TW558559B - An oxygen atom-containing heterocyclic dione polymer and photosensitive composition comprising the same - Google Patents
An oxygen atom-containing heterocyclic dione polymer and photosensitive composition comprising the same Download PDFInfo
- Publication number
- TW558559B TW558559B TW087110549A TW87110549A TW558559B TW 558559 B TW558559 B TW 558559B TW 087110549 A TW087110549 A TW 087110549A TW 87110549 A TW87110549 A TW 87110549A TW 558559 B TW558559 B TW 558559B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- polymer
- resin
- present
- heterocyclic
- item
- Prior art date
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 28
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 title abstract description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title abstract description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 title 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 5
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 4
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 34
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 34
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 13
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical class O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002848 norbornenes Chemical class 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- -1 germanyl Chemical group 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 3
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N methylene hexane Natural products CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 2
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000004227 thermal cracking Methods 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003800 germyl group Chemical group [H][Ge]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000004890 malting Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F32/00—Homopolymers and copolymers of cyclic compounds having no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic ring system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Description
558559
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 +薄層塗佈工業與感光工業在現階段高科技產業中扮 /貝^舉足輕重的角色。薄層塗佈用的樹脂除需具備良好 接著性與成膜性外,更須具有長期儲存的穩定性與吸濕 性,以避免於運輸及不同操作環境下變質的問題,因此S ,結構上不宜有太多高吸濕性的官能基。如果考慮應用於 感光領域,更須由分子設計使之具有高耐蝕刻性、成膜性 與穩定的感光性等製程特質。 、 ,現今普遍應用於薄層塗佈的樹脂為馬來酸酐衍生物 與原冰片烯(norbornene)之共聚樹脂,如美國專利 3,928,497號所揭示者。當此類樹脂應用於Ic光阻劑中時, 雖具有寬廣的製程視窗與線性關係,然而由於馬來酸酐易 ,水產生酸分子,而使長期儲存或運輸中保存不易,再則 若空氣中濕度變化較大時,也會使操作時的性質產生相當 大的麦化,因而使EG(ph〇t〇Speed)與y(contrast)的條件難以 拴制,無法產生品質固定的線幅。由於此類樹脂的高吸濕 性缺點,係因其本身化學結構所致,故除添加低吸水性的 塑化劑外,目前尚無良好的方法加以克服。此外,馬來酸 =衍生物與原冰片烯之共聚樹脂尚有玻璃轉移溫度太 高、成膜性差易裂膜等缺點。 一因此,本發明之目的即為解決上述之問題,因而研發 種新穎之樹脂,其有較低的吸濕性及玻璃轉移溫度,並 有良好的接著性與儲存特性,可用於薄層塗佈工業與感光 工業上。 ^為了達成本發明之目的,本發明乃藉由樹脂上單體性 質的改善,而改善整體樹脂的性質。本發明乃使用一種雜 本紙張尺度適用(;) A4規格(21GX297公釐)
I -- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 訂 -m 1 -
一』早體來取代馬來酸酐衍每二酮之新穎的樹脂系統。由二有此韻 低’因此,其樹脂之吸難可;體吸濕相為擇供之新穎樹脂系統為雜環二酮聚合物,^ =自通所表示之雜環二酮單體的均聚物或^
⑴
(II) =-·裝— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 其中 A和B可為相同或不同,且每個八和8獨立地為擇 自鹵素’氫’ c3.2Q環狀和多環狀貌基’ Ci2。直鏈和支鍵 院基’匸6_2〇芳基,Cwo芳基院基,C7_2〇烷基芳基,石夕基 (silyl),烷基矽基,鍺基(germyl),烷基鍺基,烷氧基羰 基(alkoxycarbonyl),醯基(acyl),和雜環基所組成之族群 中;或者,A和B連接起來而形成一 C32()飽和或不飽和的 環狀碳氫基,或一經取代或無取代的雜環基,以及 C為擇自0,S, 訂 έ I 0 I II 1 —N-0-S—R1 II 0 -N-R1 , —Ν—S-R1 〇 -Ρ—R1 ^ -CH2-,和-SiH2-所組成之族群中 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(2丨0X297公釐) 558559 A7
(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁}
訂
〇 I έ 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 通式(II)所表示之雜環二酮單體的具體例子包括
0
〇
>0 0义h2c^xch2 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) M規格(21Qx297公楚) - 五、發明説明(4 〇
〇 σ
本發明之雜環二酮聚合 \ 0 0 等等 、Ν
體之一丘聚物,介Ρ 亦可為包含環狀烯烴共罩 蔽I /、钬物,亦即,本發 m ^ 月之雜裱二酮聚合物可為至少 通式(I)或(II)之一雜環二 ^ u ^ ^ …早體和至少一環狀烯烴共單體 Λ °所用之環_烴可為原冰片烯(nGfbornene) 或一 norbornene衍生物。 原冰片烯衍生物可為擇自 ---------------訂 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
8 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 558559 ' · A7 B7 五、發明説明(5 ) 原冰片烯衍生物亦可為具有如下通式之化合物:
其中m為1至3之整數; 或者為具有如下通式之化合物: ----------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 其中q為1至3之整數,X為擇自0, NH,或S。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 所謂的化學增幅型光阻(chemically amplified resist),是指其在顯影劑中的溶解度會因照光後戶斤產生的 酸而改變。此類光阻是由受保護之樹脂、光酸產生劑、及 溶劑所組成的。所謂受保護之樹脂,是指其具有一酸可分 解之保護基(acid-decomposable protective group),此保護 基在酸的存在下會分解,而使得樹脂成為鹼可溶。當塗佈 9 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) 558559 '.. A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(6 ) 在基板上之化學增幅型光阻在照光後,光酸產生劑會產生 酸,而此酸使得樹脂之保護基分解,繼而使得樹脂成為可 溶於驗性顯影劑中。 因此,為了使得本發明之雜環二酮聚合物可適用於作 為化學增幅型光阻,最好本發明之雜環二酮聚合物具有一 酸可分解保護基,此保護基在酸的存在下會分解,而使得 環狀二酮聚合物成為驗可溶。 此酸可分解保護基可存在於通式(I)中,可存在於通式 (II)中,可存在於與通式(I)或通式(II)共聚合之環狀烯烴共 單體中,亦可存在於與通式(I)或(II)共聚合之任何其他單 體中。 舉例而言,如上所述,可與通式(I)或(II)共聚合之環 狀浠烴可為norbornene或一 norbornene衍生物。此 norbornene衍生物可含有一酸可分解之保護基D,如此,當 本發明之雜環二酮聚合物在酸的存在下時,此保護基D會 分解,而使得雜環二酮聚合物成為鹼可溶。此類之 norbornene衍生物包括:
〇 (V) (VI)
(VII) 10 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ------訂------ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
〇 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 558559 ‘ ' A7 B7 五、發明説明(7 ) 其中 D為一酸可分解之保護基,此保護基在酸的存在下會 分解,而使得雜環二酮聚合物成為鹼可溶, 每個R3獨立地為擇自氫,〇ν2()直鏈和支鏈之烷基, C3_2〇環狀和多環狀烷基所組成之族群中。 D之具體例子包括:
其中R4為擇自氫,CV2()直鏈和支鏈之烷基,C3_20環 狀和多環狀烷基所組成之族群中。 如上所述,本發明之雜環二酮聚合物可為至少通式(I) 或(II)之一雜環二酮單體和至少一環狀烯烴共單體之一共 聚物。例如,通式(I)可與任何上述之含有酸可分解保護基 11 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) ---------,— ψ------:11------0 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 558559
發明説明(8 片騎生物進行自由基聚合反應,且,通式⑼亦 通式(ΠΙ)表示: 進行自合μ。崎之騎生物 m Jr ^ΤΤΤΛ ^ 〇物可以如下之
A,B,C,D,和R3如上所定義, P,q,X,y,和Z為相對應之單體的莫耳分率 p+q+x+y+z=l , p,q,X,y,z在 〇 至 〇·5 之間,P+q大於0 , χ+y+z在0至〇·8之間。 1^1 II - -- Γφ^ ! (閲讀背面之注意事¾再填寫本頁〕 -、π' 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
(IV) 其中A,B,C,D,和R3如上所定義, 12 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇><297公廣)
Aw 558559 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 • A7 B7五、發明説明(9 ) P,y為相對應之單體的莫耳分率, p+y=l , p,y在0.1至0·9之間。 本發明之雜環二酮聚合物並非限定在經自由基聚合 反應而得者,凡是使用上述通式(I)或(II)之雜環二酮單體 作為單體而反應得之均聚物或共聚物,均包括在本發明之 範圍内。其所進行之聚合反應,可為自由基聚合反應、逐 步聚合反應、陽離子聚合反應、陰離子聚合反應等。 為了使本發明之雜環二酮聚合物適合於作為薄層塗 佈,所得之雜環二酮聚合物最好為有機溶劑可溶者。本發 明所得之較佳雜環二酮聚合物,其玻璃轉移溫度(Tg)介於 130°C至300°C之間,重量平均分子量介於1000至50000 之間,分解溫度(Td)大於130°C,故非常適合於用作為薄 層塗佈組合物中之樹脂。薄層塗佈應用的範圍包括感光油 墨、印刷油墨、光阻劑、表面塗佈材質等等。 當本發明之雜環二酮聚合物用於光阻劑(感光組合物) 時,適用之感光波長範圍可為150 nm至600 nm,較佳者 為193 nm或248 nm。當本發明之雜環二酮聚合物具有酸 可分解保護基時,特別適合於用作化學增幅型光阻劑。 本發明之雜環二酮聚合物可與任何其他之聚合物摻 混(blending),以得到聚合摻合物(polymer blend),藉此, 13 ------1T------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 物 質 五、發明説明(10) 可使聚合摻合物具有 質,以符合於不同的需求。 雜%二酮聚合物的性 本發明之優點可整理如下: 弊二::月乃使用雜環二3同單體來取代馬來酸酐衍生 =月:上單體性質的改善’而改善整體樹脂的性 此,人古U月所使用之雜環二鋼單體之吸濕性低,因 發明二广雜環广酮之新穎樹脂,有較低的吸濕性,使本 "仔的㈣易於儲存運送,且仍可維持樹脂的黏著 性0 2.雜壞二_單體所含之_基,可使樹脂對於基板的 接著力增加。 乂3·藉由在雜環二酮單體上接上適當的烷基,更可增 加分子間的自由度,使玻璃轉移溫度(Tg)得以適當的降 低,約為130〜300°C之間,並且,本發明之雜環二酮樹脂 的重量平均分子量約為1000〜50000之間,因此有良好成 膜性,不會有裂膜的現象發生。 4·當本發明之樹脂中含有酸可分解之保護基時,可 應用於化學增幅型光阻上。由於樹脂在感光前後有明顯的 /谷解度差異’因此在E〇(ph〇t〇speed)與y(contrast)方面,均 有極佳的製程表現,極具應用潛力。 14 本紙張尺度適用中國國家樣準(CNS ) A4胁(210X297公瘦) IT------Aw (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 558559 ' A7 B7 五、發明説明(11) 以下,本發明將舉一實施例以說明本發明之方法、特 徵、及優點,但並非用以限定本發明之範圍,本發明之範 圍應以後附之申請專利範圍為準。 實施例1 :樹脂之合成 將 15.4 克的 2_ 曱基-2_ 乙基-2H-旅σ南_3,6-雙酉同(2-11161:11^!-2-6111)4-2Η·ργ·_3,6·(ϋ〇Γ^) ’ 9_81 克的原冰片烯(norbomene)衍生物(t_butyl-2-carboxylate-5-[2,2,l14]heptene)與 0_81 克的 2,2,_偶氮雙異丁腈 (AIBN)溶於25克的四氫呋喃中加熱至70。(:,迴流8小時 後將溶液滴入1〇〇 ml的異丙醇與100 ml的正己烷混合液 中’付到6.28克白色固體。經分析此產物得知其熱裂解溫 度(以TGA測試)Τ> 192°C,Tg(以DSC測試)高於其熱裂解溫 度’重量平均分子量(以GPC測試)=3604,樹脂合成轉化率 為 25.1%。 實施例2 :樹脂成膜性測試 將1.5克實施例1所得之樹脂溶於8.5克的丙二醇 一曱基醚醋酸酉旨(PGMEA; Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate)中攪拌8小時,待樹脂全部溶解後,將溶 液以0.2 μιη的濾片過濾,取濾液2 ml以3000 rpm的速 率旋轉塗佈於4吋晶圓上,並以130。(:的溫度進行軟烤 1分鐘,再以測厚儀測量其厚度。測16點之厚度為 5728±32A,由厚度變異不大的特點,可得知其成膜性 佳。 15 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4規格(210 X 297公釐) ----------豐------:11------0 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央榡準局員工消費合作杜印製 558559 4 A7 _B7_ 五、發明説明(12) 實施例3 :樹脂含水率測定 取實施例1所得之樹脂2.5克溶於7.5 ml的THF中,加蓋 後攪拌8小時,配製成25%的THF溶液,靜置於室溫中3 日備用。取配製成的25%樹脂溶液4至5克,以Karl_Fischer 儀器滴定,利用Hydraual Composite 5為滴定標準液,經 量測得到含水率為0.589%。 比較實施例1 方法同實施例1所述,但將2-甲基-2-乙基-2H-哌喃-3,6-雙酮以馬來酸酐取代,得到馬來酸酐共聚物。再依實施例 3所述之方法,將此馬來酸酐共聚物配製成25%樹脂溶 液,並測得其含水率為0.886% 。 結果顯示’本發明樹脂之吸濕性較馬來酸酐共聚樹 脂的吸濕性低,故有較佳之儲存穩定性。 雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以 限定本發明,任何熟習此項技藝者,在不脫離本發明之精 神和範圍内,當可作更動與潤飾,因此本發明之保護範^ 當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 16 關家鮮(cns ) A4£i^7rG_x297公慶)_ ---------------訂------9 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
Claims (1)
- 558559 3 •如申請專利範圍第2項所述之聚合物,其中每個a和B 獨立地為擇自甲基或乙基。 4_如申請專利範圍第1項所述之聚合物,其為有機溶劑可 溶者。 5 ·如申请專利範圍第1項所述之聚合物,其玻璃轉移溫度 (Tg)介於13〇°c至300°C之間。 6·如申請專利範圍第1項所述之聚合物,其重量平均分子 量介於1000至50000之間。 7·如申請專利範圍第1項所述之聚合物,其為經自由基聚 合反應而得。 Λ 8·—種薄層塗佈組合物,其包括如申請專利範圍第1項 述之聚合物。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW087110549A TW558559B (en) | 1998-06-30 | 1998-06-30 | An oxygen atom-containing heterocyclic dione polymer and photosensitive composition comprising the same |
| US09/213,943 US6197476B1 (en) | 1998-06-30 | 1998-12-17 | Photosensitive composition containing a cyclic dione polymer |
| DE19900976A DE19900976A1 (de) | 1998-06-30 | 1999-01-13 | Zyklisches Dion-Polymer |
| JP18166499A JP3280637B2 (ja) | 1998-06-30 | 1999-06-28 | 環状ジオン重合体 |
| US09/675,875 US6303725B1 (en) | 1998-06-30 | 2000-09-29 | Cyclic dione polymer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW087110549A TW558559B (en) | 1998-06-30 | 1998-06-30 | An oxygen atom-containing heterocyclic dione polymer and photosensitive composition comprising the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW558559B true TW558559B (en) | 2003-10-21 |
Family
ID=21630555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW087110549A TW558559B (en) | 1998-06-30 | 1998-06-30 | An oxygen atom-containing heterocyclic dione polymer and photosensitive composition comprising the same |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6197476B1 (zh) |
| JP (1) | JP3280637B2 (zh) |
| DE (1) | DE19900976A1 (zh) |
| TW (1) | TW558559B (zh) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6306554B1 (en) * | 2000-05-09 | 2001-10-23 | Shipley Company, L.L.C. | Polymers containing oxygen and sulfur alicyclic units and photoresist compositions comprising same |
| KR100527533B1 (ko) * | 2000-06-21 | 2005-11-09 | 주식회사 하이닉스반도체 | Tips 공정용 포토레지스트 중합체 및 이를 함유하는포토레지스트 조성물 |
| KR100403626B1 (ko) * | 2001-04-25 | 2003-10-30 | 삼성전자주식회사 | 다중환 구조의 에테르 모노머와 이로부터 얻어지는 감광성폴리머 및 화학증폭형 레지스트 조성물 |
| US20080160447A1 (en) * | 2003-09-22 | 2008-07-03 | Willi-Kurt Gries | Photopolymer Printing Plate Precursor |
| US20070072090A1 (en) * | 2005-09-28 | 2007-03-29 | Sheng-Yueh Chang | Reticle having a protection layer |
| US9643130B2 (en) | 2015-03-31 | 2017-05-09 | Pall Corporation | Hydrophilically modified fluorinated membrane (IV) |
| US9649603B2 (en) | 2015-03-31 | 2017-05-16 | Pall Corporation | Hydrophilically modified fluorinated membrane (III) |
| US9630151B2 (en) | 2015-03-31 | 2017-04-25 | Pall Corporation | Hydrophilically modified fluorinated membrane (V) |
| US9636641B2 (en) | 2015-03-31 | 2017-05-02 | Pall Corporation | Hydrophilically modified fluorinated membrane (I) |
| US9724650B2 (en) | 2015-03-31 | 2017-08-08 | Pall Corporation | Hydrophilically modified fluorinated membrane (II) |
| US9849428B2 (en) | 2015-04-30 | 2017-12-26 | Pall Corporation | Hydrophilically modified fluorinated membrane (VI) |
| US9643131B2 (en) | 2015-07-31 | 2017-05-09 | Pall Corporation | Hydrophilic porous polytetrafluoroethylene membrane (I) |
| US10315168B2 (en) | 2015-07-31 | 2019-06-11 | Pall Corporation | Hydrophilic porous polytetrafluoroethylene membrane (II) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE710778A (zh) * | 1967-02-16 | 1968-06-17 | ||
| JPS5239636B2 (zh) | 1973-05-01 | 1977-10-06 | ||
| US4086090A (en) | 1973-07-25 | 1978-04-25 | Hitachi, Ltd. | Formation of pattern using acrylamide-diacetoneacrylamide copolymer |
-
1998
- 1998-06-30 TW TW087110549A patent/TW558559B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-12-17 US US09/213,943 patent/US6197476B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-01-13 DE DE19900976A patent/DE19900976A1/de not_active Withdrawn
- 1999-06-28 JP JP18166499A patent/JP3280637B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-09-29 US US09/675,875 patent/US6303725B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000038417A (ja) | 2000-02-08 |
| JP3280637B2 (ja) | 2002-05-13 |
| US6303725B1 (en) | 2001-10-16 |
| DE19900976A1 (de) | 2000-01-05 |
| US6197476B1 (en) | 2001-03-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW558559B (en) | An oxygen atom-containing heterocyclic dione polymer and photosensitive composition comprising the same | |
| TW515930B (en) | Copolymer resin, preparation thereof, and photoresist using the same | |
| TW558674B (en) | Method for preparing novel resist | |
| JPH11286469A (ja) | 単量体、重合体、単量体製造方法、重合体製造方法、フォトレジスト、フォトレジスト製造方法および半導体素子 | |
| JPS5843951A (ja) | イミジル化合物 | |
| JP2000026446A (ja) | ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 | |
| TW499628B (en) | Carboxyl-containing alicyclic compounds and a process for preparing the same | |
| TW546538B (en) | Positive photoresist copolymer and photoresist composition using the same | |
| JP3643491B2 (ja) | 化合物、共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物とこれを利用したフォトレジストパターン形成方法、および半導体素子 | |
| CN102718932A (zh) | 光敏共聚物和光致抗蚀剂组合物 | |
| TWI243285B (en) | Positive photoresist composition | |
| JP3005632B2 (ja) | 開環重合体 | |
| TW591340B (en) | High molecular weight silicone compounds, chemically amplified positive resist compositions, and patterning method | |
| US3257202A (en) | Electrophotographic material and process | |
| JP3848551B2 (ja) | 有機反射防止膜の組成物及びその製造方法 | |
| JP7192779B2 (ja) | 共重合体およびポジ型レジスト組成物 | |
| JP2001098034A (ja) | フォトレジスト用単量体とその製造方法、フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 | |
| Balaji et al. | Studies on photosensitive homopolymer and copolymers having a pendant photocrosslinkable functional group | |
| US3770443A (en) | Photosensitive composition comprising a photosensitive polymer | |
| CA1038537A (en) | Polymers comprising 2-pyridone substituents and compositions thereof | |
| TW594403B (en) | Chemical amplifying type positive resist composition | |
| US4393160A (en) | Aqueous developable poly(olefin sulfone) terpolymers | |
| Park et al. | A new type of eco‐friendly resist based on nonchemically amplified system | |
| JPS61249049A (ja) | レジスト現像方法 | |
| TW593368B (en) | Photosensitive polymers including copolymer of alkyl vinyl ether and furanone and resist compositions containing the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
| MK4A | Expiration of patent term of an invention patent |