TWD220665S - 基板處理裝置用噴嘴保持器 - Google Patents
基板處理裝置用噴嘴保持器 Download PDFInfo
- Publication number
- TWD220665S TWD220665S TW110305055F TW110305055F TWD220665S TW D220665 S TWD220665 S TW D220665S TW 110305055 F TW110305055 F TW 110305055F TW 110305055 F TW110305055 F TW 110305055F TW D220665 S TWD220665 S TW D220665S
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- substrate processing
- nozzle holder
- processing equipment
- nozzle
- article
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title abstract description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
Images
Abstract
【物品用途】;本設計的物品是基板處理裝置用噴嘴保持器，為一種配置在處理晶圓的基板處理裝置的處理室內連接於氣體供給噴嘴使用，並且是直立地支承該氣體供給噴嘴的噴嘴保持器。此外，本體的中央部是供氣體通過的噴嘴結構。;【設計說明】;(無)
Description
本設計的物品是基板處理裝置用噴嘴保持器，為一種配置在處理晶圓的基板處理裝置的處理室內連接於氣體供給噴嘴使用，並且是直立地支承該氣體供給噴嘴的噴嘴保持器。此外，本體的中央部是供氣體通過的噴嘴結構。
(無)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021-005832 | 2021-03-22 | ||
| JP2021005832F JP1700780S (ja) | 2021-03-22 | 2021-03-22 | 基板処理装置用ノズルホルダー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWD220665S true TWD220665S (zh) | 2022-08-21 |
Family
ID=78766351
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW110305055F TWD220665S (zh) | 2021-03-22 | 2021-09-17 | 基板處理裝置用噴嘴保持器 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | USD1017561S1 (zh) |
| JP (1) | JP1700780S (zh) |
| TW (1) | TWD220665S (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWD228839S (zh) | 2022-10-12 | 2023-12-01 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 半導體基板保持具的基座之部分 |
| TWD228840S (zh) | 2022-10-12 | 2023-12-01 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 半導體基板保持具之部分 |
| TWD234484S (zh) | 2023-06-23 | 2024-11-01 | 日商斯庫林集團股份有限公司 (日本) | 用於基板處理裝置之飛沫擴散抑制構件 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USD288954S (en) * | 1984-09-20 | 1987-03-24 | Economics Laboratory, Inc. | Dispensing nozzle |
| USD341418S (en) * | 1991-02-22 | 1993-11-16 | Tokyo Electron Limited | Supply nozzle for applying liquid resist to a semiconductor wafer |
| USD439636S1 (en) * | 2000-01-26 | 2001-03-27 | Spraying Systems Co. | Quick disconnect nozzle assembly |
| USD583224S1 (en) * | 2007-11-29 | 2008-12-23 | Barsplice Products, Inc. | Coupler body for connecting concrete reinforcing bars |
| USD826702S1 (en) * | 2017-03-14 | 2018-08-28 | Sean A. Barnes | Pile guide for docks for internal application |
| JP1624352S (zh) | 2018-07-19 | 2019-02-12 | ||
| JP1648531S (zh) | 2019-01-28 | 2019-12-23 | ||
| USD899901S1 (en) * | 2019-07-24 | 2020-10-27 | Sean A. Barnes | Pile guide having an external stabilizer |
| KR20210048408A (ko) * | 2019-10-22 | 2021-05-03 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 증착 반응기 매니폴드 |
| JP1685215S (ja) * | 2020-08-18 | 2024-05-10 | 基板処理装置用ガス導入管 |
-
2021
- 2021-03-22 JP JP2021005832F patent/JP1700780S/ja active Active
- 2021-09-17 TW TW110305055F patent/TWD220665S/zh unknown
- 2021-09-21 US US29/808,585 patent/USD1017561S1/en active Active
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWD228839S (zh) | 2022-10-12 | 2023-12-01 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 半導體基板保持具的基座之部分 |
| TWD228840S (zh) | 2022-10-12 | 2023-12-01 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 半導體基板保持具之部分 |
| TWD234484S (zh) | 2023-06-23 | 2024-11-01 | 日商斯庫林集團股份有限公司 (日本) | 用於基板處理裝置之飛沫擴散抑制構件 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| USD1017561S1 (en) | 2024-03-12 |
| JP1700780S (ja) | 2021-11-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWD220665S (zh) | 基板處理裝置用噴嘴保持器 | |
| TWD203444S (zh) | 基板處理裝置用氣體導入管 | |
| TWD215922S (zh) | 基板處理裝置用氣體導入管 | |
| TWD193438S (zh) | Jet ring for plasma processing unit | |
| TWD226182S (zh) | 基板處理裝置用氣體供給噴嘴之部分 | |
| TWD197467S (zh) | 基板處理裝置用氣體導入管 | |
| TWD218093S (zh) | 基板處理裝置用晶舟之部分 | |
| TWD177427S (zh) | 電漿處理裝置用電極板 | |
| TWD215215S (zh) | 基板處理裝置用氣體供給噴嘴 | |
| TWD231991S (zh) | 基板處理裝置用氣體供給噴嘴之部分 | |
| TWD197827S (zh) | 半導體晶圓研磨用彈性膜 | |
| TWD194248S (zh) | Air jet board for plasma processing equipment | |
| TWD218087S (zh) | 反應管 | |
| TWD212726S (zh) | 基板處理裝置用晶舟之部分 | |
| JP1741175S (ja) | サセプタ | |
| TWD225036S (zh) | 基板處理裝置用隔熱板 | |
| TWD231015S (zh) | 基板處理裝置用爐 | |
| TWD230584S (zh) | 反應管 | |
| TWD230585S (zh) | 反應管 | |
| TWD230586S (zh) | 反應管 | |
| TWD218088S (zh) | 基板處理裝置用晶舟 | |
| TWD231014S (zh) | 基板處理裝置用爐之部分 | |
| TWD215079S (zh) | 半導體晶圓研磨用彈性膜 | |
| TWD228269S (zh) | 基板處理裝置用基板保持具 | |
| JP1816791S (ja) | ウェハ保持ユニット |