TWM314092U - Magnetism grinding and polishing apparatus - Google Patents

Description

M314092 八、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本創作係提供一插^丨扣 ’、種利用磁力驅動磨粒拋光之技術，尤 指其技術上，提供一插卢 ，、種在復與旋轉運動同時進行的磁力 磨抛光，並隨時補^新磨粒者。 【先前技術】 在傳統研磨加工中， 數it制# + & 、&或圓柱的拋光，往往都需要 数逼製耘才能完成 守甚久，另外電解拋光雖然可以快 速達到拋光的效果，作 j M决 成污染。 仁口电解液回收不易，容易對環境造 是以’針對上述習知姓椹％六+ -種更具理想實用性…所存在之問題點，如何開發 亦係相關孝者項钫+ 褥貝4費者所殷切企盼， a菜者肩努力研發突破之目標及方向。 有鑑於此，創作 命 人本於夕年從事相關產品之萝乎門芬 與設計經驗，針對上述 《衣w開發 終得一確具實用性之本創作。 l、杳填㈣後’ f新型内容】 :中’圓管或 耗時甚久； 但因電解液 社欲解決之技術問題點：習知之研磨加 的拋光，往往都需要數道製程才能完成 外電解拋光雖铁可 …快速達到拋光的效果 收不易’谷易對環境造成污染。 解決問題之技術特點：本 裝置，係包括一甚4 Η乍h I、一種磁力 描 磁場的控制系統、-旋… 構、-往復運動控制機構及 疋轉運動控制. 研磨液補充系统，其中該2 5 M314092 生磁場的控制系統，產生加工用的磁場 該旋轉運動控制機構，㈣並驅動往復 制件及夾制之加工件’ i生需求的旋轉 控制機構，控制加工件於磁場位置的往 磨液補m補充與更新拋光時磨粒 往復與旋轉運動同時進行的磁力研磨拋 新磨粒，使拋光效果更佳者。 • 對照先前技術之功效：提供一種磁 T性磨料放人卫件與磁極所形成的磁場 昜的作用下，會沿磁力線方向，排列形 此％〇 11磁力刷因磁力的作用，因此會 研磨壓力，而後藉由工件與磁極的相對 ，研磨拋光加工。磁力研磨是一種撓性研 私中，不僅無傳統研磨設備的振動或顫 不雙工件的幾何外形影響，通常只需短 籲表面粗度為〇.25μηι (Ra)的工件表面， 、下 同日寸加工表面無變質層，亦無微 工過程所產生的撓性磁力刷，因為可以 ^形’因此很適合對不規則曲面進行拋 磁力線具有優良的穿透能力，對於傳統 、C域’都可藉助磁力研磨進行抛光加 方式，不但加工速度快，而且磨料回收 的使用。 有關本創作所採用之技術、手段及 以驅動磨粒抛光， 運動控制機構之夾 運動，該往復運動 復運動頻率，該研 的損耗，藉此達到 光，並隨時補充更 力研磨抛光，是將 中，磁性磨粒在磁 成一束撓性磁力刷 在工件表面上產生 運動，對工件進行 磨拋光法，加工過 振現象，而且幾乎 短幾分鐘，就可將 f勉光至 Ο.ίμιη (Ra) 裂紋產生。而且加 隨著工件的表面而 光加工。另外由於 研磨無法進入加工 工。所以此種拋光 谷易，很適合業界 其功效，茲舉一較 6 M314092 佳實施例並配人同— 口圖式评細說明於后，相信本創作上述之目 的、構造及特糌，〆叮丄 ^ S可由之得一深入而具體的瞭解。 【實施方式]

為了要"T f至！均勻且細緻的抛光表面，磁力研磨設備除 了可^拴制磁％強度外，還必須可以產生複雜的運動路徑 以j除4寸疋研磨方向對拋光精度所造成的影響。另外為 了 k冋研磨效率，研磨液必須能適時的加入研磨區域，以 補充彳貝耗的磨撕。炎pq M __

多閱乐一圖所示，本創作磁力研磨拋光 裝置包含： 一產生磁場的控制系統（^ 一旋轉運動控制機構（4 ) 一往復運動控制機構（3 ) 一研磨液補充系統（2 )。

其中該產生磁場的控制 驅動磨粒拋光，該旋轉運動 往復運動控制機構（3 )之 需求的旋轉運動，該往復運 件於磁場位置的往復運動頻 ，補充與更新拋光時磨粒的 動進行磁力研磨拋光，並隨 效果者。 系統，產生加工用的磁場，以 控制機構（4 )，控制並驅動 夾制件及夾制之加工件，產生 動控制機構（3 )，控制加工 率’該研磨液補充系統（2 ) 知耗’據以達成往復兼旋轉運 補充更新磨粒，達最佳拋光 個完整說明如下 茲再將這些機構或控制系統作 (一）產生磁場的控制系統（1 )· 該產生磁場的控制系統（ (參閱第二圖所示）， 7 M314092 係由一組激石兹線圈、,，公、 應器供應電碌鐵♦、、r知、、且成的弘磁鐵，主要是利用電源供 整個系統可以八& 生加工時所須要的感應磁場。 乃為石兹極f 1 1 1 組（1 3 )、料 丄）、磁極座（1 2 )、線圈 )及固定結構（丄1 4)、螺絲（1 7)、墊片（工8 組（16)等組合5 a)之線圈底座（15)、線圈支座 於磁極座（1 2 )成’、中磁極（1 1 )是以螺絲鎖合 圈（1 3 )的軸心上’然後再將磁極座（1 2 )固定在線 )結合固定於線圈广“而、、泉圈（1 3 )則是與鐵心（1 4 合於線圈支座（^氏座（1 5 )，最終再將整個線圈組鎖 必須依照工件的吉”上。在這些元件令，磁極（1 1 ) 你閂尬 傻來設計，安裝時應注意工作高度及工 作間隙；而線圈紐r 乂 、、、（1 3 )是兩個使用銅線纏繞而成圓形 綠圈，為控制雷 ,^ - 兹場的重要組件，所以繞線的多募也疋 慮的重點。 (二）往復運動控制機構（3 ): ，包 ，而偏心 (3 2 )和（ 、滑動軸承座 7 ) ' )、平 的轴心偏量所 圖所示 该往復運動控制機構（3 )(參閱第 動力元件（3 1 3 )及偏心運動構件（3 a 運動構、件（3 a )由軸承蓋（3 1 )、軸承, 3 1 0 )、滑軌（3 3 )、轉動軸（3 4 ) (35)、轉動軸套筒（3 6 )、夾頭固定座 丁、d 8 )、固定座（3 9 )、偏心軸（3 、ύ丄2 )、夾制件（3 1 4 )組成。 往復運動的行程由偏心轴（3 1 1 j的于叫 才工制’往復運動頻率可由變頻控制器（圖中未示）調碎 8 .M314092 用動力元件（3 1 3) 軸（3 1 1 )驅動夾持 制件（3 1 4 )在線性 達° 或多爪夾頭。 參閱第四圖所示） )、傳動軸（4 2 )、 )、傳動輪（4 5 )、 7 )及動力構件（4 b 4 9)、螺絲（4 1 〇 4 )係將動力元件（4 皮帶輪、主軸及聯軸器 )帶動工件做旋轉運動 裔（圖中未示）調整， 中未示）上，以控制研 包 控制加工時的往復頻率。 干勳力是利 帶動偏心軸（3 1 1 V ^ 1 )，再由偏心 加工件的夾制件（1 、 d 1 4 ) ’使失 滑軌（3 3 )上作往復運動。 所述動力元件（313)為馬 _所述爽制件（314)為w (二）旋轉運動控制機構（4 ) · 該旋轉運動控制機構（4 )( 含傳動構#(“）之平鍵（41 軸承座（4 3 )、滾動轴承（4 4 傳動皮帶（4 6 )、滑動轴套（4 )之動力元件（4 8 )、固定座（ )所組成’該旋轉運動控制機構（ 8 )的動力經由傳動構件（4 a ) 等的傳動，而促使夾制件（3丄4 。此機構。旋轉速度是由轉速控制 並由轉速測定器顯示於顯示器（圖 磨加工時的迴轉轉速。 所述傳動構件（4 a)亦可為皮帶、正時皮帶、皮帶 輪，鏈條、鏈輪，齒輪，軸等。 所述動力元件（4 8 )為馬達。 (四）研磨液補充系統（2 ) ·· 該研磨液補充系統（2 )(參閱第五圖所示），包含 蠕動幫浦（2 1 )、研磨液攪拌機（2 2 )、裝研磨液的 9 M314092 容器（23)及輪送管 磨液補充系統（2 )最 充與更新。主要是靠蠕 中的研磨液透過輪送管 所述輸送管（2 5 前文係針對本創作 進行具體之說明；惟熟 本創作之精神與原則下 k更與修改，皆應涵蓋 中。 【圖式簡單說明】 第一圖 第二圖 第三圖 第四圖 第五_ 係本創作之立 係本創作之產 係本創作之往 係本創作之旋 係本創作之研 主要元件符號說明 1 )產生磁場的控制 12)磁極座 1 4 )鐵心 1 5 )線圈底座 1 7 )螺絲 2 )研磨液補充系統 2 2 )研磨液攪拌機 (24) 、 （25)等所組成。研 主要是要使流失的磨科能夠得到補 動幫浦（2 1 )，將κ 將各器（2 3 ) (2 5)’抽送到加工區域中。 )為橡膠軟管。 之車乂佳貫施例為太名t , 也例'本創作之技術特徵 悉此項技術之人士，先 备可在不脫離 對本創作進行變更與修&，而該等 於如下申請專利範圍所界定之範· 體不意圖。 生磁場的控制系統立體分解圖。 復運動控制機構立體分解圖。 轉運動控制機構立體分解圖。 磨液補充系統立體分解圖。 系統 8 磁極 線圈組 )固定結構 線圈支座組 墊片 蠕動幫浦 容器 10 .M314092 (2 4 )輸送管 ( 3 )往復運動控制機構 ；(311)偏心軸 (3 1 3 )動力元件 (3 1 4 )夾制件 (3 3 )滑軌 (3 5 )滑動軸承座 (3 7 )夾頭固定座 • ( 3 9 )固定座 (4 1 )平鍵 (4 3 )軸承座 • ( 4 5 )傳動輪 ‘ (4 7 )滑動轴套 (4 9 )固定座 (4 a )傳動構件 (2 5 )輸送管 (3 1 )軸承蓋 (3 1 2 )平鍵 (3 a )偏心運動構件 (32) ( 3 1 0 )軸承 (3 4 )轉動軸 (36)轉動軸套筒 (3 8 )螺絲 (4 )旋轉運動控制機構 (4 2 )傳動軸 (4 4 )滚動轴承 (4 6 )傳動皮帶 (4 8 )動力元件 (4 1 0 )螺絲 (4 b )動力構件 11

Claims (1)

1. .M314092 九、申清專利範圍： 1 · 一種磁力研磨拋光裝置，係為一種以往復兼旋轉 運動進行磁力研磨拋光的加工裝置，包括·· 一產生磁場的控制系統，該產生磁場的控制系統產生 加工用的磁場以驅動磨粒拋光； 一旋轉運動控制機構，該旋轉運動控制機構，控制並 驅動往復運動控制機構之夾制件及夾制之加工件，產生需 求的旋轉運動； 往復運動控制機構，該往復運動控制機構，控制加 工件於磁場位置的往復運動頻率；及， —研磨液補充系統，該研磨液補充系統，補充與更新 撤光時磨粒的損耗。

   ，·如申請專利範圍第丄項所述之磁力研磨拋光裝置 其中该產生磁場的控制系統包含磁極、磁極座、線圈組 及、、'泉圈支座組’磁極結合於磁極座，肖將磁極座固定在線 圈的鐵心上，而線圈則是與鐵心結合固定於固定結構。 σ明利範圍第2項所述之磁力研磨拋光裝置 ’其中該磁極結合於磁極座，其結合係以螺絲鎖合。 ，/ · μ請專利範圍第2項所述之磁力研磨拋光裝置 -中D亥固疋結構係包括線圈底座與線圈支座，線圈則是 與鐵心結合於固定結構 ^ 苒之線圈底座，再整個線圈組鎖合於 固定結構之線圈支座上。 5 ·如申請專利範圚笙彳 靶kj弟1項所述之磁力研磨拋光裝置 ’其中該旋轉運動控制嫵塞0 制&構疋由動力構件之動力元件帶動 12 M314092 傳動構件，再由傳動構件傳動加工件旋轉。 6 ·如申請專利範圍第5項所述之磁力研 ，其中該動力構件為動力元件、固定座、及螺 7 ·如申％專利範圍第6項所述之磁力研 ’其中該動力元件為馬達。 8 ·如申請專利範圍第5項所述之磁力研 ，其中該傳動構件為傳動軸、滾動軸承、傳動 帶及滑動軸套組成。 9 ·如申請專利範圍第丄項所述之磁力研 ，其中該往復運動控制機構是由動力元件及偏 與夾制件組成，動力元件帶動偏心運動構件以 運動。 υ 置，其中該動力元件 1 1 ·如申請專 置，其中該偏心運動 承座、轉動軸套筒、 1 2 ·如申請專 置’其中該夾制件為 1 3 ·如申請專 置，其中該研磨液補 、裝研磨液的容器及 ’將容器中的研磨液 1 4 ·如申請專 磨拋光裝置 絲所組成。 磨拋光裝置 磨拋光裝置 輪、傳動皮 磨拋光裝置 心運動構件 線性作往復 研磨拋光裝 研磨拋光裝 轴、滑動轴 心轴〇 研磨拋光裝 研磨拋光裝 磨液攪拌機 以蠕動幫浦 區域中。 力研磨拋光 第9項所述之磁力 〇 第9項所述之磁力 軸承、滑執、轉動 定座、固定座及偏 第9項所述之磁力 第1項所述之磁力 包含蠕動幫浦、研 ，研磨液補充系統 达管，抽送到加工 第1 3項所述之磁 為馬達 利範圍 構件為 夾頭固 利範圍 夾頭。 利範圍 充系統 輸管 透過輪 利範圍 13 M314092 裝置，其中該輸送管為橡膠軟管。 十、圖式： 如次頁

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