TW201828400A - 貼合裝置 - Google Patents

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田邊雅明
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日商龍雲股份有限公司
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Abstract

貼合裝置具備有第1夾持部1A、第2夾持部1B、第1基座部21A、第2基座部21B、第1浮動機構3A。第1夾持部1A及第2夾持部1B係各自具有吸著貼合對象之吸著面之一對夾持部，其使彼此之吸著面11a及11b對向配置。第1基座部21A及第2基座部21B係分別支撐第1夾持部1A及第2夾持部1B。第1浮動機構3A係對第1夾持部1A之背面12a施加氣壓而使第1夾持部1A自第1基座部21A浮動，藉此，使第1夾持部1A之吸著面11a朝第2夾持部1B之吸著面11b側移動。

Description

貼合裝置
本發明一實施形態係關於以晶圓等為對象之貼合技術。
貼合裝置存在有許多具備有被配置於上下之一對夾持部，並使吸著貼合對象之吸著面相互地對向者。習知，使用致動器等之驅動機構(包含滾珠螺桿等)使一夾持部直接地移動，藉此將吸著面間之2個貼合對象夾壓而加以貼附(例如，參照專利文獻1)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2009-265266號公報
然而，習知之貼合裝置，於夾壓貼合對象時，難以對該貼合對象均等地施加壓力。作為其原因，可列舉無法對夾持部均等地施加壓力，而於夾持部之吸著面產生歪曲等之變形。
因此，本發明之至少1個實施形態之目的，在於提供可維持夾持部之吸著面之高平滑性之貼合裝置。
本發明一實施形態之貼合裝置具備有第1夾持部、第2夾持部、第1基座部、第2基座部、及第1浮動機構。第1夾持部及第2夾持部係各自具有吸著貼合對象之吸著面之一對夾持部，且使彼此之吸著面被對向地配置。第1基座部及第2基座部分別支撐第1夾持部及第2夾持部。第1浮動機構對第1夾持部之背面施加氣壓而使第1夾持部自第1基座部浮動，藉此使第1夾持部之吸著面朝向第2夾持部之吸著面之方向側移動。
根據上述貼合裝置，由於氣壓被施加於第1夾持部之背面，因此易於對該背面均等地施加壓力。因此，於第1夾持部亦難以產生歪曲等之變形，所以即便於執行貼合時在以第1夾持部與第2夾持部夾壓貼合對象時，至少於第1夾持部之吸著面難以產生變形。
根據本發明之至少1個實施形態，可維持夾持部之吸著面之高平滑性。
1A‧‧‧第1夾持部
1B‧‧‧第2夾持部
2‧‧‧腔室機構
2a‧‧‧腔室
2L‧‧‧鎖定機構
3A‧‧‧第1浮動機構
3B‧‧‧第2浮動機構
4‧‧‧旋轉機構
5A‧‧‧第1賦能機構
5B‧‧‧第2賦能機構
6‧‧‧對位機構
7A‧‧‧第1冷卻機構
7B‧‧‧第2冷卻機構
8‧‧‧凹槽對位機構
11a、11b‧‧‧吸著面
12a、12b‧‧‧背面
12c‧‧‧周緣區域
13A、13B‧‧‧鍔部
13At‧‧‧傾斜面
14A‧‧‧鍔部
21A‧‧‧第1基座部
21B‧‧‧第2基座部
21Bc‧‧‧環狀區域
21Af、21Bf‧‧‧對向面
21Ar、21Br‧‧‧凹部
22‧‧‧側壁部
23‧‧‧驅動部
24‧‧‧排氣部
31A、31B‧‧‧支撐部
32A‧‧‧第1氣壓調整部
32B‧‧‧第2氣壓調整部
33A、33B‧‧‧密閉空間
41‧‧‧旋轉軸
51A‧‧‧收納室
52A‧‧‧壓縮彈簧
52B‧‧‧盤形彈簧
53A‧‧‧銷
53Aa‧‧‧頭部
53Ab‧‧‧軸部
61‧‧‧旋轉部
61c‧‧‧第1旋轉軸
62‧‧‧動力傳遞機構
62C‧‧‧軸部
62Ca‧‧‧第1端部
62Cb‧‧‧第2端部
63‧‧‧對位作用部
71A、71B‧‧‧冷卻板
72A、72B‧‧‧通路
81‧‧‧臂部
82‧‧‧驅動部
120A、120B‧‧‧軸部
210A、210B‧‧‧承接部
211‧‧‧鍔部
211t‧‧‧傾斜面
212‧‧‧鍔部
311‧‧‧銷
311a‧‧‧頭部
311b‧‧‧軸部
312‧‧‧密封構件
313、314‧‧‧隔膜
541、542‧‧‧空間
551、552‧‧‧密封構件
561‧‧‧環狀構件
561a‧‧‧被覆部
562‧‧‧彈性構件
621‧‧‧第1臂
622‧‧‧第2臂
622c‧‧‧第2旋轉軸
623‧‧‧第3臂
621a、622a、623a‧‧‧第1端部
621b、622b、623b‧‧‧第2端部
631‧‧‧第1抵接部
632‧‧‧第2抵接部
811‧‧‧第1尖端部
812‧‧‧第2尖端部
P11、P12、P13‧‧‧位置
P21、P22、P23‧‧‧位置
T1、T2‧‧‧貼合對象
N1、N2‧‧‧凹槽
圖1係顯示第1實施形態之貼合裝置之構成之示意圖。
圖2(A)係顯示貼合裝置所具備之對位機構之立體圖，圖2(B)係顯示對位機構之安裝狀態之立體圖。
圖3(A)及(B)係顯示對位機構之動作之俯視圖。
圖4(A)及(B)係依序顯示貼合裝置之動作之示意圖。
圖5(A)及(B)係依序顯示接著圖4(B)後之貼合裝置之動作之示意圖。
圖6(A)及(B)係依序顯示接著圖5(B)後之貼合裝置之動作之示意圖。
圖7係顯示接著圖6(B)後之貼合裝置之動作之示意圖。
圖8(A)及(B)係對於第2實施形態之貼合裝置所具備之第1賦能機構，顯示第1例中之2個狀態之剖視圖。
圖9(A)及(B)係對於第2實施形態之貼合裝置所具備之第1賦能機構，顯示第2例中之2個狀態之剖視圖。
圖10係顯示第3實施形態之貼合裝置所具備之第2賦能機構之剖視圖。
圖11係顯示第4實施形態之貼合裝置之構成之示意圖。
圖12(A)及(B)分別為顯示第5實施形態之貼合裝置所具備之凹槽對位機構之構成之俯視圖及側視圖。
圖13(A)係顯示第2尖端部被插入凹槽前之狀態之俯視圖，圖13(B)及(C)分別為顯示第2尖端部被插入凹槽時之狀態之俯視圖及側視圖。
圖14(A)係顯示第1尖端部被插入凹槽前之狀態之俯視圖，圖14(B)及(C)分別為顯示第1尖端部被插入凹槽時之狀態之俯視圖及側視圖。
[1]第1實施形態
[1-1]貼合裝置之構成
圖1係顯示第1實施形態之貼合裝置之構成之示意圖。如圖1所示般，貼合裝置具備有第1夾持(chuck)部1A、第2夾持部1B、 腔室機構2、鎖定機構2L、第1浮動機構3A、第2浮動機構3B、旋轉機構4、第1賦能機構5A、第2賦能機構5B、對位機構6。
<夾持部>
第1夾持部1A及第2夾持部1B分別具有吸著貼合對象之吸著面11a及11b，且使彼此之吸著面11a及11b被對向地配置。於第1夾持部1A設置有於吸著面11a之既定位置(例如中心位置)開口之貫通孔(未圖示)，而於吸著面11a遍及全域地形成有連通於貫通孔之狹縫(未圖示)。然後，藉由在貼合對象被載置於吸著面11a之狀態下通過貫通孔執行真空吸引，可使狹縫內之氣壓下降並且使吸著面11a吸著貼合對象。藉此，可使第1夾持部1A夾持貼合對象。於第2夾持部1B亦形成有與第1夾持部1A相同之貫通孔及狹縫(未圖示)，而可使第2夾持部1B夾持貼合對象。再者，第1夾持部1A及第2夾持部1B較佳係分別使用由熱膨脹率低且導熱率高之陶瓷所構成者。
於本實施形態中，第1夾持部1A及第2夾持部1B係以該等之吸著面11a及11b成為水平之方式，於鉛直方向被配置於上下。然後，於使吸著面11a吸著貼合對象時(執行貼合對象朝向第1夾持部1A之夾持時)，第1夾持部1A係以吸著面11a朝向上方之方式被配置於第2夾持部1B之下方。另一方面，於使吸著面11b吸著貼合對象時(執行貼合對象朝向第2夾持部1B之夾持時)，第2夾持部1B係以吸著面11b朝向上方之方式被配置於第1夾持部1A之下方。再者，第1夾持部1A及第2夾持部1B之上下位置之替換係使用後述之旋轉機構4。
<腔室機構>
腔室機構2包含有：第1基座部21A、第2基座部21B、側壁部22、驅動部23、及排氣部24。第1基座部21A係配置於第1夾持部1A之背面12a(與吸著面11a為相反側之面)側，而支撐第1夾持部1A。第2基座部21B係配置於第2夾持部1B之背面12b(與吸著面11b為相反側之面)側，而支撐第2夾持部1B。
具體而言，於第1基座部21A，經由後述之第1浮動機構3A而支撐有第1夾持部1A。而且，為了於第1夾持部1A之浮動時，使該第1夾持部1A之中心位置不偏離既定位置，而於第1夾持部1A之背面12a突設有軸部120A，且該軸部120A滑動自如地被插入在第1基座部21A所凹設之承接部210A。
又，於第2基座部21B，經由後述之第2浮動機構3B而支撐有第2夾持部1B。而且，為了於第2夾持部1B之浮動時，使該第2夾持部1B之中心位置不偏離既定位置，而於第2夾持部1B之背面12b突設有軸部120B，且該軸部120B滑動自如地被插入在第2基座部21B所凹設之承接部210B。
再者，於上述軸部120A與承接部210A之間，較佳係設置有容許第1夾持部1A之吸著面11a略微地傾斜之餘裕(間隙)。同樣地，於上述軸部120B與承接部210B之間，較佳係設置有容許第2夾持部1B之吸著面11b略微地傾斜之餘裕(間隙)。藉此，即便於貼合前，吸著面11a相對於吸著面11b產生略微之傾斜，該傾斜亦可於執行貼合時，由上述餘裕所吸收，其結果，吸著面11a及11b可實現相互地平行之狀態。藉此，可不需將吸著面11a及11b 始終維持在平行之狀態，其結果，可使貼合裝置之製造得以簡化。
第1基座部21A可進行在垂直於吸著面11a(或11b)之方向(在本實施形態中為鉛直方向。以下，除非另有說明，否則稱為「鉛直方向」)上的移動，該移動係藉由驅動部23所實現。藉此，第1基座部21A可於鉛直方向上對第2基座部21B相對地移動。驅動部23例如使用利用汽缸等之升降裝置。於本實施形態中，第1基座部21A係構成為可相對於第2基座部21B在鉛直方向上移動。再者，亦可取代第1基座部21A，而構成為第2基座部21B可相對於第1基座部21A在鉛直方向上移動。又，亦可構成為第1基座部21A及第2基座部21B之任一者皆可在鉛直方向上移動。
腔室機構2可藉由使第1基座部21A與第2基座部21B相互地接近，而於該等之基座部間，形成在內部配置有第1夾持部1A及第2夾持部1B並且被密閉之腔室2a(參照圖5(B))。具體而言，藉由第1基座部21A與第2基座部21B被相互地接近，形成由第1基座部21A、第2基座部21B、及側壁部22所包圍而被密閉之空間，該空間成為腔室2a。側壁部22既可與第1基座部21A或第2基座部21B之任一者一體化，亦可為自該等基座部被分離，而於第1基座部21A與第2基座部21B被接近時由該等基座部所夾住者。
於腔室機構2中，為了第1基座部21A、第2基座部21B、及側壁部22在形成腔室2a之過程中(亦即，於鉛直方向上之移動時)彼此之位置關係(可形成密閉之腔室2a之位置)不會偏離，較佳係由導引構件所導引，藉此規定鉛直方向上之移動路徑。
排氣部24可使腔室2a內之氣壓下降至腔室2a內成 為真空狀態為止。於排氣部24可使用例如真空泵等之氣壓調整裝置。
<鎖定機構>
鎖定機構2L係可於執行貼合時維持第1基座部21A與第2基座部21B彼此之位置關係之機構。具體而言，為了不要因在執行貼合時被施加於第1夾持部1A及第2夾持部1B各自之背面12a及12b之氣壓，使第1基座部21A及第2基座部21B相互地離開而使腔室2a開放，鎖定機構2L將第1基座部21A與第2基座部21B彼此之位置關係加以固定。
<浮動機構>
(第1浮動機構)
第1浮動機構3A係對第1夾持部1A之背面12a施加氣壓使第1夾持部1A自第1基座部21A浮動之機構，且藉由第1夾持部1A之浮動，使第1夾持部1A之吸著面11a朝向第2夾持部1B之吸著面11b之方向移動。
具體而言，第1浮動機構3A具備有支撐部31A、及第1氣壓調整部32A。支撐部31A將第1夾持部1A可相對於第1基座部21A浮動地加以支撐，並且於第1基座部21A與第1夾持部1A之間形成密閉空間33A。
於本實施形態中，第1基座部21A具有與第1夾持部1A之背面12a的對向面21Af，且於該對向面21Af形成有可供鉛直方向之第1夾持部1A之端部(包含背面12a之端部)進入之凹部 21Ar。而且，該凹部21Ar之開口端緣與第1夾持部1A之背面12a之外緣部係由作為支撐部31A之隔膜所連結。藉此，作為密閉空間33A，而於凹部21Ar之底面與第1夾持部1A之背面12a之間形成有由隔膜所密閉之空間。
第1氣壓調整部32A可藉由使密閉空間33A內之氣壓產生變化，而使密閉空間33A內自真空狀態變化至加壓狀態。而且，使密閉空間33A內之氣壓下降至低於腔室2a內之氣壓(內壓)而產生氣壓差，藉此於第1夾持部1A產生將其朝向第1基座部21A之方向吸引之保持力。另一方面，藉由提高密閉空間33A內之氣壓(內壓)，可使第1夾持部1A自第1基座部21A浮動。此時，由於隔膜追隨第1夾持部1A之浮動而變形，因此密閉空間33A之密閉狀態可不被破壞地被維持。
(第2浮動機構)
第2浮動機構3B係對第2夾持部1B之背面12b施加氣壓使第2夾持部1B自第2基座部21B浮動之機構，且藉由第2夾持部1B之浮動，使第2夾持部1B之吸著面11b朝向第1夾持部1A之吸著面11a之方向移動。再者，第2夾持部1B相較於第1夾持部1A，其移動距離可相對較小。因此，第2浮動機構3B亦可為使第2夾持部1B自第2基座部21B僅略微地浮動者。
具體而言，第2浮動機構3B具備有支撐部31B、及第2氣壓調整部32B。支撐部31B將第2夾持部1B可相對於第2基座部21B浮動地加以支撐，並且於第2基座部21B與第2夾持部1B之間形成密閉空間33B。於本實施形態中，支撐部31B係由以 下所說明之複數個銷311與密封構件312所構成。作為一例，密封構件312可使用O形環。再者，第2浮動機構3B作為構成之一部分，亦可進一步具備有後述之第2賦能機構5B之盤形彈簧52B。
於本實施形態中，於第2夾持部1B之側周面形成有在與背面12b相同面擴徑之鍔部13B，且於鍔部13B貫通有將該鍔部13B之移動方向限制為鉛直方向之複數個銷311。具體而言，第2基座部21B具有與第2夾持部1B之背面12b的對向面21Bf。而且，各銷311分別具有頭部311a與軸部311b，且在軸部311b貫通鍔部13B之狀態下，軸部311b之前端部被固定於第2基座部21B之對向面21Bf。因此，第2夾持部1B之移動範圍，被限制於該對向面21Bf與銷311之頭部311a之間。更具體而言，第2夾持部1B之移動範圍被限制於被配置於各銷311之頭部311a與第2夾持部1B之鍔部13B之間的盤形彈簧52B與對向面21Bf之間。再者，鍔部13B不限於在與背面12b相同面擴徑者，亦可為在與背面12b之間設置段差而被形成於第2夾持部1B之側周面者。
於第2基座部21B，在與第2夾持部1B之背面12b之周緣區域12c對向之環狀區域21Bc之內側形成有凹部21Br。而且，於周緣區域12c與環狀區域21Bc之間介設有可彈性變形之密封構件312。藉此，作為密閉空間33B，於凹部21Br之底面與第2夾持部1B之背面12b之間形成有由密封構件312所密閉之空間。再者，只要可藉由密封構件312而於第2夾持部1B之背面12b與第2基座部21B之間形成密閉空間33B，則凹部21Br並不一定要設置。
第2氣壓調整部32B可藉由使密閉空間33B內之氣 壓產生變化，而使密閉空間33B內自真空狀態變化至加壓狀態。而且，藉由使密閉空間33B內之氣壓下降至低於腔室2a內之氣壓(內壓)而產生氣壓差，可於第2夾持部1B產生將其朝向第2基座部21B側吸引之保持力。另一方面，可藉由提高密閉空間33B內之氣壓(內壓)，使第2夾持部1B自第2基座部21B浮動。此時，為了使密閉空間33B之密閉狀態不被破壞，密封構件312較佳為追隨第2夾持部1B之浮動而進行彈性變形(伸縮)者。
<旋轉機構>
旋轉機構4係具有沿著第1夾持部1A之吸著面11a(或第2夾持部1B之吸著面11b)之方向之旋轉軸41，可使腔室機構2繞該旋轉軸41反轉而將第1基座部21A與第2基座部21B之位置加以替換的機構。
於本實施形態中，旋轉軸41係水平地被配置並且被連結於第2基座部21B之側面，可藉由使旋轉軸41旋轉而使腔室機構2反轉，從而使第1基座部21A與第2基座部21B之上下位置替換。再者，只要可使腔室機構2反轉，旋轉軸41亦可不限定於第2基座部21B，而被連結於其他部位(例如，第1基座部21A之側面等)。
<賦能機構>
(第1賦能機構)
第1賦能機構5A將第1夾持部1A於鉛直方向上朝向第1基座部21A之方向賦能。於本實施形態中，第1賦能機構5A設置有 複數個，各第1賦能機構5A分別由收納室51A、壓縮彈簧52A、及銷53A所構成。收納室51A係形成於第1基座部21A，且於收納室51A以可沿著鉛直方向彈性變形之方式收納有壓縮彈簧52A。
銷53A具有頭部53Aa與軸部53Ab，且該等係以成為如下之狀態的方式被配置。亦即，頭部53Aa在抵接於壓縮彈簧52A之一端(與第1夾持部1A為相反側之端)之狀態下，被配置於收納室51A內。又，軸部53Ab在被插通於壓縮彈簧52A之狀態下，沿著鉛直方向朝向第1夾持部1A之方向延伸。此外，軸部53Ab以銷53A之移動方向被限制於鉛直方向之方式，貫通第1基座部21A。而且，軸部53Ab之前端被連結於第1夾持部1A之背面12a。
根據第1賦能機構5A，銷53A之頭部53Aa係藉由壓縮彈簧52A，朝向與第1夾持部1A之相反側被賦能，其結果，第1夾持部1A通過銷53A，而沿著鉛直方向朝向第1基座部21A側被賦能。如後所述，在執行貼合時，將第1夾持部1A於鉛直方向上配置於第2夾持部1B之上方，並於該狀態下，使腔室2a內之氣壓下降。因此，因密閉空間33A內之氣壓與腔室2a內之氣壓之氣壓差而於第1夾持部1A所產生之向上之保持力，會因氣壓差變小而下降。即便在如此之保持力下降之情形時，可阻止第1夾持部1A因本身重量而朝向下方移動之情形的賦能力，亦會藉由第1賦能機構5A而被施加於第1夾持部1A。其結果，可將第1夾持部1A朝第1基座部21A側吸引。
(第2賦能機構)
第2賦能機構5B將第2夾持部1B沿著鉛直方向朝向第2基座 部21B之方向賦能。於本實施形態中，第2賦能機構5B係由被配置於各銷311之頭部311a與第2夾持部1B之鍔部13B之間之盤形彈簧52B所構成。再者，盤形彈簧52B係以其貫通有軸部311b之狀態被配置。
根據第2賦能機構5B，第2夾持部1B係藉由盤形彈簧52B，朝向第2基座部21B之方向被賦能。如後所述，在執行貼合對象之夾持時，存在有第2夾持部1B在鉛直方向上被配置於第1夾持部1A之上方之情形。即便於如此之情形時，可阻止第2夾持部1B因本身重量而朝向下方移動之賦能力，亦會藉由第2賦能機構5B被施加於第2夾持部1B。其結果，可將第2夾持部1B朝向第2基座部21B之方向吸引。
<對位機構>
圖2(A)係顯示對位機構6之立體圖，圖2(B)係顯示對位機構6朝向腔室機構2之安裝狀態之立體圖。又，圖3(A)及(B)係顯示對位機構6之動作之俯視圖。對位機構6係使用於使第1夾持部1A及第2夾持部1B分別夾持貼合對象時該貼合對象之位置調整。具體而言，對位機構6具備有具有第1旋轉軸61c之旋轉部61、3個動力傳遞機構62、及3個對位作用部63。旋轉部61之旋轉動作係由伺服馬達等可進行旋轉角度或力矩之檢測及控制之旋轉驅動裝置所控制。
3個動力傳遞機構62係將旋轉部61之旋轉傳遞至3個對位作用部63之機構，且在本實施形態中分別為連結機構。3個動力傳遞機構62在旋轉部61分別被樞軸支撐於偏離第1旋轉軸 61c之3個不同的位置P11~P13。於本實施形態中，位置P11~P13係與第1旋轉軸61c之距離皆相同，且為繞第1旋轉軸61c以等間隔(120°之角度寬度)被配置之位置。3個對位作用部63係藉由旋轉部61之旋轉通過3個動力傳遞機構62分別被傳遞而進行運作，從而作用於貼合對象而進行該貼合對象之位置調整者。
3個動力傳遞機構62分別具備有第1臂621、第2臂622、軸部62C、及第3臂623。第1臂621具有被樞軸支撐於上述3個相異位置P11~P13中之對應位置之第1端部621a、及位於與該第1端部621a為相反側之第2端部621b。第2臂622具有第2旋轉軸622c，且在與該第2旋轉軸622c不同之位置被樞軸支撐於第1臂621之第2端部621b。於本實施形態中，第2臂622具有第1端部622a與第2端部622b，第1端部622a被樞軸支撐於第1臂621之第2端部621b，且於第2端部622b設置有第2旋轉軸622c。
3個動力傳遞機構62各自所具有之第2旋轉軸622c係配置於離開旋轉部61之3個位置P21~P23。此處，位置P21~P23係分別被配置於以第1旋轉軸61c為中心之不同之3個方向的位置。於本實施形態中，位置P21~P23係於以第1旋轉軸61c為中心之既定圓周上繞第1旋轉軸61c而以等間隔(120°之角度寬度)被配置之位置。
軸部62C係使中心線與第2旋轉軸622c一致而被連結於第2臂622，並且被樞軸支撐於安裝有對位機構6之對象物(在本實施形態中為腔室機構2之第2基座部21B(參照圖2(B))。藉此，軸部62C與第2臂622連動地繞第2旋轉軸622c旋轉，而成為動力傳遞機構62動作時之支點。
於本實施形態中，軸部62C係連結於第2臂622之第2端部622b。亦即，軸部62C具有被連結於第2臂622之第2端部622b之第1端部62Ca、及位於與該第1端部62Ca為相反側之第2端部62Cb。而且，第3臂623係連結於軸部62C之第2端部62Cb。於本實施形態中，第3臂623具有第1端部623a與第2端部623b，且第1端部623a被連結於軸部62C之第2端部62Cb。具體而言，第3臂623朝向與第2臂622自軸部62C之第1端部62Ca所延伸之方向相同之方向，自軸部62C之第2端部62Cb延伸。亦即，第3臂623與第2臂622平行，且與第2臂622相對向。此外，於本實施形態中，第3臂623於俯視時，延伸至第2臂622之第1端部622a及第2端部622b之中間位置。再者，第3臂623之延伸方向及其前端部(第2端部623b)之位置，可適當地變更。
3個對位作用部63係設置於3個動力傳遞機構62所具備之第3臂623各自之前端部(第2端部623b)。因此，於本實施形態中，3個對位作用部63係經由第3臂623及軸部62C分別被連結於3個動力傳遞機構62所具備之第2臂622。再者，各對位作用部63分別使用例如被樞軸支撐於第3臂623之第2端部623b之輥。
根據如此之對位機構6，可使3個第2臂622伴隨著旋轉部61之旋轉而同步地轉動(於圖3(A)及(B)中，旋轉部61之旋轉方向係以空白箭頭所顯示)。而且，經同步之第2臂622之轉動係經由各自對應之軸部62C及第3臂623被傳遞至3個對位作用部63。因此，可使3個對位作用部63同步地朝向內側移動(於圖3(A)中，對位作用部63之移動方向係以空白箭頭所顯示)。藉此，利用 3個對位作用部63自3個方向夾住對位對象(貼合對象)，藉此調整對位對象之位置，其結果，可將對位對象朝向既定位置導引。
更具體而言，在利用對位機構6之調整過程中，對位對象達到自3個方向被均等地夾壓之狀態時之位置被設為既定位置。而且，利用對位機構6之位置調整，例如由如下之力矩檢測所進行。亦即，對自3個方向夾住對位對象時在旋轉部61所產生之力矩進行檢測。對位對象由於若到達既定位置便會自3個方向被均等地夾壓，因此在旋轉部61所產生之力矩會上升。然後，在該力矩超過既定值時，判斷為對位對象已到達既定位置，而完成位置調整。
根據如此之對位機構6，即便於對位機構6之連結部位(樞軸支撐之部位)等產生晃動之情形時，仍可提高力矩而自3個方向夾壓對位對象，藉此以來自對位對象之反作用力來抑制晃動。因此，根據上述對位機構6，即便為簡單之構成，仍可在對位對象之定位上實現較高之精準度。
就可實現利用高精準度之位置調整而言，對位對象適合為晶圓等呈圓盤狀者。然而，可根據對位時所要求之位置調整之精準度，而適當地選擇能作為對位對象之形狀而加以應用者(例如，多邊形或橢圓形等)。
於本實施形態中，前述之對位機構6係相對於腔室機構2被如下般配置。亦即，旋轉部61係相對於第2基座部21B被配置於與第2夾持部1B之相反側，另一方面，3個對位作用部63被配置於第2夾持部1B之吸著面11b之周圍(參照圖1)。而且，3個動力傳遞機構62係以各自之軸部62C貫通第2基座部21B之狀 態被樞軸支撐於該第2基座部21B。藉此，可將旋轉部61之旋轉傳遞至相對於第2基座部21B位於與旋轉部61為相反側之3個對位作用部63。因此，藉由3個對位作用部63將吸著面11b上之貼合對象自3個方向夾住，其結果，可進行該貼合對象之位置調整。
此外，對位機構6亦可被應用於使第1夾持部1A之吸著面11a吸著貼合對象時該貼合對象之位置調整。具體而言，3個對位作用部63分別具有第1抵接部631、及第2抵接部632(參照圖1)。此處，第1抵接部631係使第1夾持部1A之吸著面11a吸著貼合對象之位置調整時，抵接於該貼合對象之邊緣的部分。第2抵接部632係使第2夾持部1B之吸著面11b吸著貼合對象之位置調整時，抵接於該貼合對象之邊緣的部分。
第2抵接部632始終於第2夾持部1B之吸著面11b之周圍，被配置在與該吸著面11b相同高度之位置，第1抵接部631係相對於第2抵接部632被配置在第1基座部21A側。而且，於本實施形態中，第1抵接部631較第2抵接部632更朝向內側突出。
在第1夾持部1A之吸著面11a上進行貼合對象之位置調整時，藉由第1基座部21A與第2基座部21B相互地接近，第1夾持部1A被配置於其吸著面11a與第1抵接部631成為相同高度位置之既定位置。
然後，藉由於各對位作用部63分別使第1抵接部631較第2抵接部632更朝向內側突出，而於朝向吸著面11b之貼合對象之吸著後在使吸著面11a吸著另一貼合對象時，可不使第2抵接部632接觸於吸著面11b上之貼合對象，而進行利用第1抵接部631之在吸著面11a上之貼合對象之位置調整。
再者，前述之對位機構6亦可相對於腔室機構2被如下般配置。亦即，旋轉部61相對於第1基座部21A被配置於與第1夾持部1A之相反側，另一方面，3個對位作用部63被配置於第1夾持部1A之吸著面11a之周圍。而且，3個動力傳遞機構62係以各自之軸部62C貫通第1基座部21A之狀態被樞軸支撐於該第1基座部21A。藉此，可將旋轉部61之旋轉傳遞至相對於第1基座部21A位於與旋轉部61為相反側之3個對位作用部63。
於該情形時，各對位作用部63，較佳為使第2抵接部632較第1抵接部631更朝向內側突出。藉此，於朝向吸著面11a之貼合對象之吸著後在使吸著面11b吸著另一貼合對象時，可不使第1抵接部631接觸於吸著面11a上之貼合對象，而進行利用第2抵接部632之在吸著面11b上之貼合對象之位置調整。
[1-2]貼合裝置之動作
圖4(A)至圖7係依序顯示於前述之貼合裝置中在貼合2個貼合對象時所執行之動作之圖。
首先，於腔室機構2中，使第1基座部21A與第2基座部21B離開而使腔室2a開放，並且將第2基座部21B配置於第1基座部21A之下方。藉此，第2夾持部1B係於將其吸著面11b朝向上方之狀態下，被配置於第1夾持部1A之下方(參照圖4(A))。而且，使第2浮動機構3B之密閉空間33B內之氣壓下降至該密閉空間33B內成為真空狀態為止。藉此，利用與外部氣體之氣壓差，而於第2夾持部1B產生將其朝向第2基座部21B之方向吸引之保持力。
接著，將第1個貼合對象T1載置於第2夾持部1B之吸著面11b(參照圖4(A))。再者，朝向吸著面11b之貼合對象T1之搬送及載置，係使用搬送臂等之搬送裝置(未圖示)來執行。
其後，於圖3(A)所示之俯視時，藉由使對位機構6(參照圖2(A)及圖3(A))之旋轉部61順時鐘地旋轉，而使3個對位作用部63朝向內側移動。而且，藉由分別使各第2抵接部632自3個方向抵接於貼合對象T1，來進行該貼合對象T1之位置調整(參照圖3(A)及圖4(B))。於貼合對象T1之位置調整後，藉由執行第2夾持部1B之真空吸引，而使吸著面11b吸著貼合對象T1。藉此，貼合對象T1被夾持於第2夾持部1B。其後，於圖3(B)所示之俯視(與圖3(A)相同之俯視)時，藉由使旋轉部61逆時鐘地旋轉(即逆轉)，而使3個對位作用部63朝向外側移動。
其次，藉由使旋轉機構4之旋轉軸41旋轉，使腔室機構2反轉而將第1基座部21A與第2基座部21B上下之位置替換。藉此，第1夾持部1A在將其吸著面11a朝向上方之狀態下，被配置於第2夾持部1B之下方(參照圖5(A))。此時，第2夾持部1B藉由因氣壓差所產生之保持力與自第2賦能機構5B(主要為盤形彈簧52B)所承受之賦能力，可阻止第1夾持部1A因本身重量而朝向下方移動之情形，其結果，可維持被朝向第1基座部21A之方向吸引之狀態。
然後，使第1浮動機構3A之密閉空間33A內之氣壓，下降至該密閉空間33A內成為真空狀態為止。藉此，因為與外部氣體之氣壓差，於第1夾持部1A產生將其朝向第1基座部21A之方向吸引之保持力。接著，將第2個貼合對象T2載置於第1夾持部 1A之吸著面11a(參照圖5(A))。再者，朝向吸著面11a之貼合對象T2之搬送及載置，係使用搬送臂等之搬送裝置(未圖示)來執行。
其後，於腔室機構2中，藉由第1基座部21A與第2基座部21B相互地接近，而形成被密閉之腔室2a(參照圖5(B))。於本實施形態中，於腔室2a被形成時，第1夾持部1A之吸著面11a成為與第1抵接部631相同高度之位置。再者，亦可於腔室2a被形成前設置第1夾持部1A之吸著面11a成為與第1抵接部631相同高度位置之對位執行位置。於該情形時，在形成腔室2a前，會使第1基座部21A暫時停止於對位執行位置。
其後，藉由使對位機構6(參照圖2(A)及圖3(A))之旋轉部61旋轉，而使3個對位作用部63朝向內側移動。然後，藉由分別使各第1抵接部631自3個方向抵接於貼合對象T2，而進行該貼合對象T2之位置調整(參照圖3(A)及圖6(A))。於本實施形態中，由於在各對位作用部63，第1抵接部631分別較第2抵接部632更朝向內側突出，因此可不使第2抵接部632接觸於吸著面11b上之貼合對象T1，而進行利用第1抵接部631之在吸著面11a上之貼合對象T2之位置調整。
於貼合對象T2之位置調整後，藉由執行第1夾持部1A之真空吸引，而使吸著面11a吸著貼合對象T2。藉此，貼合對象T2被夾持於第1夾持部1A。於本實施形態中，其後，將旋轉部61所產生之力矩維持在既定值以上。亦即，貼合對象T2係維持在由3個對位作用部63(第1抵接部631)自3個方向所夾壓之狀態。
其次，藉由使旋轉機構4之旋轉軸41旋轉，使腔室機構2再次反轉而將第1基座部21A與第2基座部21B之上下位 置復原。藉此，第1夾持部1A被配置於第2夾持部1B之上方(參照圖6(B))。此時，第1夾持部1A藉由因氣壓差所產生之保持力與自第1賦能機構5A(主要為壓縮彈簧52A)所承受之賦能力，可阻止第1夾持部1A因本身重量而朝向下方移動之情形，其結果，可維持被朝向第1基座部21A之方向吸引之狀態。又，貼合對象T2係自位置調整時便持續地被維持在自3個方向被夾壓之狀態。
其後，使腔室2a內之氣壓下降至使腔室2a內成為真空狀態為止。此時，於第1夾持部1A所產生之向上之保持力會因密閉空間33A內之氣壓與腔室2a內之氣壓之氣壓差而下降。即便於如此之保持力下降之情形時，第1夾持部1A因本身重量而朝向下方移動之情形仍可藉由第1賦能機構5A來阻止。又，同樣地，朝向吸著面11a之貼合對象T2之真空吸著力，會藉由使腔室2a內之氣壓下降而下降。如此，即便於真空吸著力下降之情形時，貼合對象T2因本身重量而自吸著面11a剝離之情形，仍可藉由利用對位機構6自3個方向夾壓來阻止。亦即，於本實施形態中，對位機構6作為保持貼合對象T2之保持機構而發揮功能。再者，貼合對象T2亦可藉由與對位機構6被分開地設置之保持機構所保持。
其次，於第1浮動機構3A中，提高密閉空間33A內之氣壓(內壓)。此時，以可抵抗第1賦能機構5A之賦能力而使第1夾持部1A下降之方式，來調整密閉空間33A內之氣壓(內壓)。如此，使第1夾持部1A自第1基座部21A浮動(參照圖7)。
與此並行地，於第2浮動機構3B中，提高密閉空間33B內之氣壓(內壓)。此時，以可抵抗第2賦能機構5B之賦能力而使第2夾持部1B上升之方式，來調整密閉空間33B內之氣壓(內 壓)。如此，使第2夾持部1B自第2基座部21B浮動(參照圖7)。
如此，藉由使第1夾持部1A及第2夾持部1B浮動，將由各自之吸著面11a及11b所夾持之貼合對象T2及T1疊合。其後，藉由將密閉空間33A及33B內各自之氣壓(內壓)進一步提高，而使貼合對象T1及T2彼此相互地推壓。藉此，2個貼合對象T1及T2係由第1夾持部1A與第2夾持部1B所夾壓，其結果，被相互地貼合。
根據第1實施形態之貼合裝置，由於氣壓被施加於第1夾持部1A及第2夾持部1B各自之背面12a及12b，因此可易於對該等之背面12a及12b均等地施加壓力。因此，於第1夾持部1A及第2夾持部1B皆難以產生歪曲等之變形，所以即便於執行貼合時，在夾壓貼合對象T1及T2之時間點，仍難以於吸著面11a及11b之任一者產生變形。因此，即便於執行貼合時，仍可維持吸著面11a及11b之高平滑性。
就維持吸著面11a及11b之高平滑性之觀點而言，較佳為，於執行貼合時密閉空間33A及33B內之氣壓(內壓)以成為大致相同之方式被調整，藉此，使大致相同之氣壓被施加於第1夾持部1A及第2夾持部1B各自之背面12a及12b。其原因在於，於執行貼合時，藉由使自上下所施加之氣壓取得平衡，可使第1夾持部1A及第2夾持部1B均維持在浮動之狀態。亦即，於執行貼合時，不易對背面12a及12b施加氣壓以外之不需要的壓力，所以於2個吸著面11a及11b之任一者皆可易於維持高平滑性。
於執行貼合時，藉由維持吸著面11a及11b之高平滑性，可對貼合對象T1及T2均等地施加壓力，其結果，於由2個貼 合對象T1及T2所構成之貼合品，難以產生壓接不良等之缺陷。
[2]第2實施形態
於上述貼合裝置中，第1賦能機構5A亦可為利用氣壓來產生賦能力者。
圖8(A)及(B)係針對第2實施形態之第1賦能機構5A顯示第1例之2個狀態之剖視圖。在第1例中，第1浮動機構3A之支撐部31A係由2個隔膜313及314所構成。具體而言，於第1夾持部1A之側周面，形成在與背面12a相同面擴徑之鍔部13A。而且，於該鍔部13A之與背面12a為相反側之面成為傾斜面13At，且越接近鍔部13A之外周緣，鍔部13A之厚度越小。又，於凹部21Ar之開口端緣亦形成有鍔部211，於該鍔部211設置有被形成為與傾斜面13At大致平行之傾斜面211t。再者，傾斜面13At及211t係被形成為不會妨礙對應於第1夾持部1A之上下移動之隔膜313及314之移動者，且只要不妨礙隔膜313及314之移動，亦可取代傾斜面13At及211t之至少任一者而形成水平面。
然後，傾斜面13At之鍔部13A之根部的位置與鍔部211之前端，係由隔膜313所連結。又，鍔部13A之前端與傾斜面211t之鍔部211之根部的位置，係由隔膜314所連結。
於如此之構成中，在2個傾斜面13At及211t之間，形成有由2個隔膜313及314所密閉之空間541。而且，藉由該空間541內之氣壓被維持為至少較密閉空間33A內之氣壓高，而形成有第1賦能機構5A。
亦即，根據該第1賦能機構5A之構成，在構成空間 541之內面(受壓面)且可將所承受之壓力朝向第1夾持部1A傳遞之面中對於承受具有鉛直上方之成分之壓力之面(在本實施形態中，為隔膜314之空間541側之面及傾斜面13At)之朝向假想水平面之投影像之面積，會大於對於承受具有鉛直下方之成分之壓力之面(在本實施形態中，為隔膜313之空間541側之面)之朝向假想水平面之投影像之面積。因此，即便於腔室2a內之氣壓與密閉空間33A內之氣壓之氣壓差藉由使該氣壓下降而變小之情形時，仍可對第1夾持部1A施加鉛直上方之賦能力。
於第1例中，亦可以如下方式來思考在第1夾持部1A產生鉛直上方之賦能力之原理。亦即，在第1夾持部1A之可動區域中在最接近第1基座部21A時，空間541之容積會變得最大(參照圖8(A))。然後，伴隨著第1夾持部1A離開第1基座部21A，空間541之容積會變小(參照圖8(B))。因此，若第1夾持部1A欲自第1基座部21A離開，空間541內之氣壓便會上升，欲回到氣壓較低之狀態之力便成為賦能力而施加於第1夾持部1A。
根據如此之第1賦能機構5A，由於不需要對第1夾持部1A之背面12a施加該第1賦能機構5A之賦能力，因此易於對背面12a更均等地施加壓力。因此，更難以產生第1夾持部1A之歪曲等之變形。因此，於第1夾持部1A之吸著面11a，可維持更高之平滑性。
圖9(A)及(B)係針對第2實施形態之第1賦能機構5A顯示第2例之2個狀態之剖視圖。在第2例中，於第1夾持部1A之側周面形成有在與背面12a相同面擴徑之鍔部14A，且於凹部21Ar之開口端緣亦形成有鍔部212。然後，鍔部14A之前端面滑接 於凹部21Ar之內側面，而鍔部212之前端面滑接於第1夾持部1A之側周面。此外，於鍔部14A之前端面設置有介設於與凹部21Ar之內側面之間之密封構件551，而於第1夾持部1A之側周面設置有介設於與鍔部212之前端面之間之密封構件552。作為一例，密封構件551及552可使用O形環。
於如此之構成中，在第1夾持部1A之側周面與凹部21Ar之內側面之間，形成有由2個密封構件551及552所密閉之空間542。然後，藉由該空間542內之氣壓被維持為至少高於密閉空間33A內之氣壓，而形成有第1賦能機構5A。
亦即，根據該第1賦能機構5A之構成，在構成空間542之內面(受壓面)且可將所承受之壓力朝第1夾持部1A傳遞之面中對於承受具有鉛直上方之成分之壓力之面(在本實施形態中，為鍔部14A之空間542側之面)之朝向假想水平面之投影像之面積，會大於對於承受具有鉛直下方之成分之壓力之面(在本實施形態中，不存在如此之面)之朝向假想水平面之投影像之面積。因此，即便於腔室2a內之氣壓與密閉空間33A內之氣壓之氣壓差藉由使氣壓下降而變小之情形時，仍可對第1夾持部1A施加鉛直上方之賦能力。
於第2例中，亦可以如下方式來思考在第1夾持部1A產生鉛直上方之賦能力之原理。亦即，在第1夾持部1A之可動區域中在最接近第1基座部21A時，空間542之容積會變得最大(參照圖9(A))。然後，伴隨著第1夾持部1A離開第1基座部21A，空間542之容積會變小(參照圖9(B))。因此，若第1夾持部1A欲自第1基座部21A離開，空間542內之氣壓便會上升，欲回到氣壓較 低之狀態之力便成為賦能力而施加於第1夾持部1A。
根據如此之第1賦能機構5A，與第1例同樣地，由於不需要對第1夾持部1A之背面12a施加第1賦能機構5A之賦能力，因此易於對背面12a更均等地施加壓力。因此，更難以產生第1夾持部1A之歪曲等之變形。因此，於第1夾持部1A之吸著面11a，可維持更高之平滑性。
[3]第3實施形態
圖10係顯示關於第2賦能機構5B之其他例之剖視圖。如圖10所示，第2賦能機構5B亦可取代複數個銷311及盤形彈簧52B，而由環狀構件561及彈性構件562所構成。環狀構件561係固定於第2基座部21B之對向面21Bf。又，於環狀構件561，藉由其剖面呈自對向面21Bf以逆L字狀地延伸之形狀，形成有覆蓋第2夾持部1B之鍔部13B之環狀的被覆部561a。彈性構件562係可彈性變形之構件，介設於鍔部13B與被覆部561a之間。作為一例，彈性構件562可使用可彈性變形之密封構件(例如O形環)。
根據該第2賦能機構5B之構成，第2夾持部1B係藉由彈性構件562朝向第2基座部21B側被賦能。再者，於彈性構件562應用密封構件之情形時，彈性構件562亦可取代該密封構件312，而扮演密封構件312之作用(密封空間33B之維持)。
[4]第4實施形態
2個貼合對象亦可為了提升貼合時之接著性而被加熱，並於貼合結束後被冷卻。作為一例，分別於第1夾持部1A及第2夾持部 1B內置有加熱器，並藉由利用該加熱器對貼合對象進行加熱，而使被塗佈於貼合對象之接著劑熔化。然後，於貼合完成後，藉由將第1夾持部1A及第2夾持部1B本身冷卻，而使接著劑固化。以下，對具備有將第1夾持部1A及第2夾持部1B冷卻之冷卻機構之貼合裝置，作為第4實施形態而具體地進行說明。
圖11係顯示第4實施形態之貼合裝置之構成之示意圖。如圖11所示，貼合裝置進一步具備有將第1夾持部1A冷卻之第1冷卻機構7A、及將第2夾持部1B冷卻之第2冷卻機構7B。
第1冷卻機構7A具有被設置於第1夾持部1A之背面12a之冷卻板71A，且於冷卻板71A，在與背面12a之密著面形成有供冷卻媒體通過之通路72A。通路72A具有不使冷卻媒體洩漏至密閉空間33A之構成。再者，冷卻媒體亦可為氣體或液體之任一者，可為了將第1夾持部1A之溫度保持在適當溫度而適當地選擇。
第2冷卻機構7B具有被設置於第2夾持部1B之背面12b之冷卻板71B，且於冷卻板71B，在與背面12b之密著面形成有供冷卻媒體通過之通路72B。通路72B具有不使冷卻媒體洩漏至密閉空間33B之構成。再者，冷卻媒體亦可為氣體或液體之任一者，可為了將第2夾持部1B之溫度保持在適當溫度而適當地選擇。
根據第1冷卻機構7A及第2冷卻機構7B，可分別冷卻第1夾持部1A及第2夾持部1B。然而，過度地冷卻存在有造成吸著面11a及11b之變形之可能形。因此，冷卻時之第1夾持部1A及第2夾持部1B之溫度，較佳係被適當地管理。
[5]第5實施形態
作為第5實施形態，前述之貼合裝置，亦可進一步具備有凹槽對位機構8。凹槽對位機構8係為了對位置在前述之對位機構6被調整之貼合對象進行圓周方向上進一步之位置調整而使用。具體而言，於貼合對象設置有位置調整用之凹槽，凹槽對位機構8進行圓周方向上之該凹槽之位置調整。
圖12(A)及(B)分別為顯示凹槽對位機構8之構成之俯視圖及側視圖。如圖12(A)及(B)所示，凹槽對位機構8具備有沿著水平方向延伸之臂部81、及可使該臂部81於其延伸方向上前後移動之驅動部82。於臂部81之前端部，呈階梯狀地形成有前端朝向前方變尖之第1尖端部811及第2尖端部812(參照圖12(B))。此處，第1尖端部811係在使第1夾持部1A之吸著面11a吸著貼合對象之位置調整時，被插入在該貼合對象之邊緣所形成之凹槽的部分(參照圖14(C))。第2尖端部812係在使第2夾持部1B之吸著面11b吸著貼合對象之位置調整時，被插入在該貼合對象之邊緣所形成之凹槽的部分(參照圖13(C))。
然後，第1尖端部811較第2尖端部812更朝向前方突出。藉此，於朝向吸著面11b之貼合對象之吸著後，在使吸著面11a吸著別的貼合對象時，可不使第2尖端部812接觸於吸著面11b上之貼合對象，而進行利用第1尖端部811之在吸著面11a上之貼合對象之位置調整。具體而言，係如以下所述。
首先，於利用對位機構6之在吸著面11b上之貼合對象T1之位置調整時(參照圖4(B))，藉由使凹槽對位機構8之臂部81前進，而將第2尖端部812插入在貼合對象T1之邊緣所形成之凹槽N1(參照圖13(A)至(C))。此處，圖13(A)係顯示第2尖端部812 被插入凹槽N1前之狀態之俯視圖，圖13(B)及(C)分別為顯示第2尖端部812被插入凹槽N1時之狀態之俯視圖及側視圖。
藉由如此將第2尖端部812插入凹槽N1，而對貼合對象T1施加圓周方向上之強制力，從而使貼合對象T1強制性地旋轉至凹槽N1與第2尖端部812一致為止。然後，於利用對位機構6及凹槽對位機構8之貼合對象T1之位置調整後，執行第2夾持部1B之真空吸引。
其次，在利用對位機構6之在吸著面11a上之貼合對象T2之位置調整時(參照圖6(a))，藉由使凹槽對位機構8之臂部81前進，而將第1尖端部811插入在貼合對象T2之邊緣所形成之凹槽N2(參照圖14(A)至(C))。此處，圖14(A)係顯示第1尖端部811被插入凹槽N2前之狀態之俯視圖，圖14(B)及(C)分別為顯示第1尖端部811被插入凹槽N2時之狀態之俯視圖及側視圖。
藉由如此將第1尖端部811插入凹槽N2，而對貼合對象T2施加圓周方向上之強制力，從而使貼合對象T2強制性地旋轉至凹槽N2與第1尖端部811一致為止。然後，於利用對位機構6及凹槽對位機構8之貼合對象T2之位置調整後，執行第1夾持部1A之真空吸引。
[6]其他實施形態
朝向第1夾持部1A或第2夾持部1B之貼合對象之夾持，並不限於前述之真空夾持，既可使用靜電夾持，亦可將該等合併使用。
前述之第1浮動機構3A之各種構成，亦可應用於第2浮動機構3B。又，前述之第2浮動機構3B之各種構成，亦可應 用於第1浮動機構3A。此外，貼合裝置亦可具有僅第1夾持部1A或第2夾持部1B之任一者應用浮動機構之構成。於該情形時，應用浮動機構之一夾持部，相當於申請專利範圍所記載之第1夾持部。
前述之對位機構6並不限定於應用在貼合裝置，而可應用在各種夾持裝置。此外，對位機構6並不限定於應用在夾持裝置，而可應用在各種位置調整。再者，對位機構6中動力傳遞機構62之數量並不限定於3個，既可為2個，亦可為4個以上。
前述之實施形態之說明，所有內容均為例示，而應認定為並非用以限制者。本發明之範圍並非由前述之實施形態，而是由申請專利範圍所定。此外，本發明之範圍係指與申請專利範圍均等之意以及包含該範圍內之所有變更。

Claims (6)

  1. 一種貼合裝置，其具備有：第1夾持部及第2夾持部，其等係各自具有吸著貼合對象之吸著面之一對夾持部，且使彼此之上述吸著面被對向地配置；第1基座部及第2基座部，其等分別支撐上述第1夾持部及第2夾持部；以及第1浮動機構，其對上述第1夾持部之背面施加氣壓而使上述第1夾持部自上述第1基座部浮動，藉此使上述第1夾持部之吸著面朝向上述第2夾持部之吸著面之方向移動。
  2. 如請求項1之貼合裝置，其中，其進一步具備有：第2浮動機構，其對上述第2夾持部之背面施加氣壓而使上述第2夾持部自上述第2基座部浮動，藉此使上述第2夾持部之吸著面朝向上述第1夾持部之吸著面之方向移動。
  3. 如請求項2之貼合裝置，其中，於執行上述貼合對象之貼合時，上述第1浮動機構及上述第2浮動機構對上述第1夾持部及上述第2夾持部之各自之背面施加大致相同的氣壓。
  4. 如請求項1至3中任一項之貼合裝置，其中，其進一步具備有：鎖定機構，其可於執行上述貼合對象之貼合時，維持上述第1基座部與上述第2基座部彼此之位置關係。
  5. 如請求項1至3中任一項之貼合裝置，其中，其進一步具備有：腔室機構，其包含有上述第1基座部及上述第2基座部，而可於該等基座部之間，形成在內部配置有上述第1夾持部及上述第2夾持部並且被密閉之腔室；上述腔室機構進一步包含有： 驅動部，其可於垂直於上述吸著面之方向，使上述第1基座部對上述第2基座部相對地移動，且藉由使上述第1基座部與上述第2基座部相互地接近，而形成上述腔室；及排氣部，其使上述腔室內之氣壓下降。
  6. 如請求項5之貼合裝置，其中，其進一步具備有：旋轉機構，其具有沿著上述吸著面之方向之旋轉軸，可使上述腔室機構繞該旋轉軸反轉而將上述第1基座部與上述第2基座部之位置加以替換。
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