WO1989005287A1

WO1989005287A1 - Alcool hexafluoroneopentylique, ses derives, polymeres fluores et leur utilisation

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Publication number: WO1989005287A1
Application number: PCT/JP1988/001228
Authority: WO
Inventors: Hiroshi Inukai; Takashi Yasuhara; Takahiro Kitahara
Original assignee: Daikin Industries Ltd
Current assignee: Daikin Industries Ltd
Priority date: 1987-12-04
Filing date: 1988-12-05
Publication date: 1989-06-15
Anticipated expiration: 1990-06-04
Also published as: EP0364587B1; DE3879492T2; EP0364587A1; DE3879492D1; US5116544A; EP0364587A4

Description

明細害

へキサフルォロネオペンチルアルコール、その誘導体、含フッ素ポリマー及びその用途

産業上の利用分野

本発明は、新規なへキサフルォロネオペンチルアルコ ―ル、その誘導体であるへキサフルォロネオペンチル (メタ）アタリレート、該誘導体から得られる含フッ素ポリマー及びその光学材料としての用途に関する。

従来技術とその問題点

従来、透明性に優れたガラス又はプラスチックにより芯材を形成し、その材よりも屈折率の低いプラスチックを鞘材とした同心状の芯一鞘構造により複合鐵錐を構成し、その織維の一端に入射した光を鐵維の長さ方向に沿って内部で全反射させて伝達きせる光学織維はよく知られている。

プラスチック系鞘材として、これまで種々のポリマーが提案されているが、軟化温度が高くかづ屈折率が低いという光学織維鞘材として要求きれる特性を充分に満足するものは少ない。その中で前記の特性を満足する光学材料として特開昭 4 9 - 1 2 9 5 4 5号公報にはパーフルォロ t 一プチルメタクリレートが記載きれている。

しかしながら、バーフルォロ t ーブチルメタクリレートは、可撓性が悪く、しかも S材への密着性が劣るという欠点を有している。

本発明の目的は、前記欠点に鑑み軟化蘧度が高くかつ屈折率が低いという光学繊維鞘材として要求される特性を充分に満足するとともに、可撓性に優れ、しかも： &材への密着性が良い重合侔を与える新規なモノマー化合物及びその材料を提供することである。

問題点を篛決するための手段

本発明者は、新規なモノマー化合物であるへキサフルォロネオペンチル（メタ）ァクリレート重合体が特異的に高いガラス転移温度（以下 T gと称する）を有し.、屈折率が低く、可撓性に優れ、しかも芯材への密着性が良いという知見及び前記へキサプルォロネオペンチル (メタ）ァクリレートが新規なへキサフルォロネオペンチルアルコールを原料として容易に合成することができるという知見を得た。本発明は、この様な新知見に基づき完成されたものである。

すなわち、本発明は式：

C F₃

C F_g C C H₂ O H

C H_S で示されるへキサフルォロネオペンチルアルコール及び —般式：

X

CH₂ =C

CF₃

COOCH2 CCH₃ C F3

(式中、 Xは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はメチル基を表す。）で示されるへキサフルォロネオペンチル（メタ）ァクリレートを提供する I 本発明は、更に、一般式

X

CF₃

I

COOCH2 CCH₃

I

(式中 Xは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はメチル基を表す。〉で示される構造単位を有する含フツ素ポリマーおよび記含フッ素ポリマーからなる光学材料を提供する。

本発明のへキサフルォロネオペンチルアルコールは次の製法.により得ることができる。まず、次式に示すようにオタタフルォロイソブテンのメタノール付加物（a) を腺 HF反応することにより下記ォレフィン（b〉を得、これを転移反応により下記漦フルオラィド（c) を得、これを還元することによって得ることができる。

-HF

(CF₃ ) a CHCF₂ OCHs CCFs〉 2 C = CFOCH₃

(a) (b)

CF₃ CF₃

i

CH₃ CCOF CH₃ CCH₂ OH

I

CF₃ CF₃ (c) (d)

なお、上記の転移反応は適当な溶媒の存在下で行われる。好ましい溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド等が挙げられる。溶媒の俊用量は上記ォレフイン（b〉に対して 0， 01〜 10倍量、好ましくは 0, 1〜 2倍量である。溶媒の量が少ないと転移速度が逞く、量が多いと廃液処理が面倒なうえ、反応スケールが大きい割に生産量が小さくなる。反応温度は室温〜 1.00でが好ましい。

また、上記の（c〉から（d) への還元は有機溶媒中で還元剤を使用して行われる。有機溶剤としては、例えばジヱチルヱ一テル、ジグライム、テトラヒドロプラン等が挙げられる。還元剤としては、 L i A 2 H₄ 、

N a B H₄ 等が使翔きれる。有機溶剤の使用量は上記酸フルオラィド（c〉に对して 1〜 10倍量、還元剤の使用量は 0, 倍モルである。反応温度は 40〜

150でが好ましい。なお、還元は H₂ を使用して直接行つてもよい 0

得られたへキサフル才ロネ才ペンチルアルコール（d) の精製は蒸溜によって行うのが好ましい。本発明のへキサブルォ口ネオペンチルアルコールは常温で無色の針状結晶である。

次に発明のへキサプルォロネオペンチル（メタ）ァクリレートの製法について説明する。へキサマルォロネォペンチル（メタ）ァクリレートは上記製法によって得られたへキサフルォロネ才ペンチルアルコールを原料 f匕合物として、これと（1) ビリジン、トリェチルァミン等の有機塩基類を助酸剤として（メタ）アクリル酸ハラィドとの脱ハロゲン化水素反応を行う、（2) 五酸化リン、硫酸等の脱水剤を使用した（メタ〉アクリル酸との脱水反応を行う、（3〉メチル（メタ〉アタリレートとのエステル交換反応を行う等によって得ることができる。

上記（1 ) 〜（3) の製法にうち、操作性及び収率の点から.は、（1) 及び（2) の製法がより好ましい。これらの反応において、必要に応じ、ベンゼン、トルエン、ジメチルホルムアミド等の溶剤を用いてもよい。上記

( 1) の製法において助駿剤の使用量は 0, 1〜2倍そルであり、好ましい反応温度は 0〜 100でである。上記（2 ) の製法において脱水剤の使用量は 0. 7〜 5倍モルであり、好ましい反応温度は 50〜： t 00でである。

なお、重合しやすいモノマー化合物を製造する場合は重合禁止剤の存在下で反応を行う。重合禁止剤としてはヒドロキノン、ヒドロキノン乇ノメチルエーテル、トリ tert—ブチルフエノール、 tert—プチルカテコール、フエノチアジン等のラジカル重合を禁止するものであれば特に限定されない。

本発明のへキサフルォロネオペンチル（メタ〉ァクリレートは常温で無色透明の液体である。

本発明の含フッ素ポリマーは上記一般式（ I ) で示きれる搆造単位を有するホモポリマーはもちろんのこと上記一般式（ I ) で示きれる構造単位を 10重量％以上佘有するコポリマーをも含むものである。

好ましいコポリマーとしては、上記構造式（ ί ) に加えて一般式：

6CH₂ -C) CH)

COOR²

(式中、： ¹ は水素原子、フッ素原子又はメチル基を、 R ² は水素原子、低級アルキル基又はフルォロアルキル基を表す。）

で示される構造単位を 90〜0, 1重量％、好ましくはケ 0〜.0. 1重量％、きらに好ましくは 50〜 0. 1重量％の割合で含有するものが挙げられる。

なお、上記一般式（ I〉において Xは好ましくはフッ素原子又はメチル基である。また、上記一般式（Π〉において R 1 は好ましくは.フッ素原子又はメチル基であり ,

R ² は好ましくは一 C H₃ 、一 C H2 C H ₃ 、 C F ₃ 、

- C H ₂ C P ₂ C F 2 H、 - C H₂ C F ₂ C F H C F ₃ C H ₂ C H ₂ C 8 F IT 等のフルォロアルキル ¾である。 R ² はさらに一 C H₂ C H₂ O H、一 C H₂ CH₂ CH₂ S i (0 C H₃ ) s 、一 H、一 C H₂ C H C H等の官能基を含んでもよい。

さらに、本発明のポリマーは本発明のポリマーの特性を担なわない範囲でその他のモノマー、例えばスチレン、塩化ビュル等を ¾重合することができる。

本発明の含フッ素ポリマーは、前記のへキサフルォロネオべ.ンチル（メタ）アタリレートを単独重合させるか又は他のモノマーと共重合させることにより得られる。

本発明の含フッ素ポリマーを製造する重合形式は、魂扰、菝^、懸蜀、乳化重合等、一般に採用されている形式が採用される。 ·

本発明の含フッ素ポリマ一を製造する際に用いられる重合開始剤としては、塊状、液状および懸濁重合においてはァゾビスィソプチロニトリル、ィソプチリルパーォキシド、才クタノィルパーォキシド、ジ一イソ一プロピルパーォキシジ-カーネート、または式

CC (C F 2 C F C J2) 2 C F ₂ C O O〕 ₂ 、

〔X (C F₂ C F₂ 〉 _n C 00〕 2 および

〔X (C F 2 C F 2 ) _n C 003 2 (式中、 Xは H、 F 又は C J2、 πは 1〜 10) で表きれる含フッ素有機遜酸化物等が好ましく用いられる。乳化重合においては、遏硫酸塩、例えば過硫酸ァンモユウム、遏硫酸力リウムまたはこれら過硫酸塩等の酸化剤、亜硫酸ソーダ等の還元剤および硫酸鉄（Π ) 等の遷移金属の塩類のレドックス開始剤が用いられる。

前記の塊状、液状または懸蜀重合において、本発明の新規含フッ素ポリマーの熱分解温度の向上や分子量分布の調整の目的で、メルカブタン類等の連鎮移動剤を^いることが好ましい？連鎖移動剤を用いる場合の連鎖移動剤の添加割合は、モノマー 1 0 0重量部に対し通常

0 . 0 1〜 1重量部である。

前記の溶液および懸溺重合で本発明の新規含フッ素ポリマーを製造する際に用いられる溶液としては、フロン一 1 2、フロン一 1 1 3、フロン一 1 1 4、フロシ一

C 3 1 8等フッ素系溶液または酢酸プチル、メチルイソプチルケトン等炭化水素系溶媒が代表例として挙げられる 0

重合温度は通常 0〜 1 0 0での範囲で上記重合開始剤の分解溫度との閼係で決められるが、多くの場合 1 0〜 8 0 の範囲が好ましく採用される。

重合圧力は 0〜 5 0 kg / ^ゲージの範囲が採用される。上記重合反応で調製することができる本発明の含フッ素ポリマーの分子量は、通常 1万〜 5 0 0万程度（ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィーによる）、或いは _1Q

M E Kによる 3 5ででの〔？？〕として 0 , 1 5〜 3 , 0 程度、屈折率（n _d ²⁵〉は、； L . 3 7〜： I , 4 5、ガラス転移温度は 1 2 0〜 1 6 0でである。

本発明の新規含フッ素ポリマーは、適常光学鐵 ϋのプラスチック系鞘材として利用されているフルォロアルキルメ夕クリレートポリマーに比べガラス転移温度が高いので、比較的高温下、例えば従来のブラスチック系鞘材では使用できなかった車のエンジンルームにおいても使用することができる。また本発明のポリマーは、分解温度が高いので、これを溶融紡糸して光学鐵維を製遣するに際して許容される加熱温度幅が大きく、該ポリマ一を溶融する為の温度調節が容易になるとい利点も有している。

きらに、本発明の含フッ素ポリマーは、低い屈折率、高い透明牷、良好な可撓性を有し、優れた光学材料となるものである。

光学材料の用途としては、上記先学繊維プラスチック鞘材の他に反射防止コーティング剤が挙げられる。すなわち、プラスチックやガラスの表面に本発明のポリマーをコ一ティングすることにより、ギラツキや乱反射を防止することができる。

本発明の含フッ素ポリマーは、光学材料の用途の他、さらに有機ガラス、耐候性塗料添加剤等としても、使用できる。

実施例

以下に実施例及び比較例を示し、本発明の特徵とするところをより一層明らかにする。

実施例 1

温度計、滴下ロート、撹捽機、還流冷却器を備えた 1 J2のガラス製 4つ口フラスコに、テトラグライム

133. 31 (0, 6 m 0 および水素化ホウ索ナトリウム 15. 1 s (0. 4 m 0 J3 ) を入れ、温度を 80でに保つ。この混合物中に 2, ： —ビス（トリフルォ口'）プロピオ'ン酸フルオラィド 106, 04 g (0, 5 m 0 ^ ) を 2時間半で癍下する。滴下終了後 80でで 3時間撹拌後 20でに冷却する。次に塩酸（35%) 2 1 (it'を徐々に滴下し、 500 ccの水で'洗浄後、常圧で蒸溜を行ない沸点 1 1 0でのへキサプルォロネオペンチルアルコール 60 が得られた（収率 60 %) o このものは無色の針状結晶であった。同定は F— NMRスぺクトルおよび，H— NMRスぺクトルによって行った。なお、測定には核磁気共鳴スぺクトロメータ一（日 *電子㈱製 F X— 1 00型）を使用した。 c

CF_S CCH₂ OH

t I t

a CH_S d

个

b

¹⁵ F-NMR (C F₃ COOH'基準）

H-NMR (TMS基準）

実施例 2

5 0 Omfiのガラス製フラスコ中に実施例 : Lで得たへキサフルォロネオペンチルアルコール 1 5 0 g (0. 76 5 m ο «δ ) 、メタァクリル漦 7 3 g ( 0* S 5 m 0 J2 ) および t 一プチルカテコール 1 gを入れ、 70〜8 CTCに加熱し、次いで 50 gの五酸化二リンを 2時間要して添加した。この場合温度を 80〜 90 に維持した。添加終了後、さらに 3時間 80〜 90でに保持 H b tし、反応を完結させた。反応混合物を 30 OffliSの水で洗浄,し、得られたへキサフル才ロネオペンチルメタアタリレートを 1 SnittHgの滅圧下で蒸溜した, 沸点 55で、 G Cの純度 99, 9%。同定は〗H— NM R—スぺクトル、 ¹⁹ F— NM cR Hd Ai—スぺタトル、 ^1S C—

2

NMR—スぺクトル（全て溶媒：アセトン— d_s ) によゥて行った 0 式； a c f

i

H CH₃ CF₃

I I

c-c-co-o C-CH₃

I 个

で表される化合物について、次の化学的変位（ 5) 及び結合定数（ J ) が測定された。 ¹H— NMR (TMS基準）

(注） s ：シングレツト d： Gダブレツト m：マノレチブレツト F -NMR (CF_S COOH基準）抵磁場を +

¹³ C一 NMR

C

TMS標準

実施例 3

温度計、滴下ロート、撹拌瘵、還流冷却器を備えた

2 0 0 DI2のガラス製 4つ口フラスコに、へキサフルォロネオペンチルアルコール 58, S 3 gr (0. 3 m o ) 、トリェチルァミン 3 0* 3 6 g ( 0. 3 m 0 J2 ) 及びクロロホルム 5 0 gをいれた。次に水冷しながら 1 0で以下で 2—フルォロアクリル酸フルオラィド 3 0 , 3 7

( 0. 3 3 m 0 ? ) を徐々に滴下し、滴下終了後室温で 3 0分間撹拌後した。次いで 5 %炭酸水素ナトリウム水溶液、純水の順で洗浄し、エバポレートしてクロ口ホルムを除去し、へキサフルォ口ネオペンチルァクリレートを得た。得量 6 7* 1 7 gで収率は 7 6. 7 %であった。さらに tーブチルカテコールを重合禁止剤として o. 1 g加え、減圧蒸溜を行い精製した。沸点は 55〜56 でノ20とであった。同定は — NMRスぺクトル、 ¹⁹ F— NMR H Hb c a†*, f I—スぺクトル、 C一 NMR—スベタトル (全て溶媒：アセトン一 d_s ) によって行った。

iH-NMR (TMS基準）

No. δ (p p m)

a 5. 72

b 5. 44

c 4. 54

d 1. 47

F-NMR (C F₃ COOH基準）低磁場を +

¹⁹ C-NMR

F

I

H F CF_{3 r}

I

A→C=C-CO-0-CH₂ 一 C一 CH₃

I t t † E

H B C D CF3

个

F α 6 (p p m)

A. 103. 9

B 153. 1

C 159. 4

D 62. 4

E 51. 3

F 125， 0

G 12. 5

実施例 4

50 Ουώのガラス製フラスコ内に滅圧蒸溜によって精製したへキサフルォロネオペンチルメタァクリート 1,00'部、 η— ドデシルメル力.プ夕ン 0. 05部、重合開始剤、 2, 2' ーァゾイソプチロニトリル 025 部を混合溶解した後、脱気と窒素置換とを繰り返して密封した。

次いで 70でに維持された反応槽で 16時間重合させた。童合終了後、得られた重合物中にァセトン 300 g を人れ、溶解させ、その溶液を 5 ·βのメタノール中に注ぎ込む。沈濺する重合体を液体から分離し、そして

100での温度で 10時閽弒圧乾燥し 96， 2 gの重合体を得た（収率 96%) ₀ 重合体の分子量は MEKで 35ででの ( n ] は 0. 596であった。ポリマーの同定を元素分析と核磁気共鳴スぺクトルにより行った。元素分析は C 40. 9、 H 3, 8、 F 43 2 ⁰ 1 2. 1 %であうた。また核磁気共鳴スペクトルは下記の通りであった。

^H-NMR (TMS基準〉

F-N R (CF₃ COOH基準）低磁場を +

6 (p p m)

e 十 6. 4 ほ C— NMR c

CKs

T

s

0

実施例 5 50 Οιώのガラス製フラスコ内に滅圧蒸溜によって精製したへキサブルォロネオペンチルーな —フルォロァ々リレート 100部、 η— ドデシルメルカプタン 0, 025部、 2, 2' —ァゾビスイソプチロニトリル 1. 0部および重合溶媒詐酸ェチル 233部を混合溶解した後、脱気と窒素置換とを緣り返して密封した。次いで 5 CTCに維持された反応槽で 18時間重合させ

C

た。重合終了後、 2得られたポリマー溶液を 5 J2のメタノール中に注ぎ込む。沈饞する重合体を液 *から分離し、そして 100での温度で 10時間減圧乾燥し 93 gの重合体を得た（収率 93%) 。重合俸の分子量は ME Kで 35ででの〔？？〕は 0, 423であった。ポリマーの同定を元素分析と核磁気共鳴スぺクトルにより行った。元素析は C 35, 8%、. H 2. 696、 F 49. 6%、 0 11, 9%であった。また核磁気共鳴スぺクトルは下記の通りであった。

d F €

一 C一 CF₃ c

I i

CO— 0— CH₂ C一 CH₃

t

b CF₃

t

e¹ — NMR TMS基

TMS標準

実施例 6

50 OffijSのガラス製フラスコ内に減圧蒸溜によって精製したへキサプルォロネオペンチルメタァクリレート

90部、メチルメタアタリレート 1 0部、 n ドデシルメルカブタン 0, 1部、 2, 2 ' ーァゾビスイソプチ口二トリル 0* 0 25部を混合溶解し、実施例 1と同様の操作で重合を行い、 S. 5 gの重合体を得た（収率

98* 5%) 。

重合体の分子量は M E Kで 3 5ででの〔〕は

0. 4 94であった。またポリマーの同定を元素分析と核磁気共鳴スぺクトルにより行った。

元素分析は C 42* % H 4. 2 %

F 38. 9 %、 0 14, 1 %であった。核磁気共鳴スぺクトルは下記の通りであった f a e CH₃ 一 CH₂— C c CH₂ 一 C - H b I

3 CF₃ COOCHs †

CO— 0— CH₂ — C一 CH₃ g f I t

c CF₃ d

t

h

¹H - NMR TMS基準

F— NMR CF_S COOH基準低磁場を +

Να δ (p pm)

h + 6. 6 is C-NMR

c K

C H3

TMS標準

実施例 7

50 Οϋώのガラス製フラスコ内に減圧蒸溜によって精 89/05287 製したへキサフルォ口ネオペンチルー —フルォロアクリレート 9 0部、メチルーなーフルォロアクリレート 1 0部、 η— ドデシメルカブタン 1 , 0部、 2, 2' ーァゾビスイソプチロニトリル 0. 1部を混合溶解し、 •実施例 1と同様の操作（但し、ここでの重合温度は 5 0 でである）で重会を行い、 9 S. 3 gの重合体を得た (収率 98， 3%〉。

重合体の分子量は ME Kで 3 52 での〔〕は

0, 6 2 1であつた。

元素分析は C 36. 8 5%. H 2, 8%、

F 4 6. 5%、 0 1 3, 8%であった。

梭磁気共鳴スぺクトルは下記の通りであった。

h

a F

一 CHク一 C 3

C

NMR TMS基準 c

2

磁場を +

C一 NMR

F H F _T

1 I

C CH₂ 一 C一

、^B CF₃ COOCHg 个个 J

CO— 0— 一 CH₃

f 、G

c

F₃

t

F TM S標準

比较例 1

へキサフルォロネオペンチルメタクリレートにかえて

2 , 2 , 3 , 3—テトラフルォロプロピルメタタリレートを用いた以外は、実施例 4と同様にして比較例 1のポリマーを調製した。

比較例 2

へキサフルォロネオペンチルメタクリレートにかえてバーフルォロ t 一プチルメタクリレートを用いた以外は, 実施例 4と同様にして比较例 2のポリマ一を謂製した。試験例 1

実施例 4〜 7の本発明のポリマーについて" F記特性を調べた結杲を第 1表に示す。なお、物性値の測定法は次の方法による。

(ァ）ガラス転移温度（T _g)

パーキンエルマ社製 D S C Π型示差走査熱量計を用い、 2 0 /分の昇温: i§度で吸熱が始まる温度を測定した。

(ィ）分解温度（Τ η )

島津製作所社製 D T G - 30型示差走査熱量計を用い、 i 0でノ分の昇温速度で重量弒少の始まる温度を測定した。

(ゥ）—瘤折率（n _D)

ァタゴ光学機器製作所製アッベ式屈折計を用い 2 5でで測定した。

(ェ）メルトインデックス（M l )

島津製作所製高化式フローテスタ一を用い、本発明の含フッ素ポリマーを内径 9. 5fflinのシリンダ一に装填し、温度 230でで 5分閬保った後、 7kgのピストン荷重下に内径 2, 1龍、長さ 8 のオリフィスを違して押し出し、 1 0分間に押し出されて出てきた該ポリマーのダラム数を M 3 [ とした。

(ォ）透光性（T_m)

；材にポリメチルメタクリレート、鞘材に'本発明の含フッ素ポリマーを用い、直径 30 ,0 ^ m (鞘^厚さ 1 5 ^ m) 、長さ 5 00咖の光学織維を 230 で複合紡糸し、铵長 6 5 0〜ら 8 0 amの光で透過度を測定した。

(力〉可撓性（F b )

本発明の含フッ素ポリマーを前記 M I と同檨の方法で直径 l の織維とし、室温で鎘丸棒にまきつけ、該織錐' にひびの入る鑌丸棒半径を調べた。

試験例 2

実施例 4で得られた童合体を 8 5での雰囲気下に 1 0 0時間放置しても透光率の減少はなかった。

試験例 3

実施例 6の材料を酢酸ェチルに 5重量％になるまで溶解し、この溶液を 250 imのドクタプレードで

PMMA扳（三菱レーヨンアタリペット材）に塗布した。

80でで 1時間乾燥し試料板を調製した。この時の膜厚はであゥた。評価試験法として以下のことを行つた。

(ァ）反射率

5度正反射測定装置の付いた UVスペクトル（日立 II 3200) により 400〜 70 On の平均反射率を測定した ₀

対擦傷性

太平理化製ラビングラスターにテトロン布とり付け荷重 500 gで 1000回こすた。

(ゥ）密着性

ごばん目一セロテープ剝離試験を J I S K 5400に準拠して行った。

その結果、反射率は 2, 0%以下であり、対擦傷性は良好であた。

またこの時のコーティング MMA板の 400〜700 nilでの透光率は 85%であった。またこの時の密着性

(ゴバン g) は 100/100であった。 80でで同様の実験を行ったが、物性に変化はなかった。

比較試験例 1 比較例 1のポリマーの软化温度は 72 、分解温度は

265でと低く、屈折率は 1. 42であった。

上記ボリマーを鞲材、ポリメチルメタクリレートを芯材として光学織維を 250でで紡糸したところ、鞘材部に発泡が認められた。钫糸温度を 210でとしたところ、成形ダイが目づまりし紡糸できなかった。紡糸温度が 230でではじめて実施例と同様の光学鐵維が紡糸でき、透光性は 76%であった。しかしながら、このものを 85での雰囲気下に 100時閻放置した後の透光性は 52%に低下していた。

また、比較例 1で調製したポリマーを試験例 3と同様に PMMA扳に塗布し、試料扳を調製した。

この反射率は 2. 5%と低く、封擦傷性は 50回でキズが多数発生して不良であった。

80でで同様の実験をおこなったところ、対擦傷性は 2回でキズが多数発生した。

比较試験例 2

比例 2のポリマーの F bを測定したところ 3 以上であり、使用にたえないものであった。

また、比較例 2で謂製したポリマーを 1, 1, 2— トリクロロ一 2 , 2— トリフルォロェタンに 5%まで溶解し、 PMMA扳上に試験例 3と同様に 8 mの塗膜を得た。この密着性を調ぺたところ、 1回で 0ノ 100であつた。

Claims

請求の範囲

式：

CF₃

CH_S で示きれるへキサフル才口ネオペンチルアルコール。

一式：

X

CH₂ =C

CF₃

COOCHz CCH_S

CF₃

(式中、 Xは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はメチル基を表す。）

で示されるへキサフル才ロネオペンチル（メタ）ァクリレート 0

Xが、フッ素原子又はメチル基である請求の範囲第

2項に記載のァクリレート

一般式： 9/05287 35 '

X

CF₃

で示される構造単位を有する含フッ素ポリマー。.

5 一般式（ I ) で示される構造単位 10〜 99. 9雷量％と一般式：

CH₂ -c - en)

COOR²

(式中、 R¹ は水素原子、フッ素原子又はメチル基を, R² は水素原子、低級アルキル基又はフルォロアルキル基を表す。）

で示される構造単位 0. 1〜 90重量％を有する請求の範囲第 5項記載の含フッ索ポリマー。

一般式： X

1

— CH₂ 一 Cト

CF₃ (I)

COOCH₂ CCH₃

I

CF₃

(式中、 R】は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はメチル基を表す。）

で示される構造単位を有する含フッ素ポリマーからなる光学材料。

7 —般式（ I ) で示きれる構造単位 10〜 99, 9重量％と一般式：

→CH₂ 一 ~ (D)

COOR²

(式中、は水素原子、フッ素原子又はメル基を、 R² は水素原子、低級アルキル基又はフルォロアルキル基を表す。）

で示される構造単位 0, 1〜90重量％を有する含フッ素ポリマーからなる請求の範囲第 6·項記弒の光学材料。