TWI484004B - 解脂酶之用於形成抗指紋膜之新用途、抗指紋膜之形成方法、以該方法形成之含抗指紋膜之基板、以及含該基板之產品 - Google Patents

解脂酶之用於形成抗指紋膜之新用途、抗指紋膜之形成方法、以該方法形成之含抗指紋膜之基板、以及含該基板之產品 Download PDF

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Description

解脂酶之用於形成抗指紋膜之新用途、抗指紋膜之形成方法、以該方法形成之含抗指紋膜之基板、以及含該基板之產品
本發明係關於一種解脂酶的新用途,其係用於形成一對基板表面具有自行清潔功能之抗指紋膜,本發明更關於一種使用該解脂酶形成抗指紋膜之方法、使用此方法形成之包含抗指紋膜之基板、及一包含該基板之產品。
指紋所形成之污染物係為一種常見於各種顯示裝置、高光澤電子裝置或建築材料之污染物之一。這類的汙染物可清楚的看見,而導致產品外觀有所缺陷。近年來,隨著電子裝置觸控介面技術的發展,顯示裝置表面之指紋污染物也隨之增加,故對於解決電子產品表面之指紋污染物問題的需求也跟著增加。然而,雖然抗指紋膜已發展出可達到某種程度之輕易清潔效果,但至今仍未發展出可確實實線抗指紋膜之技術。
例如,WO09/072738係揭露一種用於電子產品之不鏽鋼外殼上之抗指紋膜組成物,其包括27.6至36.2重量份之聚矽酸鹽、10.6重量份或以下之一選自由環氧樹脂或乙烯基樹脂之樹脂、21.2至42.6重量份之矽酸膠(colloidal silica)、及10.6重量份或以下添加劑,該添加劑係由至少一選自由-OH、-NH2、及-COOH所組成之第一群組、以及至少一選自由-CnF2n+1、-SiR3所組成之第二群組所組成。
美國專利第20020192181號係揭露一種抗污染組成物,其包括:一不具有全氟聚醚(perfluoropolyether)官能基之固化或交聯聚合物、以及一含流體氟化之烷基或烷氧基之聚合物或共聚物。
然而,上述抗污染模係使用氟基塗佈材料,因其具有低表面能,故可輕易將附著於表面之污染物移除。由於抗污染物薄膜不具有自行清潔功能(即,可主動減少指紋轉印或分解指紋),故無法在不擦去污染物下達到改善外觀之效果。
習知之抗指紋膜僅適用於外殼用之鋼板上,而對於應用在如顯示裝置等需要高光穿透率之產品上則有所限制。
此外,目前亦發展出使用酵素達到自行清潔功能之塗佈溶液、塗佈層、及使用其之塗佈方法。然而,這些塗佈溶液、塗佈層、及塗佈方法係用以防止海洋中微生物附著於船體底層上,並非用於減少因指紋而形成在顯示裝置、電子裝置外觀、及建築材料上的汙染物。
例如,美國專利第2008/0038241號係揭露一自行拋光、抗汙染物之塗佈組成物,而美國專利第5998200號則揭露用以防止海洋中微生物造成之水面下裝置污染之方法。
換言之,於使用酵素之自行清潔技術中,習知之塗佈溶液、塗佈層或塗佈方法之機制,係藉由將由海洋微生物所產生的吸附物質事先移除以防止海洋中微生物附著於船底、或是移除具有吸附材料之污染物,然而,這樣的機制與分解指紋污染物並無相關。
截至目前為止,本發明之發明者仍未發現任何可自行清潔之抗指紋塗佈技術,以提供顯示裝置表面之抗指紋特性。
本發明係關於一種不會藏汙且無須擦拭即可移除指紋之技術,其係使用一酵素以分解轉印指紋之組成份,並減少指紋組成份間物理特性的變異。
本發明亦關於一種可減少指紋轉印且具有指紋分解特性之抗指紋膜形成方法,一種包含使用此方法製備之抗指紋膜之基板、以及一種包含此基板之產品。
本發明之發明者做過許多關於抗指紋膜之方法的研究,以形成具自行清潔功能之抗指紋膜,而並非僅簡單形成可達到輕易清潔之抗指紋膜。更詳細而言,考量到指紋主要係由脂質所形成,故本發明之發明者假設當解脂酶塗佈在基板上時,可透過酵素反應而減少指紋轉印。因此,本發明之發明者欲確認此塗佈膜是否具有抗指紋特性,且是否係藉由改變轉印在塗佈有解脂酶基板上之指紋物理特性而達成。
指紋主要組成份係為汗水和皮脂,且指紋亦由皮膚之老廢皮膚細胞、以及如外界環境灰塵之污染物所組成。其中,已知於電子裝置等產品外觀上殘留污漬之主因係為皮脂,而皮脂主要是由包括三酸甘油酯(triglycerides)、蠟單酯(wax monoesters)、脂肪酸(fatty acids)、鯊烯(squalenes)、 膽固醇(cholesterols)、膽固醇酯(cholesteryl esters)等脂質所組成(P.W.Wertz,Int.J Cosmet.Sci.2009,31:21-25)。於皮脂的組成份中,三酸甘油酯及蠟單酯之含量將近總皮脂含量之70%。這些成分之結構中,係包括多個透過酯鍵連接之脂肪酸。當酯鍵切斷時,皮脂主要係分解成脂肪酸,特別是油酸(oleic acid),而使均質性增加並轉換成低分子量材料。因此,藉由將油酸分解成低分子量材料或將油酸進行修飾以提升揮發性,則可完全將皮脂從產品上移除。
因此,本發明係關於一種解脂酶之新用途,其係用以形成抗指紋膜,亦即,本發明係關於一種使用解脂酶形成抗指紋膜之方法。
尤其是,本發明係關於一種抗指紋膜之形成方法,其包括以一含解脂酶之組成物處理基板之步驟。
於本發明中,解脂酶可包含任何具有水解指紋脂質組成份特性之酵素,其中脂質組成份係如三酸甘油酯、蠟單酯、脂肪酸、鯊烯、膽固醇、及膽固醇酯。
具有於室溫下水解酯鍵之活性之酵素,可舉例如脂肪分解酵素(lipase)。本發明並不特別限定脂肪分解酵素之種類或來源,故任何種類之脂肪分解酵素均可用於本發明實施例之解脂酶中。為了達到對三酸甘油酯及蠟單酯(皮脂之主要組成份)之高度水解特性,可使用可於任何位置均可達到非專一性作用之脂肪分解酵素。近年來,可從Novozymes或Amano Enzyme公司購得使用微生物生產之各種脂肪分 解酵素,且可將轉殖基因(transformer)插入一脂肪分解酵素之基因主鏈上以製造一脂肪分解酵素。
除脂肪分解酵素外,本技術領域已知其他具有解脂活性之酵素。例如,目前已知多種蛋白酶亦為具解脂活性之解脂酶,且角質蛋白酶(cutinase)亦已知具有解脂活性。
用於形成抗指紋膜之含解酯酶之組成物亦可包括至少一種選自由蛋白酶(protease)、澱粉酶(amylase)、纖維素酶(cellulose)、及乳糖酶(lactase)所組成之群組之酵素。例如,可將蛋白酶固定在產品表面,以分解指紋弄髒之各種蛋白質。蛋白酶係用以切斷蛋白質間的胜肽鍵,以移除髒污。此外,為了移除汗水之組成份及各種外界污染物之組成份,可使用如澱粉酶、纖維素酶或乳糖酶等酵素。
除了酵素外,組成物可更包括一可穩定酵素之材料。例如,組成物可包括一如磷酸鹽緩衝液(PBS)之緩衝溶液、磷酸鉀緩衝溶液、或磷酸鈉緩衝溶液。為了維持酵素活性,如聚乙二醇(polyethyleneglycol)或丙二醇(propylene glycol)等多聚醇(polyhydric alcohol)可做為一聚合物,並與酵素塗佈在基板上,或者聚氨基甲酸酯(polyurethane)、乙醯基有機材料、或矽氧烷基有機/無機化合物,均可與酵素塗佈在基板上。
除了上述酵素以外之組成物亦可與酵素同時塗佈在基板上,或酵素及組成物可依序塗佈在基板上。亦即,除了酵素以外的組成物可塗佈在基板上,而後可藉由吸附或共價鍵塗佈酵素於基板上。
此外,解脂酶需要水分才可水解脂質。由於指紋除了脂質外更包括水分,故無須額外供應水分。然而,組成物中亦可包括水膠組成份、或將水膠組成份塗佈在基板表面上,以提供較多水分並提升酵素穩定性。關於水膠組成份之製備,可使用一同時具有含至少兩個雙鍵之交聯基及疏水官能基之材料。這樣的組成份可包括乙二醇或具多個官能基之丙烯醯胺(acrylamide)。因透過水膠塗佈提供水氣及酵素穩定性,故可更加幫助三酸甘油酯及蠟單酯之水解。
此外,本發明之具抗指紋膜之基板並無特殊限制,任何形式之基板均可使用。例如,需抗指紋膜之產品,可為日常生活中經常用手接觸之產品,包括顯示裝置、電子裝置外觀、及建築材料。這些產品之表面係由塑膠或玻璃形成,或經如UV塗佈或保護塗佈等光澤塗佈處理之表面。例如,基板可包括至少一選自由聚酯(polyester)、聚丙烯(polypropylene)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylenenaphthalate)、聚碳酸酯(polycarbonate)、三乙醯纖維素(triacetylcellulose)、烯烴共聚物(olefin copolymers)、及聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate)所組成之群組聚合物,或是玻璃。基板之表面可經由各種塗佈方式處理,如光澤塗佈、保護塗佈、塗料塗佈、及水膠塗佈。
本發明對於使用含解脂酶之組成物處理基板之方法並無特殊限制,可使用本技術領域任何已知的方法,如本技 術領域已知之酵素固定化方法。例如,可透過吸附、共價鍵、或微粒封裝將解脂酶導入基板表面。
吸附係指透過物理附著將解脂酶附著於一基板表面、或附著於一無酵素抗指紋塗佈組成物所形成之塗佈層上。組成酵素之蛋白質僅對材料表面具有強烈的附著力。因此,可藉由吸附,而無須透過額外處理製程即可將解脂酶固定在基板表面。下列實施例顯示出透過吸附固定解脂酶可展現極佳穩定性。
目前已知有許多技術可於基板及酵素間、或於無酵素抗指紋塗佈組成物所形成之塗佈層及酵素間形成共價鍵,以將解脂酶導入基板表面。此技術係使用溴氰(cyanogen bromide)、酸疊氮(acid azide)衍生物、縮合反應劑、重氮偶合作用(diazo coupling)、烷化(alkylation)、及載體交聯。
例如,載體交聯技術係為一種技術,其係使用一雙官能基交聯劑,於基板表面之官能基及基板表面之官能基與解脂酶之官能基間形成共價鍵。由於解脂酶除了胺基與羧基外,更具有多種官能基,若基板表面存在有可與解脂酶這些官能基共價鍵結之官能基,則可使用雙官能基交聯劑輕易形成共價鍵。在此,存在於基板表面之官能基可為基板原先即存在之官能基,或導入於基板表面以形成共價鍵之官能基,或包含在無酵素抗指紋塗佈組成物中之官能基。例如,當基板由塑膠所組成時,則可直接使用基板表面存在之官能基,並可透過電漿或前處理導入預設官能基至表面。當基板由玻璃所組成時,可使用自組性單層薄膜 (SAM)處理並使用矽烷基有機化合物,於表面導入官能基,但本發明並不僅限於此。胺基(amino)、醯胺基(amide)、羧基(carboxyl)、醛基(aldehyde)、羥基(hydroxyl)、或巰基(thiol)等官能基均可用於與酵素形成共價鍵之官能基,而可依照基板種類改變存在於基板表面或導入於基板表面之官能基。
於一實施例中,共價鍵可透過一製程所形成,該製程包括:a)以一含一雙官能基交聯劑之溶劑處理該基板之該表面,該基板之該表面係具有至少一選自由胺基、醯胺基、羧基、醛基、羥基、及巰基所組成之官能基;以及b)將該基板浸於一含該解脂酶之緩衝溶液中。
雙-羧亞醯胺酯(bis-imidoester)、雙-琥珀醯亞胺衍生物(bis-succinimidyl derivative)、雙官能基芳基鹵化物、雙官能基丙烯酸化劑(acrylating agent)、二醛(dialdehyde)、或二酮(diketone)均可作為用以形成共價鍵之雙官能基交聯劑,但本發明不限於此。本發明一實施例中,係使用雙醛(如,戊二醛(glutaraldehyde))導入共價鍵。
於本發明之另一實施例中,共價鍵之形成可透過將一表面具有一環氧基(epoxy)之基板浸於一含解脂酶之緩衝溶液中。再者,當進行上述製程並以熱或UV光處理基板,其中熱及UV光的強度不會造成酵素活性劣化時,酵素可更加堅固的固定在基板上。
使用如上所述之共價鍵固定酵素之方法,將參酌下述實施例而更加詳細說明。
此外,微粒封裝係指將解脂酶限制在其他材料間以固定酵素之方法。於一實施例中,微粒封裝可透過:以一膠體基質、一微膠囊、一中空纖維、或一膜片塗佈該基板之該表面;以及導入該解脂酶來完成。例如,可使用由如硝酸纖維素(cellulose nitrate)或醋酸纖維素之纖維素、聚碳酸酯、尼龍、或如四氟乙烯之氟樹脂所製成之膜片。
使用膠體基質、微膠囊、中空纖維、或膜片塗佈基板,以及導入解脂酶等步驟可同時或依序進行。換言之,基板表面可先塗佈膠體基質、微膠囊、中空纖維、或膜片,而後將基板浸於一含解脂酶之緩衝溶液中。或者,可在於基板上塗佈膠體基質、微膠囊、中空纖維、或膜片後,隨即導入解脂酶。例如,以使用膠體基質之微粒封裝技術而言,可塗佈及固化膠體基質後,而後再吸附酵素;或者當以溶膠-凝膠反應製備溶膠溶液時,可添加酵素以製備一混合溶液,而基板可塗佈此混合溶液,而後進行固化。
於此方法中,較佳使用膠體基質之微粒封裝,以維持且更提升酵素活性。任何可確保機械強度及光學特性之膠體均可使用。例如,基板可先塗佈一由溶膠-凝膠方法製備之塗佈層或一形成雙網狀結構之水膠,而後將酵素包覆於先前的塗佈層中,其中溶膠-凝膠方法係使用四甲氧基矽烷(tetramethoxysilane,TMOS)、四乙氧基矽烷(tetraethoxysilane,TEOS)、或環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷(glycidoxypropyl trimethoxysilane,GPTMS),而水膠之雙 網狀結構則藉由加強聚乙二醇之機械強度以形成。下列實施例將會進一步詳細描述。
PBS緩衝溶液、磷酸鉀緩衝溶液、或磷酸鈉緩衝溶液,均可用於作為上述方法中之含解脂酶之緩衝溶液,但本發明並不限於此。緩衝溶液中解脂酶的含量,係依照欲固定酵素之基板表面覆蓋有單層薄膜所需的量來決定。一般使用之解脂酶係由少量酵素及添加劑所組成,其中添加劑係包括過量之如糊精(dextrin)或乳糖之增量劑(extender)、及穩定劑。因此,酵素的添加量僅依照蛋白質含量來決定。於形成共價鍵的情形下,酵素的添加量可透過計算對應於基板表面官能基之蛋白質量來決定,而於吸附或微粒封裝的情形下,欲添加之酵素量可溶於緩衝溶劑中,且此欲添加之酵素量係為可覆蓋基板表面之蛋白質量之3至10倍。
本發明亦關於一種使用上述方法所製備之含抗指紋膜之基板。如下述實施例所示,此含抗指紋膜之基板,其係依方法將解脂酶固定於基板上,因可將指紋分解而可展現抗指紋特性,且可減少指紋轉印。這樣的抗指紋膜可以單層或多層膜形式,形成在基板表面。於基板表面之抗指紋膜厚度可為20nm至200μm。單層膜塗佈之所形成厚度可為20nm,而可依照塗佈組成物之種類及含量,使塗佈膜厚度增至200μm。然而,塗佈膜的厚度需調整在不破壞基板光學特性之厚度。當抗指紋膜的厚度少於20nm,可能使分解指紋膜組成物之效果受到限制,而當抗指紋膜厚度超過200μm,可能會造成光學穿透率劣化。
為了使指紋組成物分佈效果最佳化,抗指紋膜之表面能可為20至50mN/m。當抗指紋膜表面能低於20mN/m,則無法分散指紋組成物,而當抗指紋膜表面能超過50mN/m,則不易輕易移除指紋。在此,例如,當所塗佈之酵素係為脂肪分解酵素時,塗佈膜之表面能係為30至50mN/m,如此可得到最佳之指紋分散效果。藉此,由於可降低指紋轉印,故此範圍之表面能最佳。
本發明亦關於一種包含此抗指紋膜之基板之產品。本發明之包含抗指紋膜之基板之產品,可為日常生活中常用手接觸的產品,但本發明並不特別限定產品的種類。例如,此產品可包括顯示裝置、電子裝置、或建築材料。顯示裝置可為一選自由液晶顯示裝置(LCD)、有機發光二極體(OLED)、及電漿顯示裝置面板(PDP)。由於現在使用之行動顯示裝置具有觸控式螢幕介面,故若使用本發明實施例之抗指紋膜則可大幅提升產品之外觀美感。
本發明並不特別限定將抗指紋膜形成於產品之方法。換言之,解脂酶可直接塗佈在如顯示裝置產品之基板表面,或可將塗佈有解脂酶之薄膜型基板貼附在產品表面。
接下來,將伴隨實施例及比較例詳細說明本發明。然而,本發明並不僅限於這些實施例。
[實施例] <實施例1>使用共價鍵固定解脂酶
使用下述方法,將脂肪分解酵素塗佈於玻璃基板上。
將表面塗佈有胺基烷基矽烷之載玻片,以10%之戊二醛處理2小時。而後,使用蒸餾水稍微清洗載玻片,再將載玻片浸於含有100mg/ml脂肪分解酵素(天野酶(Amano Enzyme);Lipase PS“Amano”SD;衍生自Burkholderia cepacia)之PBS緩衝溶液中,而後置於室溫下24小時。將固定脂肪分解酵素之載玻片以流動的蒸餾水充分清洗,並在溫和的搖動下以蒸餾水清洗40分中。而後,取出載玻片,於室溫下以加壓氮氣吹氣乾燥。最後,則可製得塗佈有脂肪分解酵素之玻璃基板。
<實驗例1>檢測抗指紋膜減少指紋轉印之減少程度
取三片如實施例1所製備之固定有脂肪分解酵素之載玻片,轉印指紋後,量測試片依時間之霧度值。實驗結果如圖1所示。在此,用以比較之控制組玻璃(不含脂肪分解酵素),係為經胺基烷基矽烷及戊二醛處理之載玻片。
於轉印指紋後隨即測量霧度值(0hr),則發現相較於控制組玻璃,塗佈有脂肪分解酵素之基板霧度值較低,此結果顯示脂肪不易沾附在塗佈有脂肪分解酵素之基板上。同時,隨著時間過去,因附著在塗佈有脂肪分解酵素之基板上之指紋分解,故霧度值降低。
如上所述,於轉印指紋於塗佈有脂肪分解酵素之基板之實驗中,使用顯微鏡測量表面並測量霧度值,可發現相較於不含有脂肪分解酵素之表面,固定有脂肪分解酵素之表面其轉印指紋的程度較低。
<實驗例2>使用環氧基固定解脂酶
在此,係使用環氧基之固定方法,取代實驗例1之使用化學共價鍵塗佈脂肪分解酵素之方法。將經環氧基處理之載玻片(高級玻璃ES(superchip glass ES);環氧基矽烷載玻片(slide epoxy silane);nuncTM)浸於一含100mg/ml脂肪分解酵素之磷酸鈉緩衝溶液,並置於使室溫4小時。而後,將載玻片於50至55℃之烘箱中反應30分鐘。以蒸餾水沖洗載玻片15至20次,並以足夠量的蒸餾水清洗載玻片三次,每次20分鐘。最後,於室溫下以加壓氮氣吹乾載玻片。
<實驗例3>使用吸附法固定水解酶至膠體基質
使用膠體基質吸附水解酶,以塗佈在基板表面。於此方法中,膠體基質係用於穩定酵素,使酵素效率提升,且可使用多種膠體基質同時進行官能基塗佈。酵素可以單獨脂肪分解酵素使用,或將脂肪分解酵素與澱粉酶、或將脂肪分解酵素與蛋白酶共同使用。首先,依照韓國專利公開第1998-0002185號實施例1,使用矽氧烷(siloxane)基組成物將膠體基質塗佈在載玻片上。將所製得之膠體基質載玻片浸於含100mg/ml酵素之PBS緩衝液中,並置於室溫24小時。取出載玻片,並以與實施例2相同方法清洗,最後於室溫下以加壓氮氣吹亁載玻片。
<實驗例2>評估抗指紋膜之解脂效果
為了確認使用如實施例1及2所述之相同化學共價鍵法塗佈脂肪分解酵素,均可達到分解玻璃上指紋的效果,本實驗例係使用指紋之主要成份,即三酸甘油酯進行試驗。 三酸甘油酯係為一三油酸甘油酯(triolein),將其塗佈在基板表面,並至於室溫24小時。而後,進行1H-NMR分析,以確認三油酸甘油酯是否分解。如圖2及3之結果顯示,從塗佈有脂肪分解酵素之載玻片上,從參考線(三油酸甘油酯)起未觀察到酸的波峰。
<實驗例3>評估抗指紋膜之解脂效果
為了確認使用如實施例3所述之塗佈脂肪分解酵素,可達到分解玻璃上指紋的效果,本實驗例係使用指紋之主要成份,即三酸甘油酯進行試驗。而後,進行1H-NMR分析,以確認三油酸甘油酯是否分解。如圖4及5之結果顯示,從塗佈有脂肪分解酵素之載玻片上,從參考線(三油酸甘油酯)起未觀察到酸的波峰。
<實驗例4>評估抗指紋膜之指紋分解效果
為了確認使用如實施例3所述之使用膠體基質塗佈脂肪分解酵素,可達到分解玻璃上指紋的效果,係測量霧度值以檢測從手掌轉印之指紋消失程度。使用溫度及溼度測量儀,測量於不同溫度及溼度條件下,觀察48至96小時隨著時間之霧度變化。結果係顯示於圖6及7中。圖中顯示霧度值(ΔH)隨時間的變化,且將指紋轉印所造成之霧度值(ΔH)設為100%。相較於以與實施例3相同之方法所製得之不含有脂肪分解酵素之試片(以”w/o脂肪分解酵素”表示)表示,可明顯觀察到經脂肪分解酵素處理之試片(以”w/脂肪分解酵素”表示)霧度明顯降低。
<實驗例5>評估抗指紋膜之指紋分解效果
在此,係使用擦拭測試以評估以吸附方式所固定之解脂酶是否穩定固定在玻璃上,在此係經由如實施例3所述之方法,以膠體基質一同塗佈脂肪分解酵素。
將玻璃試片以1kg重壓力重壓,並使用無塵纖維擦拭玻璃試片100次,以製備擦拭試片。實際指紋係轉印至試片及未擦拭之試片上,而後透過測量霧度以評估指紋消失程度。使用溫度及溼度測量儀,測量於溫度50℃及溼度30%條件下,觀察48小時隨著時間之霧度變化。結果係如圖8所示。圖中顯示ΔH隨時間的變化,且將指紋轉印所造成之霧度值(ΔH)設為100%。相較於以與實施例3相同之方法所製得且未經擦拭之試片(以”未擦拭”表示),經擦拭之試片(以”擦拭100次”表示)之效過並未減低。
<實驗例6>評估抗指紋膜之指紋分解效果
本實施例係評估,使用如實施例3所述之使用膠體基質塗佈脂肪分解酵素、或添加除了脂肪分解酵素外之其他水解酵素,何者分解多種污染物之效果最佳。製備三種試片,包括單獨添加脂肪分解酵素所製得之試片、添加澱粉酶及脂肪分解酵素所製得之試片、以及添加蛋白酶及脂肪分解酵素所製得之試片,並透過測量霧度值以評估各污染物之移除程度。將油及澱粉混合所製得之污染物轉印,而後觀察隨時間之霧度改變。結果係如圖9所示。將油及蛋白混合所製得之污染物轉印,而後觀察隨時間之霧度改變。結果係如圖10所示。由上述兩個實驗結果顯示,相較於僅添加 脂肪分解酵素,將脂肪分解酵素與另一水解酶一同使用可提升移除混合污染物之效果。
由此結果顯示,本發明可透過相對簡單的方法,透過於基板表面塗佈酵素,可達到抗指紋效果,藉此,可應用在各種需要抗指紋特性之基板上。
此外,使用本發明之抗指紋膜,亦可減少因指紋所導致之顯示裝置、電子裝置外觀、及建築材料之污染。
本發明僅使用特定實施例加以描述,應了解的是,本發明所主張之權利範圍自應以申請專利範圍所述為準,在不偏離本發明之精神及範圍下,熟知本發明之技術領域者可作各種變更。
上述實施例僅係為了方便說明而舉例而已,本發明所主張之權利範圍自應以申請專利範圍所述為準,而非僅限於上述實施例。
伴隨本發明之實施例及圖式,熟知本技術領域者均可更加了解本發明之上述及其他目的、特徵及優點。
圖1係實施例1之含抗指紋膜之基板經轉印指紋後之霧度值。
圖2及3係實施例1及2之含抗指紋膜之基板,經主要指紋組成物轉印後以NMR光譜測量分解效果之光譜圖。
圖4及5係實施例3之含抗指紋膜之基板,經主要指紋組成物轉印後以NMR光譜測量分解效果之光譜圖。
圖6及7係實施例3之含抗指紋膜之基板,經實際指紋轉印後以霧度計測量指紋消失之結果圖。
圖8係實施例3之已進行擦拭試驗之含抗指紋膜之基板,經實際指紋轉印後以霧度計測量指紋消失之結果圖。
圖9及10係實施例3之含抗指紋膜之基板,經塗佈混合組成物後以霧度計測量指紋消失之結果圖。

Claims (13)

  1. 一種主要由一解脂酶所組成之組成物之用途,其係用於形成抗指紋膜,其中,使用該包含解脂酶之組成物處理一基板,其中,該解脂酶係固定於該基板之一表面,該解脂酶係為一脂肪分解酵素(lipase),該基板係選自由塑膠或玻璃,以及,該基板係用於顯示裝置、電子裝置、或建築材料。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之用途,其中該組成物更包括至少一選自由蛋白酶(protease)、澱粉酶(amylase)、纖維素酶(cellulose)、及乳糖酶(lactase)所組成之群組之酵素。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之用途,其中該塑膠係為至少一選自由聚酯(polyester)、聚丙烯(polypropylene)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylenenaphthalate)、聚碳酸酯(polycarbonate)、三乙醯纖維素(triacetylcellulose)、烯烴共聚物(olefin copolymers)、及聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate)所組成之群組之聚合物。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之用途,其中該解脂酶係透過吸附、共價鍵、或微粒封裝(encapsulation)固定於該基板之一表面。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之用途,其中該共價鍵係透過一製程所形成,該製程包括:以一含一雙官能基交 聯劑之溶劑處理該基板之該表面,該基板之該表面係具有至少一選自由胺基(amino)、醯胺基(amide)、羧基(carboxyl)、醛基(aldehyde)、羥基(hydroxyl)、及巰基(thiol)所組成之官能基;以及將該基板浸於一含該解脂酶之緩衝溶液中。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之用途,其中該共價鍵透過一製程所形成,該製程包括:將一表面具有一環氧基(epoxy)之基板浸於一含該酶之緩衝溶液中。
  7. 如申請專利範圍第5項或第6項所述之用途,其中該緩衝溶液中之該解脂酶之濃度係為0.1-800mg/ml。
  8. 如申請專利範圍第4項所述之用途,其中該微粒封裝係透過:以一膠體基質、一微膠囊、一中空纖維、或一膜片塗佈該基板之該表面;以及導入該解脂酶。
  9. 一種含抗指紋膜之基板,其形成係藉由:使用主要由一解脂酶所組成之組成物處理該基板,其中,該解脂酶係固定於該基板之一表面,該解脂酶係為一脂肪分解酵素(lipase),及該基板係選自由塑膠或玻璃。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之基板,其中該抗指紋膜係形成在該基板之一表面,且該抗指紋膜之厚度係約20nm至200μm。
  11. 如申請專利範圍第9項所述之基板,其中該組成物更包括至少一選自由蛋白酶(protease)、澱粉酶(amylase)、 纖維素酶(cellulose)、及乳糖酶(lactase)所組成之群組之酵素。
  12. 如申請專利範圍第9項所述之基板,其中該塑膠係包括:至少一選自由聚酯(polyester)、聚丙烯(polypropylene)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylenenaphthalate)、聚碳酸酯(polycarbonate)、三乙醯纖維素(triacetylcellulose)、烯烴共聚物(olefin copolymers)、及聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate)所組成之群組之聚合物。
  13. 一種產品,包括如申請專利範圍第9項至第12項之任一項所述之基板,其中,該產品係為顯示裝置、電子裝置、或建築材料。
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