一部份而攝像者；位置變更部，係變更前述基板上之 前述攝像部的視野領域者；對焦檢測部，係對前述鏡片的 前述基板進行對焦者；對焦檢測部，係進行前述基板對前 述鏡片之對焦者；位置控制部，係控制前述位置變更部， 於前述對焦檢測部進行對焦時，使前述基板之圖像取得對 象領域内所含的前述缺陷從作為前述對焦對象的對焦檢測 領域退避者；對焦控制部，係固定前述對焦檢測部進行之 對焦後的焦點條件者；及攝像控制部，係在前述對焦控制 部進行之焦點條件的固定後，使前述攝像部放大前述基板 一部份而攝像者。 又，本發明之缺陷修正裝置係使雷射光照射基板，修 復前述基板之缺陷者，包含有：上述之圖像取得裝置、以 201219775 及缺陷修正部，係根據上述圖像取得裝置之攝像部所取得 的圖像，照射前述雷射光於前述基板以進行修復處理者。 又，本發明之圖像取得方法係藉由攝像部攝像，取得 產生有缺陷之基板之一部份放大後的圖像者，包含有：退 避步驟，係變更前述基板上之前述攝像部的視野領域，使 前述基板之圖像取得對象領域内的缺陷從成為對焦對象的 對焦檢測領域退避；對焦檢測步驟，係進行前述攝像部之 鏡片對前述基板之對焦；焦點固定步驟，係固定前述對焦 檢測步驟進行之對焦後的焦點條件；及攝像步驟，係以已 於前述焦點固定步驟固定的焦點條件，放大前述基板的一 部份攝像。 發明效果 本發明係於進行對焦時，在使基板之圖像取得領域内 所含之缺陷自成為對焦對象的對焦檢測領域退避之狀態下 進行對焦，並且在固定該對焦後的焦點條件後，攝像基板 的一部份’因此可在缺陷本身不在對焦檢測領域之狀態進 行對焦’所以可穩定的將焦點對焦於對焦檢測領域的電極 圖案或配線圖案。 圖示簡單說明 第1圖係表示實施型態1之具有缺陷修正裝置之缺陷修 正系統之概略構成的方塊圖。 第2圖係表示第1圖所示之缺陷修正裝置之構成的方塊 圖。 第3A圖係用以說明第2圖所示之攝像部之視野領域中 201219775 的對焦檢測領域者。 第3B圖係用以說明第2圖所示之架台之視野領域中的 對焦檢測領域者。 第4圖係表示第2圖所示之缺陷修正裝置中，到圖案比 對處理之處理順序的流程圖。 第5圖係表示缺陷情報之一例者。 第6A圖係用以說明第2圖所示之退避條件取得部之座 標更換者。 第6B圖係用以說明第2圖所示之退避條件取得部之座 標更換者。 第7A圖係用以說明第2圖所示之退避條件取得部進行 之退避條件取得處理者。 第7B圖係用以說明第2圖所示之退避條件取得部進行 之退避條件取得處理者。 第8圖係說明習知之缺陷圖像者 第9圖係說明第2圖所示之缺陷修正裝置之缺陷圖像 者。 第10圖係表示實施型態2之缺陷修正裝置之概略構成 的方塊圖。 第11圖係表示第10圖所示之缺陷修正裝置中到圖案比 對處理之處理順序的流程圖。 第12圖係說明第11圖所示之圖像處理者。 第13圖係表示第11圖所示之圖案比對判斷處理之處理 順序的流程圖。 201219775 第14圖係表讀板上缺陷之-例者。 第15圖係用以說明第2圖所示之架 第16圓係用以說明第2圓所示之退部之控制者 之退避條件取得處理者。 疋避條件取得部進而 第17圖係用以說明第2圖 之退避條件取得處理者。 、避條件取得部進行 第_係用以說明第⑼所示之 之退避條件取得處理者。 保件取件部進行 第19圖係用以說明第2圖 之退避條件取得相者。 、郷縣得部進行 苐2〇圖係用以說明第 之退避條件取得處理者。 之退避條件取得部進行 第21圖係表示實施型態之缺陷修 方塊圖。 裝置之其他構成的 第22圖係表示實施型態之缺陷修 方塊圖。 裝置之其他構成的 【iST方包】 較佳實施例之詳細說明 以下’Y尤本發明之實施形態’以修正例如玻璃 外導==:=:一為例_。另 又本實施形態所限定者。又，圖 相同部份賦予相同符號。 。載中 (實施形態1) 就實施型態1作說明。第1圖係表示實施型態】之具有缺 201219775 陷修正祕之缺_正裝置之概略構成的方塊圖。此缺陷 修正系統係對基板之製造系統的—部份，且例如第i圖所 示’具有缺陷檢查裝置卜統合生產線情報的生產資料管理 伺服器3、連接職㈣”料庫5以管理缺關報的缺陷 情報管理舰器4、缺陷分縣置6以及缺祕正裝置刚透 過網路2而連接之構成。 首先’說明系統全體的處理概要。缺陷檢查裝置i係當 例如微影步驟中形成有光阻圖案之基板由搬送系統搬送來 時’依照所設;t的檢查條件，檢測出於該基板中的斷線、 圖案不良以及異物等輸，並取得表示缺陷之基板上之座 標位置之缺陷位置座標以及表示缺陷之大小尺寸之尺寸情 報。缺情報管理伺服器4係使用FTp(File
Protocol .檔案傳輸協定）等經由網路2取得該等各情報，並 登錄於缺陷情報資料庫5，並且將登錄内容發送至生產資料 管理伺服器3。 缺陷檢查裝置進行缺陷檢查後之基板中，產生有缺陷 的基板被搬送至缺陷分類裝置6。缺陷分類裝置6向缺陷情 報管理伺服器4要求關於為缺陷分類對象之基板之缺陷的 缺位置座標以及尺寸情報。缺陷分類裝置6依照缺陷情報 官理伺服器4所發送的缺陷情報而拍攝缺陷圖像，並藉由圖 像處理機能將缺陷的種類作分類。缺陷情報管理伺服器4經 由網路2取得該分類結果，以此作為缺陷情報而登錄於缺陷 隋報資料庫5，並且將登錄内容發送至生產資料管理伺服器 201219775 蜗陷分類 、 仃缺陷分類後的基板被搬送到缺陷 修正裝置刚。缺陷修正裝置刚向缺陷情報管理舰器4要 求顯示有修正對象之基板之缺陷之位置以及類別的缺陷情 報。缺陷修正裝置100依據從缺陷情報管理伺服器4發送之 缺陷情報對缺陷攝像’並藉由拍攝好的缺陷圖像與預定之 樣本圖案圖像的比對’進行缺陷之擷取、及設定雷射光的 非照射領域以將電極圖案或配線圖案排除於雷射加工領域 之外^遮罩設定後，照射雷射光來修正基板上的缺陷。 /缺1^正I置1G0在缺陷不位於為測距領域之對焦 檢測領域的狀態下，進行缺陷攝像前之焦點位置之最適化 的對 <、、、檢測處理。因此，關於該缺陷修正裝置^⑽加以詳細 說明。第2®係表示第1圖所示之缺陷修正裝置100之概略構 成的方塊®。巾請專利範圍巾之圖像取得裝置係在該缺陷 u裝置100中’係由第2圖所示的架台11〇、架台移動部 113、顯微鏡部120、輸入部124、通信部143、記憶部144、 ^ 3 ‘’、1不Qpl46的輸出部145以及控制部15〇所構成。 如第2圖所示，缺陷修正裝置100係具有：載置產生有 缺陷之修正對象之基板111的架台110、使架台110水平移動 的架台移動部113、從上方觀察載置於架台11G上基板U1的 顯微鏡部120、輸出照射於基板ln之修復賴用之雷射光 的雷射’、?、射部13〇、輸人指示對缺陷修正裝置丨⑼之各種操 作和c·又疋之指示情報的輸入部142、透過網路2與外部裝置 之間通彳5依照預定形式之情報的通信部143、記憶各種程式 以及配線、電極的各種樣本圖案圖像的記憶部144、包含用 201219775 以顯不在顯微鏡部120取得的圖像或各種情報之顯示部l46 的輸出部145、以及執行從記憶部144讀出的各種程式和參 數，並且控制缺陷修正裝置1〇〇内之各部的控制部15〇〇 修正對象之基板1丨1係例如FPD用的玻璃基板或半導體 基板或印刷基板等。於架台11〇的載置面設有複數的孔。藉 由自不圖示的泵供給氣體至該等孔，而可為使基板111懸浮 的狀態，在此狀態中，基板1U可藉由不圖示的固定構件保 持於架台11〇上。或者亦可將該等複數孔連結至不圖示的真 空泵，藉由來自該等孔之吸氣，將載置於架台11〇上的基板 ill吸附固定於架台110。又，在架台110上保持基板lu的 保持機構，除上述以外，亦可為使用支持銷或夾板機構等 機械性機構之構成。 架台110藉由架台移動部113而於直交於後述之對物鏡 片129之光軸的平面内移動自如，變換基板1U對對物鏡片 129在該平面上的位置。架台移動部113藉由移動架台11〇， 變更基板111上之攝像部121之視野領域的位置。 顯微鏡部120包含有：含有CCD感測器或CMOS感測器 等攝像元件的攝像部121、及用以照明架台11〇上之基板lu 的照明部125 ’並發揮作為取得基板1U的一部份放大後之 圖像之攝像部的功能。從照明部125輸出的照明光，於半鏡 126上反射後’作為與對基板lu之觀察光軸αχ同軸的光， 透過對物鏡片129照明基板ill。又，如此受到照明之基板 111的圖像，藉由包含沿著觀察光軸Αχ配置的對物鏡片 129、半鏡138、半鏡126、半鏡124及成像鏡片122的觀察光 201219775 學系統’放大成例如數倍〜數十倍而成像於攝像部i2i的受 光面。 於攝像部121取得的圖像資料輸人至攝像控制部153， 並在實施各種圖像處理後，輸出至顯示部146。藉此，於顯 不部146約略即時地顯示以顯微鏡部12〇取得的視野領域的 圖像。透過該觀察光學系統的攝像部121之視野領域較單一 拍攝(shot)領域範圍廣。藉由照明部125照明的領域係至少 杈視野領域廣的範圍。χ，至少視野領域内係藉由來自照 明部125的照明光，自上方受到約略均一的照明。 對物鏡片129由旋轉器128保持在位於載置於架台11〇 之基板111的上部。對物鏡片129相對於旋轉器128自由裝卸 地安裝，因應旋轉器128的旋轉還有滑行動作，配置於架台 110上。又，旋轉器128可藉由聚焦機構127升降移動，對焦 檢測部123藉由控制聚焦機構127使該旋轉器128升降，進行 對物鏡片129對基板ill之對焦，並進行焦點位置的最適化。 雷射照射部130包含有：雷射光源131，輸出照射至基 板111的雷射光；LED132，輸出用以調整來自雷射光源131 的雷射光和攝像部121之視野領域之引導光；空間光調變器 135 ’發揮作為將來自雷射光源131之雷射光的光束截面形 狀（以下稱做雷射截面形狀）整型為所希望之形狀的光束 整形部之功能；及領域設定部136，在控制部150之控制之 下’調整雷射照射部130輸出之缺陷修復用雷射光的光束截 面形狀（與雷射光之光軸垂直的截面形狀），且該雷射照射 部130可發揮機能作為缺陷修正部，根據顯微鏡部120之攝 11 201219775 像部121所取得的圖像，將用於修復缺陷且已空間調變後的 雷射光照射於基板111以修正缺陷之。 來自LED132之引導光藉由在半鏡133反射，其光軸與 雷射光源131的光軸一致。又，來自雷射光源131的雷射光 以及來自LED 132的引導光透過向反射鏡134、空間光調變 器135、以及高反射鏡137後，於半鏡138反射，藉此其光軸 與觀察光軸AX—致。因此’業已在半鏡138反射的雷射光 與引導光’透過對物鏡片129而從上方沿著觀察光軸AX照 射至架台110上的基板111。 作為空間光調變器的空間光調變器135具有例如一個 微小裝置之微鏡配列成二次元陣列之構成。各微鏡的反射 角’在來自控制部150的控制之下’可切換成開啟角度與關 閉角度之至少兩者中任一者。所s胃開啟角度，係經在該狀 態之微鏡所反射之雷射光投射於架台110上之基板lu的角 度’所謂關閉角度’係經在該狀態之微鏡所反射之雷射光 作為不必要之光’而照射到設置於光路外之不圖示之遮光 構件或吸收構件等之雷射阻尼的角度。因此，將配列成二 次元陣列狀之微鏡各自之反射角切換至開啟角度或關閉角 度之任-者’藉此可控制投射於基板lu之雷射光的截面形 狀。藉此’可將來自雷射光源m之雷射光的截面形狀調整 為修復圖案之形狀後照射到基板111。該修復圖案是在正常 的配線圖案以外照射雷射光的修復圖案，例如修復圖案去 除不良等缺陷時’成為令對應於拍攝領域中正常之配線等 之領域的微鏡為關閉角度，令對應於此以外之領域之微鏡 ⑧ 12 201219775 為開啟角度之圖案。再者，空間光調變器135亦可使用例如 TEXAS INSTRUMENTS Incorporated(德州儀器）提供的
Digital Micromirror Device (數位微鏡裝置，稱為DMD)。 領域設定部136依照自控制部150輸入之修復處的圖 案，而一一控制空間光調變器135之微鏡的反射角，藉此將 雷射光的截面形狀控制成修復圖案的形狀。再者，修復圖 案的設定除了如上所述般因應於正常的配線圖案來設定 外，亦可配合缺陷形狀來設定。這種情況時，只要使雷射 光的截面形狀配合缺陷形狀，令對應缺陷領域的微鏡為開 啟角度，令對應缺陷領域以外之領域的微鏡為關閉角度即 〇 輸入部142係使用鍵盤、滑鼠等構成，與於顯示部146 顯示的GUI (Graphical User Inetrface ;圖形使用者介面） 聯合取得來自❹者之各種設定參數等之輸人指示。通信 部143係使用通信介面等構成，自外部裝置接受處理對象之 基板之缺陷的缺陷情報，並且對外部發送包含圖像資料的 各種資料等。記憶部144係使用硬碟、R〇M、RAM以及可 攜式記憶媒料構成，預先記㈣以控制缺絲正裝置ι〇〇 之各種動作的控制程式。又，記憶部144因應基板⑴的步 驟:品種，記憶電極（以及配線）圖案的樣本圖案圖像。 ”打4146使用液晶顯不n等構成，顯示觀察圖像、設定情 報、以及通知情報等。 μ控制部150具有缺陷情報取得部151、對焦檢測領域演 ^ 冑像控制部153、退避條件取得部154、對焦控制 13 201219775 P 架。控制部156'及圖案比對處理部157。 缺隋報取得部1S1透過通信部 143，經由網路2而自缺 陷晴報s理词服器4取得前步驟之缺陷檢查裝置1以及缺陷 刀類裝置6所取得的缺陷情報。此缺陷情報係特定處理對象 之缺陷之基板111上的位置者，並且包含處理對象之基板 111的步驟以及品種、各缺陷的重心座標值、以及作為表示 缺大小之尺寸情報且外接於各缺陷之四角形之不相鄰兩 頂點之基板上的座標。 對焦檢測領域演算部152透過輸入部142，輸入對焦檢 測7頁域相對於以攝像部121的畫素座標系表示之視野領域 的相對座標值、對物鏡片m或成像鏡# 122的倍率及所使 用之攝像部121的畫素尺寸時，將攝料121的合焦檢測領 域變換為架台11〇上的實際座標而料於記憶部 144。由於 此對焦檢測領域依存於對焦檢測部丨2 3，因此必須對應對焦 檢測部123做設定。 例如如第3A圖所示，以假定對焦檢測領域為自攝像部 121的視野領域FC的中心FcO往右上偏移的對焦檢測領域A0 (以240畫素為一邊的正方形）的情況為例說明。當對物鏡 片129的倍率為5倍、1〇倍、20倍、50倍之4種類，成像鏡片 2的倍率為〇5倍，攝像部121的畫素尺寸為65"m/畫素 時，就對物鏡片129的倍率為20倍的情況，對焦檢測領域A〇 依據對焦檢測領域演算部152的演算，變換為於架台11〇 上第3B圖所示之架台11〇上的視野領域Fs (對應於攝像部 121的視野領域Fc)之中心FsO右上的對焦檢測領域so (以 ⑧ 14 201219775 156μ m為-邊的m彡）。對焦檢測領域演算部I”使記憶 部H4記憶關於變換至架台u〇上的實際座標後的對錄測 領域之情報。再者，該第3A圖所示之例中，視野領域Fc的 中心FcO的座標設定為（64◦，傷）。又，第犯圖所示之例中， 視野領域Fs的中心FsO的座標設定為（〇,〇)。 攝像控制部153控制攝像部121的攝像處理。對焦控制 4155在、纟^束對職檢測領域的對錢，㈣聚焦機構以? 而將旋轉器i28固定於焦點條件最適化的高度，藉此固定對 …HP123進行對紐的焦點條件。攝像控制部153在該 對焦控制部I55進行之焦點條件之固定後，使攝像部放大修 正對象之缺陷所在之基板的—部份而進行拍攝。 • 圯避條件取得部154根據由缺陷情報取得部151所取得 #缺1^報’使基板111移動以使修正對象的缺陷的重心位 置位於架台110上的視野領域Fs的中心Fs〇時，會判斷該缺 陷是否位於對焦檢測領域_的位置。換句話說，退避條 件取得部154係當欲使基板U1上的視野領域Fs在面積維持 疋之下變更位置，以使圖像取得領域内所含的缺陷的重 U位置位於架台110上的視野領域Fs的中心FsO時，判斷該 缺陷是否位於對焦檢測領域S0内的位置。退避條件取得部 154判斷修正對象的缺陷位置在對焦檢卿域SG内時，則根 據缺陷凊報所包含的缺陷的重心座標與缺陷的尺寸情報為 基礎，演算自對焦檢測領域S0的退避距離以及退避方向， 取得演算出之退避距離以及退避方向作為退避條件，以使 該缺陷在對焦檢測領域so外。 15 201219775 、退避條件取得部154，使基板lu移動，以使修正 ,、之缺陷的重心位置位於架台11G上的視野領域Fs的中 U S〇時’當簡4該缺陷位於對焦檢測領域SG内時，架台 =制。P156則控㈣台移動部113，且於對錄測部⑵進行 诚焦時’使修正對象的缺陷自成為對焦對象的對焦檢測領 =避°此時’架台控制部156依照退避條件取得部⑼所 β的退避條件，使修正$丨象的缺陷自對焦檢測領域s〇退 避。而且’架台控制部156在對焦控制部155進行之焦 件固定後’控制架台移動部113使基板111移動，藉此使修 正對象之缺陷的重心位於架台110上的視野領域Fs的中心 FsO。攝像㈣部i53錢台控制部156使修正對象之缺陷的 重心位於視野領域Fs的中心Fs〇之後，使攝像部ΐ2ι放大基 板111的一部份加以拍攝。 即，架台控制部156於拍攝圖像及缺陷修正處理的時 候，根據缺陷情報的缺陷座標，令架台11〇水平移動，使修 正對象之缺陷的重心座標位於顯微鏡部12〇的視野領域的 中心。藉此，控制顯微鏡部12〇與基板ill之間的相對位置， 使缺陷的重心座標位於顯微鏡部12〇的視野領域中心。 圖案比對處理部157在攝像控制部153的控制之下，處 理包含攝像部121所拍攝之缺陷之基板πι的圖像（缺陷圖 像），進行圖案比對。圖案比對處理部157自預先請求並儲 存於記憶部144内的樣本圖案圖像巾，使用與基板lu的工 作程序之種類相對應的樣本圖案圖像，判斷缺陷圖像的電 極（或配線）圖案是否和樣本圖案圖像的電極（或配線） ⑧ 16 201219775 一致’擷取異物或圖案不良等的缺陷。控制部15〇根據圖案 比對處理部I57之圖案比對的處理結果來設定修正對象領 域’並為了由雷射加工領域排除修正對象領域之外的領 域，進行設定雷射光非照射領域的遮罩設定。之後，控制 150使領域设定部136調整修復缺陷用的雷射光之光束戴 面形狀之後，使雷射光源131照射雷射光，進行缺陷修正處 理。 其次，說明第2圖所示之缺陷修正裝置1〇〇中到取得使 用於圖案比對處理之缺陷圖像，並進行圖案比對之前的處 理。第4圖係表示第2圖所示之缺陷修正裝置1〇〇中到圖案比 對處理為止的處理順序的流程圖。 如第4圖所不，首先，進行對焦領域之初期設定處理（步 驟S1) ’該處理係對焦檢測領域演算部152根據對焦檢測領 域相對於攝像部121的晝素座標系所示之視野領域的相對 座標值、對物鏡片129和成像鏡片122的倍率以及使用之攝 像。卩121的晝素尺寸，將攝像部121的對焦點檢測領域變換 為架台no上的實際座標’然後儲存於記憶部144。再者，' 由於對焦檢測領域係依賴於對焦檢測部123者，因此該對焦 檢測領域的初期設定處料需要每次進行，可例如定期進 作又，輸入對焦檢測領域之初期設定處理所需要之各種 情報時的型態不拘，亦可為例如在缺陷分類裝置6之控制軟 體上之初期設定檔案内事先登錄的型態。 接著，基板111載置於架台11〇時，缺陷情報取得部151 進订取得對該基板之工程、品種圖像取得對象之基板山上 17 201219775 之士情報的缺陷情報取得處理（步驟μ)。該缺陷情報係 例如於第5圖關示的缺陷清單了 1所示，對應有附於各缺陷 的缺陷編號、賴的重心座標以及外接於該缺陷之外接四 角形之不相鄰兩頂點的左上頂點座標和右下頂點座標。缺 陷情報取得部151透過通信部⑷，經由網路2自缺陷情報管 理他器4取得缺陷情報。又，記憶部144有贱記憶有缺 陷情報’缺陷情報取得部151亦可以自記憶部144取得缺陷 情報。 接著，退避條件取得部154根據缺陷情報取得處理（步 驟S2)中所取得的缺陷情報預先進行演算，藉此當欲使基 板移動成使修正對象的缺陷重心位置位於架台11 〇上之 視野領域Fs的中心FsG時，判斷該缺陷是否位於對焦檢測領 域so内的位置（步驟S3)。換句話說，退避條件取得部154 在步驟S3中判斷’欲使變更基板1U上之視野領域Fs位置， 以使修正對象的缺陷、也就是基板111之圖像取得對象領域 内所含之缺陷的重心位在視野領域Fs的中心時，，該缺陷 是否位於對焦檢測領域S0内。 在此’如第5圖例示的缺陷清單T1 ’當缺陷的重心座標 以及該缺陷的外接四角形的各頂點座標係以與記憶部144 所記憶之視野領域Fs相異之原點為基準點時，退避條件取 得部154必須對照視野領域Fs的原點置換各座標的座標。例 如’對第6A圖之對應於第5圖之缺陷清單T1的缺陷編號1的 缺陷D進行判斷時，首先，把該缺陷d於架台no上的重心 pg的實際座標，如第6B圖所示般置換為與視野領域Fs的中 ⑧ 18 201219775 s0同樣的座標(〇,〇)。接著，退避條件取得部154把缺陷D 之外接四㈣R1之左上頂點的座標與右下頂點的座標置換 為以重’uPg為原點的相對座標。之後’退避條件取得部154 於移動基板11U吏缺陷D之重心Pg位於架台11〇上之視野領 域Fs的中心Fs〇時，，觸缺陷〇的外接四角形^是否位於 對焦檢測領域S〇内。 退避條件取得部154判斷修正對象的缺陷位於對焦檢 測領域S0時（步驟S3 : Yes)，則進行退避條件取得處理（步 驟S4)’該處理係根據於缺陷情報取得處理（步驟幻）所取 得的缺陷情報巾的尺寸情報，取得自修正對象缺陷的對焦 檢測領域so的退避距離以及退避方向作為針對該缺陷的退 避條件。 例如，在第6B圖所示之缺陷D的情況，如第78圖所示， 田將重心位置pg位於架台丨1〇上的視野領域Fs的中心Fs〇 時，缺陷D的外接四角形R1位在對焦檢測領域如内。此情 況時，退避條件取得部154運算缺陷1)的外接四角形以表 不之領域不重疊於對焦檢測領域S0所需要的之退避距離 的最小距離。此情況時，若將缺陷D的外接四角形R1往圖 中的X軸左方向移動，就可僅以移動7〇11111之距離L1程度， 消除對焦檢測領域與外接四角形R1的重疊。因此，退避條 件取得部154對於該缺陷D係設定使之朝架台 110的X軸方 向左側，以70um的退避距離退避的為退避條件。再者，由 於缺陷的領域係以外接四邊形表示，因此以使該外接四邊 形朝與外接四邊形之任一邊垂直的一次元方向退避的退 201219775 避條件就足夠。 架台控制部156依照藉由退避條件取得處理（步驟以） 取得的退避條件，進行使修正對象的缺陷自對焦檢 S0退避之退避處理（步驟S5)。具體而言，架台控制部丨％ 令架台移動部113使架台110相對於缺陷D朝退避條件取得 部154所設定的X軸方向左側僅移動距離[丨（7〇山^)，，藉 此，如第7A圖的箭號γι所示，對焦檢測領域肋自缺陷d 的外接四角形R1退避。 之後’對焦檢測部123進行對焦檢測處理（步驟S6)， 該處理係進行對攝像部丨21之對物鏡片129對於基板lu的 對焦檢測領域S0之對焦。於該步驟S6中，藉由步驟S5的退 避處理’對焦檢測部123可以在缺陷不位於對焦檢測領域 S〇内的狀態下進行對焦檢測處理。而且，對焦控制部155 藉由對焦檢測部123結束對焦後，進行固定該業經結合之 焦點條件的焦點固定處理（步驟S7)。 架台控制部156於焦點固定處理（步驟S7)之後，進行 使修正對象之缺陷之重心位於視野領域Fs之中心FsO的位 置變更處理（步驟S8)。具體而言，架台控制部156係令架 台移動部113使架台11〇相對於缺陷D朝X軸左方向移動距 離11 (70um)，藉此，如第7B圖的箭頭Y2所示，使缺陷!） 的重心Pg位於視野領域Fs的中心FsO。 之後，攝像部121在攝像控制部153的控制之下，在修 正對象之缺陷的重心位於攝像視野F s的中心F s 0的狀態 下’進行將基板111的一部份放大且拍攝之攝像處理（歩 20 201219775 驟su)。由該攝像處理所拍攝的圖像除了輸出顯示於顯示 部146之外，也儲存於記憶部144。X，亦可透過通信部 143，經由網路2，發送到缺陷情報管理伺服器4。接著， 圖案比對纽部157處理於步獅冰拍攝賴像，進行圖 案比對（步驟S12)，輸出處理結果。 另一方面，退避條件取得部154判斷修正對象的缺陷不 在對焦檢_域SG㈣（步驟S3 : N。），由於不需要使缺 陷退避’ ϋ此架台控制部156進行使修正對象缺陷的重心 依舊位在視野領域Fs的中心F_位置變更處理（步驟 S9)，對焦檢測部123與步驟_樣進行對焦檢測處理（步 驟sio)。接著，攝像控制部153在修正對象之缺陷的重心 位在攝像領域Fs之中狀訂，進行將基板川的一 部份放大且予以拍攝之攝像處理（步驟Sli)。接著，圖案 比對處理部157處理攝像部121所拍攝的圖像，進行圖案比 對處理（步驟S12)，並輸出處理結果。 在此，以往係如第8圖解，高度較高的缺陷D重疊於 攝像部的視野領域Fe的對焦檢測領域蝴時，焦點會對到 缺陷，而位於缺陷D之下方的電極圖案或配線圖案會 不清而變得無法卿’無法騎正麵修正處理。、 蚵此，不貫施型態1中 百凡啊丨曰u亢目攝像部121之相 野領域Fe的對焦檢測領域AG退避，而在缺陷不位於對 測領域内的狀態下進行焦點位置的最佳化。換句話說，、— 施型態！中，係'如第9圖的箭頭Yla所示，在對焦檢测處: 前使架台110上的基油聰轴方向僅移動距離仏，藉此 21 201219775 在缺陷D的外接四角形R1自對焦檢測領域so退避的狀態 下，進行焦點位置的最佳化。因此，由於缺陷本身不位: 缺陷對焦領域，缺陷修正裝置剛本身不會產生焦點對焦 於缺陷的情況。因此，缺陷修正裝置⑽可使於基板⑴形 成的電極®案或配線圖案進行穩定地職，可取得鮮明的 電極（或配線）圖案的圖像。 又，由於缺陷修正裝置100可正確取得電極（或配線） 圖案’因此為排除雷射加卫領域’用以設定雷射光的非照 射領域的料設定不會變成錯誤，M實且正確地進行缺 陷修正處理。因此，缺陷修正裝置1〇〇中，由於可以避免 遮罩狀錯誤，因此可提高處魏力，並且也㈣減於遮 罩設定錯誤發生時之裝置操作者的對應時間。 (實施形態2) 接著，就實施型態2加以說明。實施形態2中，針對只 能取得缺陷的重心、座標作為缺陷情報的情況加以說明。第 1〇圖係顯示關於實施型態2之缺陷修正裝置之概略構成的 方塊圖。 如第10圖所示，實施型態2的缺陷修正裝置細係具有 取代第2圖所示的控制部15〇而具備有與控制部15〇相同機 能之控制部250的構成。 控制部25G與㈣部15G相比，更具有對攝像部121所拍 攝之圖像進行預定處理的圖像處理部253。 圖像處理部25玲處理攝像部121所處理拍攝的缺陷圖 像’求得修正處理對象的缺陷大小。圖像處理部⑸係求 22 201219775 付為缺外接之外接四角形之不相鄰兩頂點之基板hi上 的座標’作為表示修正處理對象的缺陷大小。因此，退避 條件取得部154_缺陷情報所包奴缺_重心座標以 及由圖像處理部所求得的缺陷大小，取得基板的取得圖像 對象領域_含之祕之從對焦檢測領域的退避距離與 退避方向。 其次，說明第10圖所示的缺陷修正裝置200中，到取得 使用於圖案比對處理之缺關像、進行圖案比對為止的處 理。第11圖軸示第_所示之缺陷修正裝置細中到圖 案比對處理為止之處理順序的流程圖。 如第11圖所示，首先，對焦檢測領域演算部152與第4 圖的步驟S1同樣進行對焦檢測領域的初期設定處理（步驟 S21)。接著，基板U1載置於架台11〇時，缺陷情報取得部 151進行取得忒基板111之缺陷情報的缺陷情報取得處理 (步驟S22)。於此，該缺陷情報係對應附有各缺陷所附的 缺陷號碼與缺陷的重心座標。 接著，缺陷修正裝置200拍攝使修正對象之缺陷的重心 位在視野領域之中心之狀態下的缺陷圖像，進行藉由圖案 比對處理部判斷s亥缺陷圖像與樣本圖案圖像一致之圖案 比對判斷處理（步驟S23)。 接著，控制部250根據圖案比對判斷處理中圖案比對處 理部157的判斷結果，判斷缺陷圖像所含的圖案和樣本圖 案是否一致（步驟S24)〇 控制部250判斷為缺陷圖像所含的圖案和樣本圖案一 23 201219775 致時（步驟S24 : Yes)，由於能判斷可得到焦點對焦於電 極圖案或配線圖案而非缺陷之鮮明的電極（或配線）圖案 圖像’因此依舊使用該缺陷圖像進行缺陷修正處理。 相對於此’當控制部250判斷為缺陷圖像所含的圖案和 樣本圖案不一致時（步驟S24 : No)，則可判斷是焦點對焦 於缺陷而非對焦於電極圖案及配線圖案之無法正確得到 電極（或配線）圖案圖像。因此，為使缺陷可以確實地自 對焦檢測領域退避，首先圖像處理部253處理圖案比對判 斷處理中所得到的缺陷圖像，進行求得缺陷圖像所示之缺 陷大小的圆像處理（步驟S25)。圖像處理部253對缺陷圖 像進行—元化以進行包繞（Wrapping)處理等，藉此如第 I2圖所TF，求得缺陷〇外接之外接四角形R2之不相鄰兩頂 .’、έΡ 1 P22於攝像部121之視野領域fc的座標，並將求得 的兩頂點P21、P22座標變換為架台11〇上的座標。 接著，退避條件取得部154根據缺陷情報取得處理（步 驟S22)巾所取得之缺陷情報所含有之缺陷的重心座標， 以，圖像處理（步驟S25)中藉由圖像處理部253所树的 缺陷大小’朗當使純lu移動，使修正對象的缺陷重 〜位於架台110上的視野領域Fs之中心Fs_，該缺陷是否 位於對焦檢測領域S0内（步驟S33)e ’退避條件取得部154·修正對㈣缺陷位於j =領域SG時（娜33:知），則進行退避條件則 2Γ34)，該處理係根據缺陷的重心座標與圖
β未制缺陷大小，取得自修正對㈣缺陷的則 24 201219775 測領域so的退避距離以及退避方向。接著，以盘虧圖所 示之步驟S5普步驟S11以及步驟su同樣的處理順序， 進行退避處理（步驟S35)、對焦檢測處理（步驟伽）、焦 點固定處理（步驟S37)、使修正對象的缺陷重心位在視野 領域Fs的中心FsO的位置變更處理（步驟幻8)、攝像處理 (步雜υ以及圖案比對處理（步驟S42)，並將處理結 果輸出。 另-方面’退避條件取得部i 5 4判斷修正對象的缺陷不 位於對焦檢測領域so時（步驟S33 : No)，因為沒有必要 使缺陷退避，所以進行與第4圖所示之步驟S9〜步驟S12相 同的處理順m控㈣156進行把修正對象的缺陷重 • 心就這樣置於視野領域Fs的中心FsO之位置變更處理（步 - 驟幻9)、對焦檢測處理（步驟S40)、攝像處理（步驟S41) 以及圖案比對處理（步驟S42)，並輸出處理結果。 於此，關於第11圖所示的圖案比對判斷處理，參照第 13圖所示的流程圖加以具體說明，如第13圖所示，圖案比 對判斷處理中，藉由架台控制部156的架台移動部113之控 制，進行使修正對象的缺陷重心位在視野領域。的中心 FsO之位置變更處理（步驟S51)，並在進行對焦檢測部123 之對焦檢測處理（步驟S52)後，進行產生有修正對象之 缺陷之基板之圖像的攝像處理（步驟S53)。 接著，圖案比對處理部157自預先存放於記憶部144内 的樣本圖案圖像之中取得對應基板111的工程之樣本圖案 圖像（步驟S54)’將包含攝像處理中所拍攝之缺陷之圖像 25 201219775 的電極（或是崎）圖案與樣本®錢像的電極（或是配 線）圖案比較（步驟S55)。圖案比對處理部157判斷包含 攝像處理情拍攝之缺陷之輯的電極（或是配線）圖案 與樣本圖案圖像的電極（或是配線）圖案是否—致（步驟 S56>接著，當圖案比對處理部157判斷兩者—致時（步 驟S56 ·· W，則輸出-致之主旨，也就是圖案比對成功 的主旨（步驟S57)，當判斷為不—致時（步驟⑽：叫， 則輸出不-致之主旨，也就是圖案比對失敗的主旨（步驟 S58)，結束圖案比對判斷處理。 如此，根據實施形態2，即使是只能取得作為缺陷情報 之缺陷的重心座標的情況，由於是藉由處理實際上拍攝缺 陷的圖像而取得缺陷的大小’而在使缺陷D自對焦檢測領 域S0退避的狀態下進行龍檢測處理因此可發揮跟實施 形態1相同的效果。 又，於實施形態卜2中，使用於圖案比對處理或是圖 案比對判斷處理的圖像，係以缺陷的重心位置位於攝像部 ⑵的視野領域之巾叫圖像為例進行朗，但是當然不 限於此’亦可使關如缺陷的外接四角形的中心位於視野 領域之中心的圖像。 泣又’對焦檢測領域so不限於-個，亦可配合對焦檢測 4123之機能而存在複數個。例如影像對比方式的對焦檢 測度的情況，由於對焦檢測領域常常設定複數，此種情況 下退避條件取得部154只要取得缺陷的外接四角形不會與 任—對焦檢測領域重疊之缺陷的退避距離及退避方向即 ⑧ 26 201219775 -口丁 0 又，對焦檢測領域也有配合對焦檢測部123的功能，不 限於視野領城内而設定於視野領域的外側的情況。這是因 為例如若是雷射等之主動方式的對焦檢測部123的情況， 對焦檢測領域多半可以不依靠視野領域的大小而任意設 定。若對焦檢測領域為視野領域外，為了取得圖像，使缺 陷的重心或是缺陷的外接四角形的中心位於視野領域的 中心時，由於該缺陷的外接四角形重疊於對焦檢測領域可 能性變小，因此在此種情況時，退避缺陷的次數減少而連 帶工程作業的效率化。 又’缺陷相鄰連接而存在複數個時，控制部15〇、250 可形成結合了缺陷的外接四角形之大的四角形，而就此大 四角形求付退避條件。例如，如第14圖所示，缺陷〇 1與 D2接近而存在時，只要形成含有缺陷〇1之外接四角形R11 與缺陷D2之外接四角形R12雙方的四角形R10即可。若缺. 陷的數量過多，而缺陷的外接四角形不位於對焦檢測領域 因此無法求得退避距離時，只要將各缺陷的外接四角形結 合成一個大的四角形，求得該四角形全體可自對焦檢測領 域退避的退避條件即可，藉此可避免退避條件算出錯誤。 又’實施形態1、2中，係以在對焦檢測處理時，缺陷 的外接四角形不與對焦檢測領域重疊的方式，使缺陷在最 小距離自對焦檢測領域退避為例來說明，但是當然不限於 此。若是對焦檢測領域的X軸方向或是Y軸方向的寬度分 開的情況’架台控制部156若使基板朝該寬度分開的方 27 201219775 向’自修正對象之缺陷的重心位在架台110上的視野領域 Fs的中心FsO的位置移動該寬度，則可使缺陷確實地退出 對焦檢測領域外。 又’欲移動基板111以使修正對象之缺陷的重心位置在 架台110上之視野領域Fs的中心FsO時，若是架台控制部 156從缺陷情報取得部151取得的缺陷情報、藉由圖像處理 部253求得的缺陷大小’判斷該缺陷位於對焦檢測領域s〇 内時’亦可控制架台移動部113，如第丨5圖的箭頭Y4使該 修正處理對象的缺陷D退避至攝像部121的視野領域fc 外。如第15圖所示，當對焦檢測領域A〇位於攝像部121的 視野領域Fc内時，如此使缺陷d退避至視野領域FC外，藉 此可使缺陷確實退避至對焦檢測領域外。 又，實施形態1、2中’對焦檢測領域也可位於視野領 域的中心，也可為點狀。而且，退避條件取得部154也可 设定退避條件以使缺陷D的外接四角形與對焦檢測領域隔 開預定的距離退避。 例如’若是如第16圖所示位於視線領域Fc之中心Fc〇 之點狀對焦檢測領域的情況，退避條件取得部154設定退 避條件以使缺陷修正對象之缺陷D3的外接四角形R3與位 於中心FcO的對焦檢測領域，在χ軸方向上相隔預定的距離 而退避。該距離La係考慮校準的偏移 '光學的偏移、對物 鏡片之芯的偏移、儀器分析差異造成的偏移而設定。該距 離La實際上亦可依母裝置，根據改變缺陷修正對象之缺陷 D3的外接四角形R3與位於中心Fc〇之對焦檢測領域的矩 28 201219775 離而進行之對焦檢測處理的結果來設定。因此，如此，可 僅分離考量過校準之偏移、光學之偏移、對物鏡片之芯的 偏移、儀器分析差異造成之偏移的距離，使缺陷自對焦檢 測領域退避，藉此實現更正確的對焦檢測處理。 進而，缺陷的外接四角形與對焦檢測領域間的距離， 亦可對應於缺陷之外接四角形的大小與視野領域的大小 而設定。例如，如第16圖的缺陷〇3，外接四角形们之父軸 方向的寬度Ldx3較視野領域fC2X軸方向之寬度的丨/2長 度Lfx短時，退避條件取得部154會求得缺陷D3之外接四角 形R 3自位於中心F c 0之對焦檢測領域於χ軸方向相距距離 La而退避之退避條件。相對於此，如第17圖的缺陷〇4，外 接四角形R3之χ軸方向的寬度Ldx4較視野領域以之又軸方 向之寬度的1/2長度Lfx長時，則求得缺陷〇4之外接四角形 R4自位於中心F c 〇之對焦檢測領域於χ軸方向相距距離 Lb(>La)而退避之退避條件。再者，於退避時，退避條件 係設定成，缺陷D3、D4之重心的y座標與中心&〇的7座標 相同。 又，對焦檢測領域亦可如第18圖的對焦檢測領域八2為 長狀。這種情況時，退避條件取得部154亦可使缺陷的外 接四角形的大小與視野領域的大小對應，而設定退避時之 缺陷的外接四角形與對焦檢測領域間的距離。例如，如第 1S圖之缺陷D5所示，該缺陷〇5之外接四角形Rs之丫轴方向 的寬度Ldy5較視野領域Fc々軸方向之寬度的1/2長度… 短時’退避條件取得部154求取外接四角職5自對焦檢測 29 201219775 領域A2在y軸方向上相距距離Lc而退避之退避條件。相對 於此，如第19圖的缺陷D6所示，該缺陷D6之外接四角形 R6之y轴方向的寬度Ldy6較視野領域Fc之y軸方向之寬度 的1/2長度Lfy長時，求取外接四角形R6自對焦檢測領域A2 於y軸方向相隔距離Ld(>Lc)而退避之退避條件。再者，於 退避時，退避條件係設定成，缺陷D5、D6之重心的x座標 與中心FcO的X座標相同。 如此，藉由使缺陷自對焦檢測領域退避而在預定方向 相隔對應於缺陷之外接四角形之大小的距離，可使自對焦 檢測領域之缺陷的退避確實化。 又，於本實施形態1、2中，雖以外接四角形表示對應 於缺陷之領域的情況為例作說明，但是當然不限於此，如 第20圖所示，缺陷D亦可以外接的正圓R7表示。此情況 時，由於必須缺陷如箭頭般二次元地自對焦檢測領域s〇 退避，因此退避條件取得部154對乂軸方向以及丫軸方向之 各自的方向求取退避距離。 又，於本實施形態j、2中，亦可不使架台11〇移動，而 疋如第21圖的缺陷修正裝置1〇〇a，設有使顯微鏡部12〇及 雷射照射部130雙方與基板lu表面平行地移動的顯微鏡 移動°卩161 ’變更基板U1上之攝像部121的視野領域位 置。此情況時’控制部咖之顯微鏡移動控㈣156a藉由 控制顯微鏡移動部161，而於對f、檢測時使㈣自對焦檢 剩領域退避。X，亦可如第22圖之缺陷修正裝置麟，設 置架D移動部113及顯微鏡移動部161兩者變更基板ιη ⑧ 30 201219775 上之攝像部121之視野領域。此種情況下，控制部150b之 架台控制部156及顯微鏡移動控制部156a分別控制架台移 動部113及顯微鏡移動部161，藉此在對焦檢測時，使缺陷 自對焦檢測領域退避。 又，本實施形態卜2中，係以缺陷修正裝置100、l〇〇a、 iOOb、200為例來說明，但當然不限於此，亦可適用於缺 陷分類裝置6。適用缺陷分類裝置6時，係成為去除雷射照 射部130之構成。進而，自缺陷修正裝置1〇〇、i00a、1〇〇b、 2〇〇去除雷射照射部130之構成亦可適用於缺陷檢查裝置 1。如此，自缺陷修正裝置100、l〇〇a、l〇〇b、2〇〇去除雷 射照射部130之構成可適用於具有取得生有缺陷之基板之 圖像之圖像取得裝置的各種裝置。 又，本實施形態1、2中，退避條件取得部154係以演算 求得退避條件之情況為例來說明，但是當然不限於此，亦 可將預先求得之存放於記憶部144之缺陷情報的各内容與 對應於缺陷情報之各内容之退避條件參照條件表，自條;牛 表選擇最適切的退避條件。 【圖式*簡單 明】 第1圖係表示實施型態1之具有缺陷修正裝置之缺陷修 正系統之概略構成的方塊圖。 第2圖係表示第旧所示之缺陷修正裝置之構成的方塊 第3A圖係用以說明第2圖所示 的對焦檢測領域者。 之攝像部之視野領域 中 31 201219775 第3B圖係用以說明第2圖所示架台之視野領域中的對 焦檢測領域。 第4圖係表示第2圖所示之缺陷修正裝置中，到圖案比 對處理之處理順序的流程圖。 第5圖係表示缺陷情報之一例者。 第6A圖係用以說明第2圖所示之退避條件取得部之座 標更換者。 第6B圖係用以說明第2圖所示之退避條件取得部之座 標更換者。 第7A圖係用以說明第2圖所示之退避條件取得部進行 之退避條件取得處理。 第7B圖係用以說明第2圖所示之退避條件取得部進行 之退避條件取得處理者。 第8圖係說明習知之缺陷圖像者 第9圖係說明第2圖所示之缺陷修正裝置之缺陷圖像 者。 第10圖係表示實施型態2之缺陷修正裝置之概略構成 的方塊圖。 第11圖係表示第10圖所示之缺陷修正裝置中到圖案比 對處理之處理順序的流程圖。 第12圖係說明第11圖所示之圖像處理者。 第13圖係表示第11圖所示之圖案比對判斷處理之處理 順序的流程圖。 第14圖係表示基板上缺陷之一例者。 ⑧ 32 201219775 之退避條件取得處理者。 丁之I避條件取得部進行 第17圖係用以說明 ， 之退避條件取得處理者。 條件取得部進行 第18圖係用以說明第 、 之退避條件取财理者。^ τ之退魏件取得部進行 第19圖係用以說明第， 之退避條件取得處理者。 &避條件取得部進行 ==:第2圖所示之退避條件取得部 之退避條件取得處理者 進行 第21圖係表示實施型離 方塊圖 以之缺陷修正裂置之其他構成的 置之其他構成的 第22圖係表示實施型態之缺陷修正裳 方塊圖。 【主要元件符號說明 110…架台 111...基板 113…架台移動部 120…顯微鏡部 121…攝像部 122…成像鏡片 123…對焦檢測部 124, 126, 133, 138.··半鏡 1…缺陷檢查裝置 2…網路 3…生產資料管理伺服器 4.. .缺陷情報管理伺服器 5.. .缺陷情報資料庫 6.. .缺陷分類裝置 100, 100a，100b，200_·.缺陷修 正裝置 33 201219775 125…照明部127...準焦機構 128.. .旋轉器 129.. .對物鏡片 130.. .雷射照射部
131.. .雷射光源 132 …LED 134, 137…高反射鏡 135.. .空間光調變器 136.. .領域設定部 142.. .輸入部 143.. .通信部 144.. .記憶部 145.. .輸出部 146.. .顯示部 150, 150a, 250, 150b...控制部 151.. .缺陷情報取得部 152.. .對焦檢測領域演算部 153.. .攝像控制部 154.. .退避條件取得部 155.. .對焦檢測部 156.. .架台控制部 156a...顯微鏡移動控制部 157.. .圖案比對處理部 161.. .顯微鏡移動部 253.. .圖像處理部 34 ⑧